JPS5867720A - 4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホンに基くポリカ−ボネ−トの分離法 - Google Patents

4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホンに基くポリカ−ボネ−トの分離法

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JPS5867720A
JPS5867720A JP57165137A JP16513782A JPS5867720A JP S5867720 A JPS5867720 A JP S5867720A JP 57165137 A JP57165137 A JP 57165137A JP 16513782 A JP16513782 A JP 16513782A JP S5867720 A JPS5867720 A JP S5867720A
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レオ・モルビツツア−
デイ−タ−・ノイライ
ボルフガング・コ−ネン
ベルナ−・ノウフエルトネ
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Bayer AG
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    • C08G64/22General preparatory processes using carbonyl halides
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ハ、用いるビスフェノール璽α◆冨RI    
     R1 し式中、R1、=H又はc、〜C,アルキル、Xは単結
合、C゛、〜C,アルキレン、C1−(、’、フルキリ
デン、シクロヘキシレン、シクロへギシリデン、S、0
又はCOであり、 Rは水素、tM素、臭素又は炭素数l〜3のアルキル置
換基であり及び 常は0、l又は2である〕 の全量に基ういて、18〜4sモル%、好ましくd20
〜40モル%の式1 aのスルホン−ビスフェノールを
相界面法によって82〜55モル%、好ましくは78〜
60モル%の弐■のビスフェノールと共に反応させるこ
とによる、式1a+11 α [式中、R1、x%R及びmは上述と11yl義である
] のボリカーメネートネート構造単位の合計に対して18
〜45モル%、好ましくは22〜40モル%の式[aの
構造単位を含有するポリカーボネートの分離法において
、弐■のビスフェノールを、水性アルカリ相及び不活性
な有機相の相混合物中におけるホスダン化反応によって
ホスダン化してクロルぎ酸エステル末端基を含むオリゴ
カーボネートを生成;ぜ枢、次いでこのオリゴカーメネ
ートヲアミン触媒を用いて弐昌、αのスルホン−ビスフ
ェノールと1゛合させ、1縮合が完結した後に相を公知
の分離装置で分離し、弔機相を常法に従い、洗浄液が中
性になるまで燐酸及び水で洗浄し、そして更に相を分離
さぞた後に、スルホン−ビスフェノールポリカーボネー
トを沈殿又は有機溶媒の蒸発によって分離することを%
畝とする上記のポリカーボネートの分離法に関する。
スルホンを官有するポリカーボネートの製造は長い間公
知であった(#照、米国特許第八271゜367号[/
#169iS)、独国特許公報第1.007.996号
L Us  169.5 ]、来山%軒第3.271,
364号、米国特許@3312.659号、米国特許第
3.312.662号及び米国特許第八419、526
号しLaA  IG、078])。
この方法が相界面重縮合法を含む場合、スルホン−ビス
フェノールが15モル%以上含t レルと、相の分離や
シ遺されるスルホンボリカータネートの分離に関して問
題が生ずる。これは、スルホン−ビスフェノールのビス
クロルキ酸エステルヲ相界面法で用いる場合にも真実で
ある(参照、例えば米国特許第八271.387号)。
従って過去では無水の工程に鋸屑することが必要であま
たしく参照、米国特許第3,31λ659号又は米国特
許第八31L662号)或いは取高約15モル%にすぎ
ないスルホン−ビスフェノールを共縮合させることしか
可能でなかった(参照、例えは米国%ff第亀9lλ6
88号[LaA  1八804]及びヨーロツ/#刊行
特許第547号しMo  1741−A’?))。
米国特許第a97415!7号又は仏国特許第4235
.150号において、オリゴカーがネートのクロルぎ酸
エステルを特別な灰石条件下にジフェノールと反応させ
るという相界面法によってポリカーボネートを製造する
連続法が記述されている。
ビス−(4−ヒドロキシフェール)スルホンは、オリゴ
カーボネートの形成いはノフェノール成分の形で、いく
