JPS5865175A - 呼吸目的用の圧縮空気の処理装置 - Google Patents

呼吸目的用の圧縮空気の処理装置

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JPS5865175A
JPS5865175A JP57157381A JP15738182A JPS5865175A JP S5865175 A JPS5865175 A JP S5865175A JP 57157381 A JP57157381 A JP 57157381A JP 15738182 A JP15738182 A JP 15738182A JP S5865175 A JPS5865175 A JP S5865175A
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JP
Japan
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air
filter
bed
heater
supply
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JP57157381A
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コリン・テイ−・ビリエツト
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DOMUNITSUKU HANTAA FUIRUTAAZU
DOMUNITSUKU HANTAA FUIRUTAAZU Ltd
Original Assignee
DOMUNITSUKU HANTAA FUIRUTAAZU
DOMUNITSUKU HANTAA FUIRUTAAZU Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5865175A publication Critical patent/JPS5865175A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D50/00Combinations of methods or devices for separating particles from gases or vapours
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86Catalytic processes
    • B01D53/864Removing carbon monoxide or hydrocarbons

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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、呼数−的に適せしめるための供給圧縮空気の
処理装置に関するものである。
呼吸目的に適する空気の供給は、供給空気に対する純度
の高基準を定めた規格にょシ厳密に制御される。これら
の規格に合格すること社極めて回置なことであり、41
に!6通俟装を困難な場所に使用する必要がある場合な
らびにコンプレッサの空気取入れ口の起こシうる設置ミ
ス、偶発的な環境汚染、コンプレッサの作動不良、また
は取入れ空気における通常より高い汚染物レベルをも九
らすようなその他あらゆる現象を考慮した場合、特に困
難である。
現存する一過技術は、油と水のエアロゾル、油蒸気、臭
気および塵埃の除去を有効に処理することができ、これ
ら汚染物に関する純度の充分なレベルを容易に達成する
ことができる。
しかしながら、呼吸目的用に供給する前に空気から有害
ガスを鹸去するという別の要件があり、−酸化炭素の除
去に関して特別の問題が生ずる。
予備濾過された空気の流れからの一酸化炭素ガスの除去
は、化学吸着および触媒を介する酸化により公知方法で
達成することができ、この場合主成分としての二酸化マ
ンガンをたとえば銅、鉄、コ・ンルトまたは銀のような
金属の酸化物と混合【てなるホゾカライド型の触媒を使
用する。この攬の触媒は空気の流れ中の水または水蒸気
により容易に力をなくし、濡れたすなわち湿潤空気流に
よ〉急速に無効果Klれる。
この性質の触媒床から有用な可使寿命を得るには、通常
、−60℃未満の露点まで空気を予備乾燥することが必
