JPS5863746U - 電子ビ−ム露光装置における測定用位置マ−クの構造 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置における測定用位置マ−クの構造Info
- Publication number
- JPS5863746U JPS5863746U JP11926082U JP11926082U JPS5863746U JP S5863746 U JPS5863746 U JP S5863746U JP 11926082 U JP11926082 U JP 11926082U JP 11926082 U JP11926082 U JP 11926082U JP S5863746 U JPS5863746 U JP S5863746U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- measurement position
- position mark
- beam exposure
- exposure equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図乃至第６図は本考案説明のための従来方式の説明
図、第７図は本考案の一実施例による位置マーク、第８
図は第７図の位置マーク検出信号を示す。
図、第７図は本考案の一実施例による位置マーク、第８
図は第７図の位置マーク検出信号を示す。
Claims (1)
- 電子ビーム露光される基板面に凹部を形成して、該凹部
内に該基板とは反射電子量の異る物質を同一平面となる
如（埋設して構成したことを特徴とする電子ビーム露光
装置における測定用位置マークの構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11926082U JPS5863746U (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | 電子ビ−ム露光装置における測定用位置マ−クの構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11926082U JPS5863746U (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | 電子ビ−ム露光装置における測定用位置マ−クの構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5863746U true JPS5863746U (ja) | 1983-04-28 |
Family
ID=29913334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11926082U Pending JPS5863746U (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | 電子ビ−ム露光装置における測定用位置マ−クの構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5863746U (ja) |
-
1982
- 1982-08-05 JP JP11926082U patent/JPS5863746U/ja active Pending
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