つかのジフェノールの1つとして反応に関与することが
できる。スルホン−ビスフェノールを含む具体例の完全
な例は米国%軒第&974126号に包含されていない
鴬くことに、゛この特許には不発明によるスルホン−ビ
スフェノールポリカーlネートの容易なる分離というオ
IJ点が、スルホン−ビスフェノールではないが式璽の
ビスフェノールを予じめオリゴカー、l(ネートに転化
した時にだけ得られるということが示されている。この
選択的な挙動の発見は米国特許第八974.1u号の教
示に関してm<べきであった。
本発明によるスルホンコポリカーf*−トU、石油類に
対する際だった耐性、高熱歪温度及び良好な機械性が特
色である。
スルホン単位の18〜45モル%という範囲は、スルホ
ン基に由来する有利な効果、例えば高熱歪温M及びベト
ロールに関する良好な応力亀裂特性が明白に観察され、
−刃高スルホン含量で明らかになる欠点、例えば加水分
解に対する不安定性及び貧弱な流動特性が致命的影響と
ならないことで、工業的な範囲値である。
この方法で製造されるコポリカーがネートは、10.0
00〜200,000、好ましくはgaoo。
〜5aoooの平均の重電平均分子IItMwt有し且
つ構造式 〔式中、X%R%R1及び扉は式!又はIGに対するも
のと同義であり、b:aの比は約45:l〜1.2:1
であることができ、及び nは5〜16Gの値であってよい〕 を有する。
成績のコポリカー、lネートの製造に適当な弐厘のビス
フェノールは、4.4−ジビドロキシジフェニル、ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−C。
〜Cロアルカン、ビス−(4−ヒドロキシ7エ二ル]−
シクロヘキサン、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィド、エーテル及ヒケトン、及び核がC1〜C′、
アルキル化及び/又は臭素イヒ及び/又は堪素化された
化合物である。
これらの及び更に適当なビスフェノールId、例えば米
国特許@へ〇1!&365号、第4999゜835号、
第&148,1711号、第2.991.273号、第
3271,367号及び第4999.846号、独国公
開特軒第1.5 ? O,? 03号、第λ06亀05
0号、第4063,052号、第4211,956号及
び第2,211,957号、仏国特許第1,5at、5
11kt、及び単行本、H,Sahnmll@sChe
mistry  and  Physics  of 
Po1y−carbosates、  Intaraa
igneapsbliaにsrs、  New Yor
k、  1964年、に記述されている。
式1の好適なビスフェノールの例は、2.2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−ノロ/ダン、2.2−ビス
−(3,5−ツメチル−4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロパン、2.2−ビス−(3,5−ジクロル−4−ヒド
ロキシフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(3,5
−シブロム−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、1
.l−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキ
サン、1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プ
ロパン及びl、1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)
−ブタンである。
2.2−11”スー(4−ヒドロキシフェニル)−プロ
パンは非常KFJに好適である。過当な及び同時ニ好適
な成層αのスルホン−ビスフェノールは、ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)スルホンでめる。
更にポリカーボネートは、少量の、好ましくは0.05
〜20モル%(用いたVフェノールに対して)の三官能
性及び三官能性以上の化合物、特に3つ又はそれ以上の
フェノール性ヒドロキシル基を有するものを混入するこ
とによって枝分れさせることができる。
この種のポリカーボネートは、例えば独国公開特許第1
.570.533号、第1.59亀762号、第2.1
1a974号、第3113,347号及び第4500、
092号、英国特許第1.07へ821号及び米国特許
第3.544514号に記述されている。
相界面法の条件は、例えば上述のSch%allの者書
から公知である。好適な溶媒はクロルベンゼン及びt’
H,C12及びこれらの混合物である。