要とされることが見出された。
圧縮大気空気は、遊離水を除去するために予備−過し九
後でさえt着量レベルの水蒸気を含有するヒとが避けら
れない、し九がって、現在の慣例線、空気を大臘の乾燥
剤床に通して空気を触媒床に通す前にこれを乾燥するこ
とである。呼吸用空気供給系に、ゲージ圧16パールま
での空気圧力にてII&通かつ供給され、必要とされる
大容積の流れ社大気空気中に存在する比較的多量の水蒸
気と組会わ1って、乾燥剤装置に大きな圧力低下をもた
らすと共に、非効率的かつ嵩張る傾向を生ぜしめること
を意味する。
さらに、乾燥剤床中で処理し、かつ触媒床を通した後、
空気唸一般に乾燥し過ぎて快適な呼吸に適さなくな〉、
を大圧力低下して大気圧まで戻ると一般に冷たくなシ過
ぎて快適な呼吸に適さなくなる。それ故、空気は一般に
再加湿されかつ加温された後、供給される。
本発明の目的は、従来の方式における上記の欠点を克服
し、かつ小型の一酸化炭素除去装置を提供することであ
り、この装置はたとえば環状メインシスアムからの予備
−過空気の処理に単独で使用することができ、或いはコ
ンプレツナからljL接流出する汚染圧縮空気の供給を
受入れる完全−過装置の一部としても使用することがで
きる。
本発明の第1の局面によれば、−酸化炭素を詮有するが
実質的に遊離水を含有せずかつ快適な呼吸に光分な相対
湿度を欠如した供給圧縮空気を呼吸目的用に適するよう
にする処理装置は、前記供給を受入れる入口を備えた圧
力容器と、ヒータと、湿sq気を何ら乾燥処理すること
なくヒータ上に指向させ次いで圧力容器内の粒状触媒物
質の床に通し、前記触媒物質が空気中の一酸化炭素を二
酸化炭素まで酸化させるのに有効である手段と、触媒床
め内Stたすぐ′F流、に位置する温度センサと、この
センナに呼応して空気が床中を流過する際100℃以上
の平均床温度に維持するための制御手段と、触媒床から
の空気を冷却するか、さらに処理することなく呼吸目的
用に供給する手段とから構成される。
本発明の装置において、−酸化炭素の酸化触媒は、触媒
上を通る空気温度を触媒の平均床温度が100℃以上に
なるような数値まで上昇させることによシ、保膜される
ことが判かるであろう。触媒の前方で流入湿潤空気をこ
のように加熱するととは、空気の相対湿度にかいて局部
的相変化をもたらし、かくして触媒マトリックス中の空
隙部による水分子の捕捉を減少させまたは除する。接触
作用は真の触媒の作用であシ、したがって触部O理論的
効率は使用?際阻害されない。
本発明は多くの利点を与える。乾燥剤床の必要性がなく
、或いはたとえば従来技術で使用されるような複雑な再
生装置を必要としない。流入空気における相変化は触媒
床の領域に局在し、相対湿度は床から流出する空気が冷
えると共に増大する。
しまたがって、ここでも従来方式と対照的に、呼吸前に
空気會再加湿させるためb処理を何ら必要としない。触
媒床の下流の配管系を適当に構成することにより、空気
を快適な呼吸温Ikまで冷却することができ、何らエネ
ルギ供給を行なうことなく。
すなわち他の外部的加熱手段を用いずに、その温度で供
給することができる。触媒床中の空気の流過は空気中に
同伴された生存微生物に灯して迷路を与え、床の高温度
はこの種の微生物の死滅を生ぜしめ、したがって下流は
実質的に無薗的純枠さとなる。
前記したように、不装置は実質的に遊離水を含まない供
給空気を処理するのに適する。もし遊鴫水が存在すnば
、ヒータは使用時間内に触媒の無力化を避けるのに充分
な遊離水および水蒸気の相変化を行なうことができない
と思われる。水を含まない供給圧縮空気は、多くの方法
で装置に供給することができ、子の最も一般的なものは
中央コンプレッサおよびe過装置からの環状メインとす
ることができる。しかしながら、コンプレッサからの直
接の汚染圧縮空気の供給を受入れかつ呼吸用に適する空
気を供給しうる完全1過装置の一部として、−酸化炭素
の除去装gI1.を組込むことが望ましい。
したがって、本発明の他の局面によれば、コンプレッサ
から直接受入れた水5J・汚染された供給圧縮空気を呼
吸目的に適するようにするための処理装置は、多音の液
体と大型粒状物質とを除去するための第1フイルタと、
二酸化炭素および酸性煙霧を除去するためのソーダライ
ム吸着床からなる第2フイルタと、油と水のエアロゾル
および次微子的粒状物質を除去するための凝集用第3フ
イルタと、空気を順次に第1%第2および第3フイルタ
