JPS5865227A - Ｃ↓４炭化水素留分よりの高純度ブテン−１及びブテン−２の分離精製方法 - Google Patents
Ｃ↓４炭化水素留分よりの高純度ブテン−１及びブテン−２の分離精製方法Info
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- JPS5865227A JPS5865227A JP16307381A JP16307381A JPS5865227A JP S5865227 A JPS5865227 A JP S5865227A JP 16307381 A JP16307381 A JP 16307381A JP 16307381 A JP16307381 A JP 16307381A JP S5865227 A JPS5865227 A JP S5865227A
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- pipe
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＣ４炭化水素留分より高純度ブテン−１及びブ
テン−２の分離精製方法に関する。
テン−２の分離精製方法に関する。
高純度ブテン−１は、ポリエチレンの重合におけるコモ
ノマーとして使用されるがこの用途に使用されるブテン
−１は第１表に例示される如く高純度であることが要求
されている。
ノマーとして使用されるがこの用途に使用されるブテン
−１は第１表に例示される如く高純度であることが要求
されている。
また、ブテン−１はそれ自身を重合してポリブテン−１
を得ることもできる。このポリマーは、耐高温ストレス
クラツキング性、耐高温クリープ性、耐環境ストレスク
ラツキング性にすぐれ暖房用等の熱水パイプの材料とし
て好適である。
を得ることもできる。このポリマーは、耐高温ストレス
クラツキング性、耐高温クリープ性、耐環境ストレスク
ラツキング性にすぐれ暖房用等の熱水パイプの材料とし
て好適である。
第１表 ポリエチレンコモノマー用ブテン−１の組成ブ
テン−１９９０重量重量上 ブテンー２ ０．５〃 以下イソブチン
０．５１ ルーブタン ０．５〃 １．６−ブタジェン １５０ ＰＰＭ以下アセ
チレン類 １５ ｌ 水 １０ ・・ブテン−２
は無水マレイン酸の良好な原料であるが、捷だブテン−
２から酸化モリブデン捷たけ酸化ビスマスを主成分とす
る触媒を使用（７た接触酸化脱水素反応によりブタジェ
ンが合成できる。
テン−１９９０重量重量上 ブテンー２ ０．５〃 以下イソブチン
０．５１ ルーブタン ０．５〃 １．６−ブタジェン １５０ ＰＰＭ以下アセ
チレン類 １５ ｌ 水 １０ ・・ブテン−２
は無水マレイン酸の良好な原料であるが、捷だブテン−
２から酸化モリブデン捷たけ酸化ビスマスを主成分とす
る触媒を使用（７た接触酸化脱水素反応によりブタジェ
ンが合成できる。
例えば、米国ベトロテックス社のり、 Ｍ、 Ｗｅｌｃ
ｈ氏の発表している文献（Ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ Ｐ
ｒｏｃｅｓｓｉｎｇブタジェンへの選択率はシス−ブテ
ン−２が最も大きく、トランス−ブテン−２がこれにつ
ぐという。しかるに通常の蒸留法によって０４炭化水素
留分を分離するのは、第２表に例示される如くルーブタ
ンとトランスープデンー２の沸点が近接しているので経
済的に非常に不利である。前記文献によるとブテン−２
中のルーブタンは１４％以下の混入量ならば特に選択率
の低下等の慾影響を与えないが未反応のまま反応生成物
ｒｃ流出してくるので大量の混入は反応装置の無益な大
型化や生成１．３−ブタジェン分離装置の非能率化をま
ねくので経済的でない。したがって反応に先立ってルー
ブタンを除いておくことが好ましく特に５重蓄襲以下に
するのが好ましい。
ｈ氏の発表している文献（Ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ Ｐ