適当なアミン触媒は、通常のアミン触媒例えばトリエチ
ルアミン又はN−メチルビペリシンである;同様に分子
鎖停止剤は通常の停止剤例えば(アルキル&U/又はハ
ロゲノ)フェノールである。及応温度、時間及び圧力、
更に反応媒体の塩基性は常法′C調節することができる
。使用するホスダンの量は好ましくは菖+aaの合計モ
ル尚り1.2〜約2モルである。
最初に製造すべきビスフェノール墓のクロルぎ酸エステ
ルは、櫓造単位1を、平均1合度1〜8で有し、公知の
方法で製造することができる。
相分離は、ビスフェノール−Aホモポリカーがネートの
製造に1史用される同業者には技術的に熟知の通常の分
離装置で行なわれる。
スルホンービスフェノールボリヵーボ*−1)沈殿によ
る分離は、石油エーテル、アルカン、メタノール又はア
セトンを沈殿剤として用いることによって行なわれる。
溶媒の蒸発は公知の通気式押出機を用いることによって
常法で行なうことができる。
従ってポリカーlネートを含む有機相の製造、精製及び
処理は何ら問題を呈さない。スルホン−ビスフェノール
ポリカー&*−トは、B状物、シート又は糸として分離
し且つ得ることができる。
本コポリカーボネートは、高耐熱性及び特にベトロール
に関する良好な応力亀裂特性が必要とされる成形品とし
て使用される。
通常のように、すべての種類の添加剤は、製造工程中又
は後に、本発明によるポリカーがネートに添加すること
ができる。この関連で言及しりる例は、染料、顔料、離
型剤、水蒸気、熱及びUVの作用に対する安定剤、潤滑
剤、充填剤、例えば粉末のガラス、石英品、グラファイ
ト、硫化モリブデン、粉末金槁、高融点プラスチックの
粉末、例えばポリテトラフルオルエチレン粉末、天然繊
維 例えば木綿、シザル麻及びアスベスト、及び更にい
ろいろな種類のガラス繊維、金楓フイラメン卑ト、及び
ポリカーがネートの溶融物としての拘留時間の間に安定
であり且つポリカーlネートを認めうるだけ害さない繊
維、である。
ポリカーボネート成形組成物の耐ベトロール性は、適当
な成形物、例えば標準の小さい試験棒を、ある張力によ
って予じめ決められた張力下に試験媒体に貯蔵すること
によって試験される。用いる試1w媒体は、容量比1:
lのトルエン/イソオクタンの混合物である。0.6%
の張力下の試験片を試験媒体中VC1時間貯蔵する。次
いで生成物を、破断、亀裂の生成及び変色に関して肉眼
で評価する。
下記の実施?11は本発明を史に評価に例示することを
意図している。示す相対溶液粘iは、塩化メチレン中に
おいて、25℃及び5M/lの濃度で測定したものであ
る。
比較例 l 相界面におけるジヨイントホスダン化(3oi%tph
6mganat=on)4cよるビX7エ) −kA&
び414’−ジヒドロキシジフェニレンスルホン(モル
比80:20)の枝分れポリカーlネートのシ令。
ビスフェノール、41554ゆ、4.4′−ジヒドロキ
シジフェニレンスルホン0.701に#、イサチン−ビ
ス−クレゾール24.21?、フェノールを窒素でフラ
ッシュした。次いでpH値を45%NaOHの添加によ
って12〜13に維持しながら、ホスガフ222時を窒
瀞下に1時間に亘って添加した。トリエチルアミン&5
yを添加した後、混合物を更に15分間攪拌した。
生成物を分離機中へ導入したが、乳化液の生成のために
不完全な相分離しか起こらなかつ九。有機相をできる限
り分離し、燐酸で酸性にし、蒸留水で数回洗浄した。酸
性又は中性媒体中においてでさえ、不完全な相分離しか
起こらなかった。この方法で得られたポリカーがネート
を押出し、粒状化した。生成物の収量及び性質を表に示
す。
比較例 2 相界面におけるジヨイントホスダン化によるビスフェノ
ールA及び4.4′−ソヒドロキシヅフ工二ルスルホン
(モル比6s:5s)(D枝分t’L$リカーボネート
の製造。
実施例1と同体の方法に従い、ビスフェノール、4L0
78ゆ、4,4′−ジヒドロキシジフェニレンスルホン
1.226−及びp−tert−ブチルフェノール45
.2.uを使用した。この場合にも、アルカリ性、酸性
又は中性媒体中においてかなりの分離問題が存在した。
生成物の収量及び性質を表に示す。
実施例 3 4.4′−ヅヒPロキシジフェニルスルホンの、予じめ
ホスゲン化し たビスフェノールAへの付加によるビスフェノ−kA及
び4.4’−−/ヒドロキシジフェニルスルホン(モル
比80:20)の枝分れコポリカーブネートの製造。
ビスフェノールA2.5s4#、イサチン−ビス−クレ
ゾール24.2ゆ、フェノール4L2&、l−リエチル
ベンソルアンモニウムクロライド31.9914&%水
酸化ナトリウム溶液2.4時、水27.7!及び塩化メ
チレン36.2時をt o o goI&に導入した。
この釜を窒素でフラッシュした。次いでpH値を、45
%水性NaOHの添加によって12に保ちながら、ホス
27表4ゆを1.5時間に亘ってM漏下に尋人した。4