に指向させて第3フイルタから実質的に遊離水を含有し
ないr過供給空気を供給する手段と、前記供給を受入れ
る入口を備え九圧力容器と、ヒータと、湿潤空気の供給
を何ら乾燥処理することなくヒータ上に指向させ1次い
で圧力容器内の粒状触媒物質の床に通し、#記触媒物質
が空気中の一酸化縦素を二酸化炭素に酸化させるのに有
効である手段と、触媒床の内部またはすぐ下流に位置す
る温度センナと、このセンナに呼応して床中を9気が流
過する際平均床温度を100℃以上に維持するようと一
層を作動させる制御手段と、触媒床からの空気を冷却す
るがさらに4611する仁となく呼数目的用に供給する
手段とを備える。
次いでフィルタと圧力容器と祉、コンプレッサに接続す
るための入口と、呼吸用空気の供給系に接続するための
出口とを備えた共通のキャビネットに内蔵させることが
できる。さらに、このキャビネットは炭化水素蒸気と電
気とを除去する九めの活性炭吸着床からなるjg4フィ
ルタを内蔵することがてき、供給空気蝶第4フィルタか
らヒータへ移送され、次いで何ら’g G> Ir(処
理することなく触媒床へ移送される。
上記したように、温度セッサは触媒床の内部、好ましく
は直ぐ下流に設けられ、触媒床を流過する空気の温度が
この床を100℃以上の平均温度に維持するよう加熱手
段の制御を行なう、すなわち、センサは、予備設電され
た鮫M3温度を検出した時熱供給を減少させ、かっ予偏
設電された最低温度を検出した時増大させるよう、加熱
手段の制御を行なう。実用上、センサti100’cに
設定されかつプラス・マイナス1’Cで一層する制御サ
ーミスタとすることができる。もちろん、100℃を若
干越えた温度設電も可能でわル、上記した以上の開閉範
囲も可能であるが、センサは常にセンナ温度が95℃ま
で低下し、好ましくは98℃まで低下すればヒータが付
勢されるようにすべ自である。
触媒中を流過する前Og!気の加熱は、多くの方法のい
ずれかで行なうことができる。しかしながら、好ましく
は、圧力容器を入口と出口とを備えるハウジングから構
成し、と−タをハウジング内にその入口に隣接して設け
、粒状触媒材料を含有する容@ (canist@r 
)を、この容器中への入口がヒータの直ぐ下流に位置し
かつ容器からの出口がハウジングからの出口と連通する
ような位置において、ハウジング内に着脱1在に保持す
ることが好ましい、かくして、と−タと触媒床とは、単
一の小蓋装置にまとめられる。
望ましくは、ヒータは少なくとも1つの加熱エレメント
を備え、このエレメントはハウジング内にその入口に隣
接して着脱自在に設けられ、入口から触媒床すで空気通
路にわたって延在する。加熱エレメントについては、1
01’C〜110℃の温度で電気抵抗の急速な増加を示
すような半導体セラミック材料を使用するのが特に好適
である。この種の加熱エレメントを前記のように位置さ
せたセンサと組合せて使用すれば、漬秀な温度制御をも
たらすと共に、電力消費の経01性が得られる。
本発明を一層良好に理解しうるよう、添付図面を参照し
て、コンプレッサから直接受入れる湿潤汚染供給圧縮空
気の処理装@を実施例につき以下詳#1に説明する。
第1図を参照すnば、この図Vま出口lから呼吸用の空
気を供給するのに適する装置を示し、この装置にはコン
プレッサからゲージ圧16パールもしくはそれ以上まで
の圧力にて直接受入れられる湿潤汚染圧縮空気が入口2
から供給される。この装置はケーシング3を備え、そこ
に中央マニホルド4を存在させ、このマニ4、ルドは適
当な空気流路(破線で示す)を組込みかつ複数のフィル
タ装置5〜9を封止的に着脱自在に取付けるための取何
部を備える。空気は矢印によシ一般的に示し次順序でこ
れら装置中を順次に流過する。
第1フイルタ5は任意適当な構造の汎用目的のフィルタ
であり、これは流入空気から多量の液体と寸法1ミクロ
ンまでの大型粒子物質を除去することができる。このフ
ィルタを第1図においては旧情状フィルタエレメントを
備えるように図示Eまたが、ここで空気線エレメントの
円飼から外軸へ半径方向に流れ、かつフィルタによシ集
められた液体は接続部10と配管11とによシ収集ビン
12中へ排出される。
次いで、フィルタ5から供給されるフィルタ空気はマニ
ホルドを流過してフィルタ6中へ流入L7、このフィル
タ6ti最高充填密tニオで充填された粒状ソーダライ
ムの床を含有しかつ粒子運動を生ぜ、1 しめないチ崎からなシ、かくして空気流との最大接触を