ｒｏｃｅｓｓｉｎｇブタジェンへの選択率はシス−ブテ
ン−２が最も大きく、トランス−ブテン−２がこれにつ
ぐという。しかるに通常の蒸留法によって０４炭化水素
留分を分離するのは、第２表に例示される如くルーブタ
ンとトランスープデンー２の沸点が近接しているので経
済的に非常に不利である。前記文献によるとブテン−２
中のルーブタンは１４％以下の混入量ならば特に選択率
の低下等の慾影響を与えないが未反応のまま反応生成物
ｒｃ流出してくるので大量の混入は反応装置の無益な大
型化や生成１．３−ブタジェン分離装置の非能率化をま
ねくので経済的でない。したがって反応に先立ってルー
ブタンを除いておくことが好ましく特に５重蓄襲以下に
するのが好ましい。
本発明の目的は前記の用途に使用可能な高純度でかつ有
害な不純物を実質的に含んでいないブテン−１及びブテ
ン−２を大量かつ低価格で提供することにある。
害な不純物を実質的に含んでいないブテン−１及びブテ
ン−２を大量かつ低価格で提供することにある。
本発明の対象となるＣ４炭化水素留分とはナフサのスチ
ーム分解装置から副生ずるＣ４炭化水素カラ１．５−ブ
タジェンおよびインブチレンを除去したもの、あるいは
、石油接触分解装置から副生ずるＣ６炭化水素からイソ
ブチレンを除去し７たものが相当するがこれらに限定さ
れない。これらＣ４炭化水素から１．３−ブタジェンの
除去は通常ＯＡＡ法（酢酸銅アンモニウム法）による抽
出あるいは抽出用極性溶剤（例えば、ジメチルホルムア
ミド。
ーム分解装置から副生ずるＣ４炭化水素カラ１．５−ブ
タジェンおよびインブチレンを除去したもの、あるいは
、石油接触分解装置から副生ずるＣ６炭化水素からイソ
ブチレンを除去し７たものが相当するがこれらに限定さ
れない。これらＣ４炭化水素から１．３−ブタジェンの
除去は通常ＯＡＡ法（酢酸銅アンモニウム法）による抽
出あるいは抽出用極性溶剤（例えば、ジメチルホルムア
ミド。
ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン。
アセトニトリル）を使用した抽出蒸留法によって除去で
きる。一方、イソブチレンの除去は古くからおこなわれ
ている硫酸による抽出法あるいは近年開発された脂肪族
アルコールによるエテール化法によシ除去できる。例え
ば、伊国ＡＳＳＯＲＮ工社 ５− （Ａ３５Ｏ８ＩＡＴ１：ＯＮ ｆｏｒ ５ＯＩＢＮＴＩ
）ｒＩｏ ＲＦｉＳｆｆｉＲＯＨｏｆ ＩＮ］： ＧＲ
ＯＵＰ ＣＯＭＰＡＮよりＥ＋ ）のＡ、Ｑｌｅｍｅｎ
ｔｉ氏の発表している文献（Ｆ（ｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ
Ｐｒｏｃθｓｓｉｎｇ、 Ｄｅｃ、 １９７９年１０９
〜１１５頁）によると、Ｃ１炭化水累留分とメタノール
の混合物を酸触媒（例えば、スルホン酸基を持つイオン
又換レジン）と接触させることによりイソブチレンはほ
ぼ完全にエーテル化されＣ１炭化水素中に残存する濃度
は０．１％以下になるという。
きる。一方、イソブチレンの除去は古くからおこなわれ
ている硫酸による抽出法あるいは近年開発された脂肪族
アルコールによるエテール化法によシ除去できる。例え
ば、伊国ＡＳＳＯＲＮ工社 ５− （Ａ３５Ｏ８ＩＡＴ１：ＯＮ ｆｏｒ ５ＯＩＢＮＴＩ
）ｒＩｏ ＲＦｉＳｆｆｉＲＯＨｏｆ ＩＮ］： ＧＲ
ＯＵＰ ＣＯＭＰＡＮよりＥ＋ ）のＡ、Ｑｌｅｍｅｎ
ｔｉ氏の発表している文献（Ｆ（ｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ
Ｐｒｏｃθｓｓｉｎｇ、 Ｄｅｃ、 １９７９年１０９
〜１１５頁）によると、Ｃ１炭化水累留分とメタノール
の混合物を酸触媒（例えば、スルホン酸基を持つイオン
又換レジン）と接触させることによりイソブチレンはほ
ぼ完全にエーテル化されＣ１炭化水素中に残存する濃度
は０．１％以下になるという。
第２表に１．６−ブタジェンおよびイソブチレンを除去