5%水酸化ナトリウム俗媒i、 o a sり及び水1
2−11中4.4′−ジヒドロキシジフェニレンスルホ
ン0.701Mの浴数を、ポンプで添加した。トリエチ
ルアiンa5yo添加後、混合物を更に15分間攪拌し
た。この生成物を分離機中へ導入した。相は問題なく分
離し、乳化液の生成は起こらなかった。有機相を分離し
、燐酸で酸性にし、蒸留水で数回洗浄した。
酸性又は中性媒体中においてでさえ、完全な、また間鴨
のない相分離が起こった。この方法で製造し九ポリカー
ボネートを押出し、粒状化した。収量及び性′j111
を表に示す。
実施?11 4 4.4′−ジヒドロキシジフェニレンスルホンのビスフ
ェノールAビス−クロルホーメトへの付加によるビスフ
ェノールA及び4.41− ジヒドロキシジフェニレン
スルホン(モル比65:35)の枝分れのないコポリカ
ーブネートの製造。
ビスフェノールAビス−クロルホーメート2755ゆ、
増化メチレン3L4に9、水19.31及びp−tar
t−ブチルフェノール3&7jを100jの釜へ導入し
た。この釜を窒素で7ラツシユした。次いで45%水酸
化ナトリウム溶液0.887ユ及ヒ水10.41中ヅヒ
ドロキシジフエニレンスルホン1.051 Kl?の溶
液をポンプで導入した。トリエチルアミン?、 3 j
/を添加した後、混合物を史に15分間攪拌した1、こ
の方法では、45%水酸化ナトリウム溶液のみ加によっ
てpH値を12に維持し九。
この生成物を分離機中へ導入した。相は間−なく分離し
、乳化液の生成は起こらなかった。有機相を分離し、a
mで酸性にし、蒸w京で数回洗浄し友。酸性又は中性媒
体中においてでさえ、完全な、また間鴨のない相分離が
起こった。この方法で製造したポリカーざネートを押出
し、粒状化した。収量及び性質を表に示す。
米国%計第龜974.126号による比較例:予じめホ
スゲン化したビスフェノールA及U4.4′−ジヒドロ
キシジフェニレンスルホンへのビスフェノールA20モ
ル都の付加によるビスフェノールA及び4.4′−ジヒ
ドロキシジフェニレンスルホン(モル比80:20)の
枝分れしたポリカーボネートの製造。
実施例3と同様にして、ビスフェノールA1.918時
及び4.4′−ジヒドロキジノフェニレンスルホン0.
701に4Fを予じめホスダン化シタ。この子しめホス
ゲン化した混合物にビスフェノールA O,639ゆ及
び水12.1jの#液を添加した。
この場合にも、アルカリ性、酸性又は中性媒体中におけ
るかなりの分離問題が存在し、4.4’−ジヒドロキシ
ソフェニレンスルホンのポリカーボネートへの尋人が不
児全であった。生成物の収量及び性質を表に示す。
第1頁の続き 0発 明 者 ベルナー・ノウフエルトネドイツ連邦共
和国デー4150クレ ーフェルト・シャイブラー・シ ュトラーセ95

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 用いるビスフェノールlα十璽 厘α 厘 [式中、R1=H又はC1〜C,アルキル、Xは単結合
    、C1〜C,アルキレン、C3−C1了ルキリデン、シ
    クロヘキシレン、シクロヘキシリデン、Sl 0又はC
    Oであり、 Rは水素、塩素、臭素又は炭素数1〜3のアルキル置換
    基であり及び 愼は0、l又は2である〕 の全量に基づいて、18〜45モル%の式1(19スル
    ホン−ビスフェノールを相界面法によって82〜55モ
    ル%の式璽のビスフェノールと共に反応させることによ
    る、式Iα+I l α のポリカーがネート構造単位の合計に対して18〜45
    モル%の式!αの構造単位を含有する。it IJカー
    lネートの分離法において、弐■のビスフェノールを、
    水性アルカリ相及び不活性な有機相の相混合物中におけ
    るホスダン化反広によってホスダン化して、クロルぎ酸
    エステル末端基を含むオリゴカーlネートを生成させ、
    次いでこのオリゴカーlネートをアミン触媒を用いて弐
    1aのスルホン−ビスフェノールとの重縮合反応に付し
    、重縮合が完結した後に相を公知の分離装置で分離し、
    有機相を常法に従い洗浄液が中性になるまで燐酸及び水
    で洗浄し、そして更に相を分離させた故に、スルホン−
    ビスフェノール承りカーサネ−トラ沈殿又は有機溶媒の
    蒸発によって分離することを特徴とする上記のポリカー
    ぎネートの分離法。 符E”85B−(i7720(2)
JP57165137A 1981-09-25 1982-09-24 4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホンに基くポリカ−ボネ−トの分離法 Pending JPS5867720A (ja)

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