達成する。フィルタ5Viソーダライム床を通常目詰ル
させるような多量の粒状物および油と水の汚染物を除去
するが、水A気と次黴子的エアロゾル物質七をソーダラ
イム床中へ流過させ、かくして二酸化炭素と空気中tc
存在しうる酸性煙霧とを吸着するように作動させること
ができる。
空気はフィルタ6からマニ4、ルドt−流過シテフィル
タ7へ流入し、このフィルタ7は任意適当な構造の高効
率の#2集用フィルタであって、油/水のエアロゾルお
よび次微子的レベル、典型的には0.01 ミクロンま
での粒状物質を除去するのに有効である。こむでも、フ
ィルタエレメントを円11状として示したが、ここで空
気はエレメントの内側から外側へ半径方向に流れ、フィ
ルタ5におケルとfij様罠フィルタにょシ集められた
液体嬬接続部13と配管14とによ)収集ビン12中へ
排出することができる。
空気線フィルタ7からマニホルドを流過してフィルタ8
中へ流入L、このフィルタ8はできるだけ大きな表面積
を与えるべく微粒化された形態の活性炭の床を含み、空
気からの炭化水素蒸気と奥きとの吸着を行なうことがで
きる。床の渫さは、空気に活性炭との閏の最大接触時間
を与えるよう設計される。
(以下余白) フィルタ6および8も慣用の構造を有することができる
。1つの便利な形態において、これら2つのフィルタに
おける吸着床は減圧型チューブにより互に結合され、こ
のチューブは樹脂により結合されかつ熱処理されて高強
度と剛性とを与えると共にこの管中を流過する空気流に
対し低い抵抗性を示すよう熱処理されたランダム配向の
ミクロガラス繊維よりなっている。このチューブ自身を
好壕しくは透明なボリヵーボ不一 トから成形されたハ
ウジング中に設置し、このハウジングを超音波シールし
てフィルタエレメントの一体性を確保スル。予備V過工
程を構成する4つのフィルタ5〜8のそれぞれの設計社
どの個々のフィルタをも未−過空気がバイパスしないよ
うなものであり。
かくして下流における空気の汚朱を回避する。各フィル
タ社ネジ係合によってマニホールドに取付けられ、フィ
ルタ入口および出口とマニホールドにおける流路との間
に封止りングを設ける。
フィルタ8から供給される予備い遇された空気は1次い
で一酸化炭素(およびもし存在すれ#!NOxガス)の
除去を行なうよう構成され九フィルタ9中へ流入し、こ
のフィルタ9を第2図1こさらに詳細に示す。
このフィルタは圧力容器ノ・ウジング211−111え
これはたとえばブールZニウムまたは適当な高分子材料
とすることができる。ノーウジングの下端部は外ネジ部
22を備え、これによりノ・ウジングをマニホールド4
へ螺着することができる。この部分の一部にも内ネジ部
(符号23)を設け、入口部材24をこの部分に螺入す
る。封止リング25および26はマニホールドと連携し
て、マニホールドを介し空気入口通路27と連通ずる入
口部24を封止すると共に、マニホールドにおける出口
通路29に対するフィルタからの出口部28を封止する
。圧力容器ノ・ウジング21の上部は、キャップネジに
よりハウジングに固定されかつガスケット33によりシ
ールされた端部キャップ32により閉鎖される。
緊密充填された粒状ホブカライド型触媒を含有スルフィ
ルタ容器は、端部キャラ−230に!?)ノ’ウノング
内に着脱自在に保持されるO 容器31はフランジ32を備え、この7ランノはガスケ
ット33と共に端部キャップ30の軸線方向の表面とノ
・ウジング21との間に介装される。
この容器は空気人口端部に焼結に銅円板34を備えて流
入空気を均一に分散させると共に、触媒粒子が容器の底
部から流亡するのを防止する・iクロ繊維円板35を容
器の空気出口端部に設けて。
ここでも触媒粒子の流亡を防止するO 空気はこの円板を通して容器から流出し、端部キャップ
内のチャンバ36中へ流入し、そこからノーウジングの
出口2Bへ移動する。制御サーミスタ37をネジキャリ
ア3Bにより端部キャップに固定し、触媒材料の1αぐ
下流に位置するチャンバ36中に位置するようにする。
容器31の下方には、ノーウジング21の入口端部に符
号39で一般的に示したヒータを設ける。
このヒータは3つの加熱エレメント40からなり。
それぞれは円板状の形態であって人口24から容器31
に至る空気通路にわたって延在する。各円板には、はぼ
蜂巣状に六角形の穴部を形成する。
各円板はたとえば、チタン酸バリウムでドープさm− れ大中導体セラミツ〉材料から形成され1010〜11