したＣ４炭化水素留分の組成を例示する。
したＣ４炭化水素留分の組成を例示する。
６−
第２表 ０４炭化水素留分の組成およびジメチルホルム
アミドに対する溶解度 本発明者らは第２表に例示されたものと同様な組成のＣ
２炭化水素留分を極性溶剤特にジメチルホルムアミド（
ＤＭＦ） を使用］−だ抽出蒸留工程と通常の蒸留工程
をそれぞれ２回組合せたプロセスを採用して処理をおこ
なうことにより、ポリエチレン重合のコモノマーまたは
ポリブテン−１重合用モノマーに供する際有害になるジ
オレフィン系、アセチレン系炭化水素類、水等を実質的
に含有しないブテン−１を取得し、同時に酸化脱水素に
よる１、３−ブタジェンの原料に適したシスーブテン−
２％）ランス−ブテン−２の混合物を取得する分離法を
見出した。
アミドに対する溶解度 本発明者らは第２表に例示されたものと同様な組成のＣ
２炭化水素留分を極性溶剤特にジメチルホルムアミド（
ＤＭＦ） を使用］−だ抽出蒸留工程と通常の蒸留工程
をそれぞれ２回組合せたプロセスを採用して処理をおこ
なうことにより、ポリエチレン重合のコモノマーまたは
ポリブテン−１重合用モノマーに供する際有害になるジ
オレフィン系、アセチレン系炭化水素類、水等を実質的
に含有しないブテン−１を取得し、同時に酸化脱水素に
よる１、３−ブタジェンの原料に適したシスーブテン−
２％）ランス−ブテン−２の混合物を取得する分離法を
見出した。
本発明方法に従えば、Ｃ４炭化水素′４分はまず工程Ａ
で極性溶剤を使用した抽出蒸留によりイソブタン、ルー
ブタンを除き、ブテン−１、シス−ブテン−２、トラン
ス−ブテン−２および不純物のジオレフィン系、アセチ
レン系炭化水素類の混合物を得る。次に、■程Ｂで蒸留
により塔頂よりブテン−１及びジオレフィン系、アセチ
レン系炭化水素を主成分とする留分を、塔底よりシス−
ブテン−２、トランス−ブテン−２の混合物を得る。
で極性溶剤を使用した抽出蒸留によりイソブタン、ルー
ブタンを除き、ブテン−１、シス−ブテン−２、トラン
ス−ブテン−２および不純物のジオレフィン系、アセチ
レン系炭化水素類の混合物を得る。次に、■程Ｂで蒸留
により塔頂よりブテン−１及びジオレフィン系、アセチ
レン系炭化水素を主成分とする留分を、塔底よりシス−
ブテン−２、トランス−ブテン−２の混合物を得る。
次の工程Ｃで第二段階の抽出蒸留により前工程からのブ
テン−１中に同伴されたジオレフィン系、アセチレン系
炭化水素類を除去する。最後のＤ工程では、ブテン−１
中に微量に残存する水を蒸留によって除去する。この除
水はブテン−１と最低共沸物をつくるため塔頂より留出
し精製ブテン−１は塔底よう取得される。
テン−１中に同伴されたジオレフィン系、アセチレン系
炭化水素類を除去する。最後のＤ工程では、ブテン−１
中に微量に残存する水を蒸留によって除去する。この除
水はブテン−１と最低共沸物をつくるため塔頂より留出
し精製ブテン−１は塔底よう取得される。
本発明において使用する極性溶剤はＮ−アルキル置換低
級脂肪酸アミド、フルフラール、Ｎ−メチルピロリドン
、ホルミルモルホリン、またはアセトニトリル等、Ｃ２
炭化水素留分から、１，６−ブタジェンの抽出蒸留用溶
剤として用いられている極性溶剤が使用できる。
級脂肪酸アミド、フルフラール、Ｎ−メチルピロリドン
、ホルミルモルホリン、またはアセトニトリル等、Ｃ２
炭化水素留分から、１，６−ブタジェンの抽出蒸留用溶
剤として用いられている極性溶剤が使用できる。
前記極性溶剤中Ｎ−アルキルｉｔ換低級脂肪酸アミドと
してはジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ジメナルアセトアミド等が含まれるがこれらはいづれも
無水状態で使用すれば優れた溶解度、比揮発度、適度の
沸点を持っていて、本発明の目的に適する好ましい溶剤
である。第６表 ９− には各種極性溶剤中におけるＣ４炭化水素の比揮発度を
示す１、これらのうちジエチルホルムアミドは沸点が適