0Gの温度にて電気抵抗の急速な増加を示すものである
。各円板の平滑表面を電極物質で被覆し、この電極物質
をこれら円板の対向表面の外周部において円板間に存在
する銅製のリング電極41と接触させる。これら円板と
電極とをシリコーンゴム取付は部42中ヘユニットとし
て刺入し、このシリコーン−/ム取付は部祉耐−性かつ
耐熱性であり、ハウジングの入口端部に嵌合される。
包封円板への電気リード43は /%ウジング21の側
壁部における圧力封止グツンド44を貫通する。
サーミスタ37を電気リード45により制御装置f、4
6へ接続し、これにはさしfCヒータ供給ケーブル43
および外部電源を接続する。制御装置は。
サーミスタに呼応し、てシステムの要求に応じ加熱エレ
メントに対する電力の供帽を制御する外部比例温度制御
回路を備える。加;肩・エレメントは平行に装置される
。各す0熱エレメントのセラミック材料は、開閉温度と
して知られた所定温度まで比較的低い電気抵抗の性質を
示すより選択され、この温度においてブロック抵抗値に
おける極めて急速な上昇が生ずる。かくして、ブロック
への電気供給を付勢すると高電流をもたしく1、その結
果ブロック自身が急、速にその開閉温1−蜆まで加熱し
、この温度にて抵抗が急速に増大し、ブロックへの供給
電力を減少させる。次いで、熱損失がブロックを冷却し
て平衡温度に到達させ、この平衡温度にてブロックへの
供給電力により発生した熱はブロックからの熱損失に等
しくなる。
ブロックとして選択される特定のセラギツク材料は、ブ
ロックの開閉温度が100C以上たとえば101C〜l
l0Cとなるように選択される。100Cに設定されか
つ通常プラス・マイナスlCで作動する制御サーミスタ
と共に使用すれば、これは極めて正確な加熱制御を与え
る。
使用に際し、圧縮空気の流れを装置中に確立し。
空気をフィルタ5〜8において予備濾過し、そこからフ
ィルタ9中に通す、ヒータ39への電気供給を開始し、
ヒータを急速に所要温度に達せしめ。
空気を加熱してフィルタ上に通す。次いで、空気は触媒
床を加熱し、この加熱は始動の際からサーミスタ31が
たとえば101Cのその作動最高温度に達するまで継続
する。この加熱操作の際、ヒータは空気流の変化および
I・ウジフグ中の熱損失に呼応するセンサの制御にした
がって、その操作を安定化し続ける。
空気の流量が相当に増大すれば、触媒床の冷却が起こる
。同様に、冷却は装置の周囲温度における低下で生ずる
こともある。サーミスタは床から流出する空気の温度を
監視し、これがたとえば99Cの最少値まで低下すると
、ヒータへの電流供給が付勢され、これは再び流入でと
気を加熱し始め℃センサの設定による安定条件に達する
。サーミスタと組合せた半導体セラミック加熱ニレメン
Fの使用は、平均床温度の極めて正確な制御を与える。
かくして、操作は100C:l:ICの温度に保九れた
触媒床で行なわれ、かくして触媒部位に付着して触媒の
力をなくするような遊離水分子の存在を回避する。かく
して、触媒の酸化効果は妨げられかい。かくして、フィ
ルタ9から流出する空気は一酸化炭素を含有せず、さら
にたとえ空気中に存在する生存微生物が高温度により全
て死滅されなかったとしても、実質上無菌的になる。フ
ィルタから流出する空気が冷却するにつれて、相対湿度
は増大し、空気中の温度の所望レベルをもたらす。
さらに、空気が装置から使用の個所まで供給されるにつ
れ、この空気は接続ラインを流れる際に徐徐に冷却し、
使用個所において比較的高い供給圧力から大気圧の範囲
への圧力減少につ政て膨張によりさらに冷却を受ける。
装置からの供給接続部は、使用個所において快適な呼吸
温度を確保するように容易に構成することができる。
本装着は多数の安全性の特徴を備えるので便利である。
装置からの出口Iは、望ましくは装置からの空気流を最
大レベルに制限するよう構成された絞りオリフィス47
を備える。これは、各フィルタエレメントを通過する空
気の通過時間が効果的−過を確保するに充分となるよう
、特に−al化炭素から二酸化炭素への充分な変換が起
こるよう設定される。ヒータへの電力が存在しない場合
は。
空気が装置中を流れないことが望ましい。したがつて、
マニホールドから流出する空気は、望普しくは空気ホー
ンに対する入口において常開ソレノイP制御弁に達する
。装置への電力供給はこの弁を閉鎖し、ホーン中の空気
の通過を防止するが、電力が存在しなければ弁が開b!
LL、t、たがって聴取しうる警告が発(られる。
上記半導体セラミック加熱エレメントの使用は。
空気の極めて急速な加熱をもたらし、したがって触媒床
をその操作温度まで急速に加熱する。明らかに、このこ
とは操作温度に達する紡の触媒の初期無力化を最少化さ
せ、かつ操作開始後できるだけ早く呼吸しうる空気が供
給芒れることを確保するので望ましい。
前記温度が8idJから短時間内に1001.’に到達
しなければ、誤差は生じうるので払゛5作を継続しては
ならない。したがって、制御装L46はタイミング回路
を備え、この回路は始動から所定時間仮に電力供給を遮
断すると共に、その時間内にセンサが100Cの温度に
達したことを示し走時のみ無効にされる。
図面に示した装置の特定形態、に関し、多くの変化をな
しうろことが了解されよう。たとえば、この装置は予備
濾過段階の任意の所要組合せを備えることができ、さら
に任意に選択された環境において容易に使用しうるよう
構成することもできる。
【図面の簡単な説明】
M1図は装置の略正面図。 tl/42図はこの装置内に組込まれる一酸化炭素の触
媒フィルタの拡大詳細図。 @3図は第2図のI−1線部分断面図である。 1・・・出 口、    2・・・入 口。 3・・・ケーシング、 4・・・マニホールド。 5、6.7.8.9・・・フィルタ装置。 IO・・・接続部。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  −酸化炭素を含有するが実質的に遊離水を含
    有せずかつ快適な呼吸に充分な相対湿度を欠如する供給
    圧縮空気を処理する装置において、繭記供給を受入れる
    入口を備えた圧力容器と、ヒータと、湿潤空気を何ら乾
    燥処理することなくヒータ上へ指向させ次いで圧力容器
    内の粒状触媒物質の床に通し、前記触媒物質が空気中の
    一酸化炭素を二酸化炭素に酸化させるのに有効であるよ
    うな手段と、触媒床の内部またはそのすぐ下流に設けた
    温度センサと、このセンサに呼応して床中を空気が通過
    する際平均床温度を100℃以上に維持するようヒータ
    を作動させる制御手段と、触媒床からの空気を冷却する
    がさらに処理せずに呼吸目的用に供′IiIす番手段と
    を備えることを特徴とする供給圧縮空気の処11腋置。
  2. (2)コンプレッサから直接受入れた水分汚染された供
    給圧縮空気を呼吸目的に適するようにするだめの処理装
    置において、多量の液体と大獄粒状物質とを除去するた
    めの第1フイルタと、二酸化炭素および酸性aisを除
    去する丸めのソーダライム吸着床からなる第2フイルタ
    と、油と水のエア四ゾルおよび次微子的粒状物質を除去
    すみ丸めの凝集用第3フイルタと、空気を順次に第1、
    第2および第3フイルタに指向させて第3フイルタから
    実質的に遊離水を含有しない濾過供給空気を供給する手
    段と、前記供給物を受入れゐ入口を備えた圧力SSと、
    ヒータと、供給温潤空気を何ら乾燥処理することなくヒ
    ータ上に指向させ次いで圧力容器内の粒状触媒物質の床
    に通し、前記触媒材料が空気中の一酸化炭素を二酸化炭
    素に酸化させるのに有効である手段と、触媒床の内部ま
    たはすぐに下流に位ばする温度センサと、このセンサに
    呼応して床中を空気が流過する際平均床温度を100℃
    以上に維持するようヒータを作動させる制御手段と、触
    媒床からの空気を冷却するが、さらに処理することなく
    呼吸目的用に供給する手段とを備えることを特徴とする
    水分汚染された供給圧M空気の処理装置。
  3. (3)第3フイルタから圧力容器に至る流路に@4フィ
    ルタを設け、この第4フイルタは炭化水素蒸気と臭気と
    を除去するための活性炭吸着床からなり、前記供給空気
    は第4フイルタからヒータへ流れ、次いでそれ以上の処
    理なしに触媒床へ移動する特許請求の範囲第2項に記載
    の装置。
  4. (4)全フィルタと圧力容器とをコンプレッサへのj&
    続用入口と呼吸用空気供給系への接続用出口とを備えた
    共通キャビネット内に内蔵させる特許請求の範囲第2項
    または第3項に記載の装置。
  5. (5)  圧力容器が入口と出口とを備えるハウジング
    からなシ、ヒータをハウジングの入口に隣接してハタジ
    ング内にWkゆ、粒状触媒材料を含有する容器をこの容
    器中への入口がヒータのすぐ下流となり、かつ容器から
    の出口がハウジングからの出口と連通するような位置に
    てハクジング内に着脱自在に保持する特許請求の範囲第
    1項乃至第4項のいずれかに記載の装置。
JP57157381A 1981-09-11 1982-09-09 呼吸目的用の圧縮空気の処理装置 Pending JPS5865175A (ja)

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