当であり比揮発度が優れているので最も好−ましい。
してはジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ジメナルアセトアミド等が含まれるがこれらはいづれも
無水状態で使用すれば優れた溶解度、比揮発度、適度の
沸点を持っていて、本発明の目的に適する好ましい溶剤
である。第６表 ９− には各種極性溶剤中におけるＣ４炭化水素の比揮発度を
示す１、これらのうちジエチルホルムアミドは沸点が適
当であり比揮発度が優れているので最も好−ましい。
これら極性溶剤は単独で使用できるのみならず２種以上
混合して使用してもよいし、さらにはジオレフィン系、
アセチレン系炭化水素類の重合を防止する重合防止剤、
さらに酸化防止剤、消泡剤を併用することもできる。重
合防屯剤としては重合防止および／または連鎖移動作用
を持つものであれば各種のものを使用でき特に、ｔ−プ
ナルカテコール、硫黄、即硝酸ソーダ、フルフラール、
ベンツアルデヒド、芳香族ニトロ化合物等を単独あるい
は二押以上組合せて使用することができる。
混合して使用してもよいし、さらにはジオレフィン系、
アセチレン系炭化水素類の重合を防止する重合防止剤、
さらに酸化防止剤、消泡剤を併用することもできる。重
合防屯剤としては重合防止および／または連鎖移動作用
を持つものであれば各種のものを使用でき特に、ｔ−プ
ナルカテコール、硫黄、即硝酸ソーダ、フルフラール、
ベンツアルデヒド、芳香族ニトロ化合物等を単独あるい
は二押以上組合せて使用することができる。
（
本発明の好ましい実姉態様を図面により以下に示す。
ブテン−１、ブテン−２を含むＣ４炭化水累留分は１０
０段を有する第一抽出蒸留塔Ａ−ｌの中段に供給され極
性浴剤は塔頂より数段下ＶＣ管２を経て供給されて第一
段階の抽出蒸留が行われる。
０段を有する第一抽出蒸留塔Ａ−ｌの中段に供給され極
性浴剤は塔頂より数段下ＶＣ管２を経て供給されて第一
段階の抽出蒸留が行われる。
塔頂からはインブタン、ルーブタンが管３を経て流出す
る。塔内は１〜１５気圧、塔底温度は１００〜１８０Ｃ
で操作することができる。塔底からはブテン−１、ブテ
ン−２、ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類が溶
剤と共に取出され管４を経て第一放散塔Ａ−２の頂部に
供給されここでＣ４炭化水素と極性溶剤とに分離される
。塔内は通常１〜２気圧、塔底温度はその圧力における
浴剤の沸点で操作することができる。塔頂からはブテン
−１、ブテン−２、ジオレフィン系、アセチレン系炭化
水素類が管５を経て取出され圧縮機６で昇圧後管７を経
て第一蒸留塔Ｂに供給される。塔底かりは極性浴剤のみ
が取りだされ管８を経て塔Ａ−１に循環される。
る。塔内は１〜１５気圧、塔底温度は１００〜１８０Ｃ
で操作することができる。塔底からはブテン−１、ブテ
ン−２、ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類が溶
剤と共に取出され管４を経て第一放散塔Ａ−２の頂部に
供給されここでＣ４炭化水素と極性溶剤とに分離される
。塔内は通常１〜２気圧、塔底温度はその圧力における
浴剤の沸点で操作することができる。塔頂からはブテン
−１、ブテン−２、ジオレフィン系、アセチレン系炭化
水素類が管５を経て取出され圧縮機６で昇圧後管７を経
て第一蒸留塔Ｂに供給される。塔底かりは極性浴剤のみ
が取りだされ管８を経て塔Ａ−１に循環される。
１００段を有する第一蒸留塔Ｂけ塔内は１〜１５気圧、
塔内温度はその圧力における沸点で操作することができ
る。塔頂かしけブテン−１、ジオレフィン系、アセチレ
ン系炭化水素類が管９を経て取出され第二抽出蒸留塔Ｃ
−＋の中段に供給される０塔底からはシスおよびトラン
ス−ブテン−２が少量のジオレフィン系、アセチレン系
炭化水素類と共に管１０を経て取ｄ」される１、１００
段を有する第二抽出蒸留ｐ５：に １の塔頂より数段
下に極性溶剤が管１１を経て供給され、中段に供給され
たブテン−１と接触して第二段階の抽出蒸留が行われる
。塔内は１〜１５気圧、塔底温度は１００〜１６０Ｃで
操作することができる。
塔内温度はその圧力における沸点で操作することができ
る。塔頂かしけブテン−１、ジオレフィン系、アセチレ
ン系炭化水素類が管９を経て取出され第二抽出蒸留塔Ｃ
−＋の中段に供給される０塔底からはシスおよびトラン
ス−ブテン−２が少量のジオレフィン系、アセチレン系
炭化水素類と共に管１０を経て取ｄ」される１、１００
段を有する第二抽出蒸留ｐ５：に １の塔頂より数段
下に極性溶剤が管１１を経て供給され、中段に供給され
たブテン−１と接触して第二段階の抽出蒸留が行われる
。塔内は１〜１５気圧、塔底温度は１００〜１６０Ｃで
操作することができる。
塔頂かｂは高純度ブテン−１が管１２を経て取出され第
二蒸留塔りの中段に供給される６、塔底がら、 はジオ
レフィン系、アセチレン系炭化水素類が溶剤と共Ｖこ取
出され管１６を経て第二放散塔（Ｊ−２の頂部に供給さ
九ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類と溶剤に分
離される。塔内はＪＩＬ常１〜２気圧、塔底温度はその
圧力における沸点でＩ・；／−作できる。塔頂からはジ
オレフィン系、アセチレン系炭化水素類が管１４を経て
排出され、塔底からは溶剤のみが取りだされ管１５を経
て塔ａ−ｉに循環される、 ３０段を封する第二蒸留塔りの塔内は１〜１５気圧、各
内温度はその圧力における？ノド点で操作することがで
きる。塔頂かｂは、ごく少量の水が管１６を経て取出さ
れ、塔底からは製品の高純度ブデンー１が管１７を経て
取出される、 実施例 図面に記載した装置を使用して以下の実験を行った。
二蒸留塔りの中段に供給される６、塔底がら、 はジオ
レフィン系、アセチレン系炭化水素類が溶剤と共Ｖこ取
出され管１６を経て第二放散塔（Ｊ−２の頂部に供給さ
九ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類と溶剤に分
離される。塔内はＪＩＬ常１〜２気圧、塔底温度はその
圧力における沸点でＩ・；／−作できる。塔頂からはジ
オレフィン系、アセチレン系炭化水素類が管１４を経て
排出され、塔底からは溶剤のみが取りだされ管１５を経
て塔ａ−ｉに循環される、 ３０段を封する第二蒸留塔りの塔内は１〜１５気圧、各
内温度はその圧力における？ノド点で操作することがで
きる。塔頂かｂは、ごく少量の水が管１６を経て取出さ
れ、塔底からは製品の高純度ブデンー１が管１７を経て
取出される、 実施例 図面に記載した装置を使用して以下の実験を行った。
１００段の第一抽出蒸留塔Ａ−ｌの中段に、第４表に掲
げる組成の原料を２２．５ ｋｇ／Ｔ（で供給し、極性
溶剤２２５ ｋｙ／Ｈ１還流液２２ｋｙ／Ｈで抽出蒸留
をおこなった。塔頂圧５．５ ｋ７ ／Ｌｘ”ゲージ塔
頂温度４５Ｃ塔底温度１５９Ｃで操作した結果、第一放
散塔Ａ−２塔頂（工程Ａ出口）より１６．４馳／Ｈのガ
スを得た。ブタン類はほとんど除去されていた。このガ
スを１００段の第一蒸留塔Ｂの中段に圧入し、還流比９
、塔頂圧３．３に／？・Ｉｎ”ゲージ、塔頂温度３７Ｃ
で蒸留をおこなった結果、塔底かしはブテン−２混合物
７．６５ ｋｇ／Ｈを得た。これらの組成を第４表に示
した。塔頂からのブテン−１を主成分とするガスを全ｔ
ｔ１００攻の第二抽出蒸留塔Ｃ−１の中段に送入し、極
性溶剤６０ｋｙ／Ｈ，還流液８に９／Ｈ７第二段階の抽
出蒸留をおこなった。
げる組成の原料を２２．５ ｋｇ／Ｔ（で供給し、極性
溶剤２２５ ｋｙ／Ｈ１還流液２２ｋｙ／Ｈで抽出蒸留
をおこなった。塔頂圧５．５ ｋ７ ／Ｌｘ”ゲージ塔
頂温度４５Ｃ塔底温度１５９Ｃで操作した結果、第一放
散塔Ａ−２塔頂（工程Ａ出口）より１６．４馳／Ｈのガ
スを得た。ブタン類はほとんど除去されていた。このガ
スを１００段の第一蒸留塔Ｂの中段に圧入し、還流比９
、塔頂圧３．３に／？・Ｉｎ”ゲージ、塔頂温度３７Ｃ
で蒸留をおこなった結果、塔底かしはブテン−２混合物
７．６５ ｋｇ／Ｈを得た。これらの組成を第４表に示
した。塔頂からのブテン−１を主成分とするガスを全ｔ
ｔ１００攻の第二抽出蒸留塔Ｃ−１の中段に送入し、極
性溶剤６０ｋｙ／Ｈ，還流液８に９／Ｈ７第二段階の抽
出蒸留をおこなった。
塔頂圧３．３１ｖ ／を二ｍ’ゲージ、塔頂温度３７（
、’、塔底温度１４５Ｃで操作した結果、この塔頂から
ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類を実質的に含
まないブテン−１を得た。このプデンー１全請を、３０
段の第二蒸留塔りの中段に送入して水分１４− を留去した。塔頂圧５．５ ｋｙ／ｒ：ｍ’ ゲージ
、塔頂温度３７Ｇで操作した結果、水分を実質的に含普
ないブテン−１７，６５ｋ＆／Ｈを塔底より得た１、こ
れらの組成を第４表に示した。なお極性溶剤は、無水の
ジメナルホルムアミドにニトロベンゼン０．１重量％５
亜硝酸ソ一ダ００５軍Ｊｉｋ％を混合したものを使用し
た。
、’、塔底温度１４５Ｃで操作した結果、この塔頂から
ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素類を実質的に含
まないブテン−１を得た。このプデンー１全請を、３０
段の第二蒸留塔りの中段に送入して水分１４− を留去した。塔頂圧５．５ ｋｙ／ｒ：ｍ’ ゲージ
、塔頂温度３７Ｇで操作した結果、水分を実質的に含普
ないブテン−１７，６５ｋ＆／Ｈを塔底より得た１、こ
れらの組成を第４表に示した。なお極性溶剤は、無水の
ジメナルホルムアミドにニトロベンゼン０．１重量％５
亜硝酸ソ一ダ００５軍Ｊｉｋ％を混合したものを使用し
た。
図面は本発明の分＃ｌ梢製方法を示すフロー図である。
ここで、Ａ−ｉは第一抽出蒸留塔、３−２は第一放散塔
、Ｂは第一蒸留塔、Ｃ−１は第二抽出蒸留塔、〔ｊ−２
は第二放散塔、Ｄは第二蒸留塔をそれぞれ表わす１、 特許用１人 Ｈ本ゼオン株式会社 １５− １６５−
、Ｂは第一蒸留塔、Ｃ−１は第二抽出蒸留塔、〔ｊ−２
は第二放散塔、Ｄは第二蒸留塔をそれぞれ表わす１、 特許用１人 Ｈ本ゼオン株式会社 １５− １６５−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 少なくともイソブタン、ｎ−ブタン、ブテン−１
、ブテン−２および少なくとも一種のジオレフィン系あ
るいはアセチレン系炭化水素を含むＣ１炭化水素留分よ
りのブテン−２および実質的にジオレフィン系、アセチ
レン系炭化水素を含１ないブテン−１の分離方法であっ
て、１１） 工程Ａ（第一抽出蒸留工程）として、前
記Ｃ４炭化水素留分を笛−抽出蒸留塔において極性溶剤
にて処理しイソブタン、ルーブタンを主成分とするラフ
ィネートと、ブテン−１、ブテン−２およびジオレフィ
ン系、アセチレン系炭化水素を主成分とするエクストラ
クトとに分離し、 （２） 工程Ｂ（第−蒸留工程）として、前記工程
１− Ａからのエクストラクトを第一蒸留塔に送入し頂部にブ
テン−１及びジオレフィン系、アセチレン系炭化水素を
主成分とする留分な、底部ＶＣ精製されたブテン−２を
得、 （３） 工程Ｃ（第二抽出蒸留工程）として、前記工
程Ｂのブテン−１及びジオレフィン系、アセチレン系炭
化水素を主成分とする留分を第二抽出蒸留塔に送入し極
性溶剤にて処理しブテン−１をラネネートとしてイ４、
ジオレフィン系、アセチレン系炭化水素を主成分とする
エクストラクトとに分離し、 （４） 工程Ｄ（第二蒸留工程）として、前記工程Ｃ
のブテン−１を第二蒸留塔に送入し頂部より微量の水を
除き底部より精製されたブテン−１を得ることを特徴と
する晶純度ブテン−１及びブデンー２の分離精製方法。 ２、 第−及び第二抽出蒸留工程における極性浴剤とし
て、Ｎ−アルキル置換低級脂肪酸アξドを使用する特許
請求の範囲第１項記載の方法３、
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16307381A JPS5865227A (ja) | 1981-10-13 | 1981-10-13 | Ｃ↓４炭化水素留分よりの高純度ブテン−１及びブテン−２の分離精製方法 |
| US06/420,871 US4515661A (en) | 1981-10-13 | 1982-09-21 | Process for separating highly pure butene-1 and butene-2 |
| HU823148A HU190416B (en) | 1981-10-13 | 1982-09-30 | Process for the separation of 1-butene and 2-butene of high purity |
| MX194735A MX166728B (es) | 1981-10-13 | 1982-10-11 | Procedimiento para separar buten-1 y buten-2-altamente puros |
| ES516412A ES516412A0 (es) | 1981-10-13 | 1982-10-11 | "un procedimiento para separar buteno-2 de alta pureza y buteno-1 de alta pureza sustancialmente exentos de hidrocarburos diolefinicos y acetilenicos a partir de una fraccion hidrocarbonada de c4". |
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| JP (1) | JPS5865227A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010532317A (ja) * | 2007-04-25 | 2010-10-07 | コリア インスティチュート オブ エナジー リサーチ | Ｃ４オレフィン／パラフィン混合気体から高純度ブテン−１を生成する方法 |
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-
1981
- 1981-10-13 JP JP16307381A patent/JPS5865227A/ja active Granted
Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| JP2010532317A (ja) * | 2007-04-25 | 2010-10-07 | コリア インスティチュート オブ エナジー リサーチ | Ｃ４オレフィン／パラフィン混合気体から高純度ブテン−１を生成する方法 |
| US8431762B2 (en) | 2007-04-25 | 2013-04-30 | Korea Institute Of Energy Research | Production of high purity butene-1 from C4 olefins/paraffins mixed gas |
| CN102992933A (zh) * | 2012-10-13 | 2013-03-27 | 东华工程科技股份有限公司 | 一种混合碳四的分离方法 |
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Also Published As
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|---|---|
| JPS6353975B2 (ja) | 1988-10-26 |
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