JPS5860596A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents
印刷配線板の製造方法Info
- Publication number
- JPS5860596A JPS5860596A JP15998281A JP15998281A JPS5860596A JP S5860596 A JPS5860596 A JP S5860596A JP 15998281 A JP15998281 A JP 15998281A JP 15998281 A JP15998281 A JP 15998281A JP S5860596 A JPS5860596 A JP S5860596A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- photosensitive resin
- plating layer
- copper plating
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷配線板、特に両面スルホール印刷配線板の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来から両面スルホール印刷配線板の製造法として種々
の方法が実施されているが、これらは何It Cスルホ
ール内部の銅メッキを施す際に、後の工程にて回路パタ
ーンが形成される箇所の銅箔部にも全面的に銅メッキが
同時に施されているー。
の方法が実施されているが、これらは何It Cスルホ
ール内部の銅メッキを施す際に、後の工程にて回路パタ
ーンが形成される箇所の銅箔部にも全面的に銅メッキが
同時に施されているー。
通常スルホール内部の銅メッキの厚さは導通の信頼性維
持のため最低20〜30μmが必要とされるか、そのと
き銅箔上の銅メッキ厚は30〜50μmになり、基板と
して銅箔層lB11mの銅張積層板を使用した場合にメ
ッキ後の銅層の総厚みが約50〜7071mに達する。
持のため最低20〜30μmが必要とされるか、そのと
き銅箔上の銅メッキ厚は30〜50μmになり、基板と
して銅箔層lB11mの銅張積層板を使用した場合にメ
ッキ後の銅層の総厚みが約50〜7071mに達する。
従ってこのような厚みの銅層を持・、た積層板を用いて
基板上に所望の銅箔パターンを形成する場合には、第1
図(a)に示すように銅メッキ層1の上に所望のパター
ンの4エしチング性金属メッキ層2を付着した状態でエ
ツチングを行なった際に、基板全体の銅層(銅メッキ層
1と銅箔層3を合わせたもの)が厚いがためにエツチン
グ時間が長くかかり、またこのとき第1図(b)にlJ
くずように側面からのサイドエツチングによっ−C4来
残すべき銅層が大量に浸蝕剥離されていた。
基板上に所望の銅箔パターンを形成する場合には、第1
図(a)に示すように銅メッキ層1の上に所望のパター
ンの4エしチング性金属メッキ層2を付着した状態でエ
ツチングを行なった際に、基板全体の銅層(銅メッキ層
1と銅箔層3を合わせたもの)が厚いがためにエツチン
グ時間が長くかかり、またこのとき第1図(b)にlJ
くずように側面からのサイドエツチングによっ−C4来
残すべき銅層が大量に浸蝕剥離されていた。
この場合回路パターンを形成する銅箔の幅が02咽以上
の箇所ではそれ程問題とならないが、O1〜O,I5+
m以下になれば回路の仕上り状態が不均一となり信頼性
が著しく低下し、特にエツチング液としてアルカリ性の
溶液を使用した場合にはこの傾向が顕著に現われ、極端
な場合には回路形成用の銅箔が・残らなくなる虞れすら
あった。
の箇所ではそれ程問題とならないが、O1〜O,I5+
m以下になれば回路の仕上り状態が不均一となり信頼性
が著しく低下し、特にエツチング液としてアルカリ性の
溶液を使用した場合にはこの傾向が顕著に現われ、極端
な場合には回路形成用の銅箔が・残らなくなる虞れすら
あった。
本発明はこのような点に鑑みなされたものであり、回路
パターンの銅箔の幅が極めて狭い場合にも安定した高信
頼度で製造することができる両面スルホールの印刷配線
板の製造方法を提供するものである− 以下本発明の製造工程を図面に示す実施例に従って説明
する。第3図及び第4図は本発明の製造工程を表わす1
実施例を示す。
パターンの銅箔の幅が極めて狭い場合にも安定した高信
頼度で製造することができる両面スルホールの印刷配線
板の製造方法を提供するものである− 以下本発明の製造工程を図面に示す実施例に従って説明
する。第3図及び第4図は本発明の製造工程を表わす1
実施例を示す。
ここでは基材5の両面にできるだけ薄く銅箔6゜6が張
付けられた両面銅張積層板を用い、まずこの積層板の所
定の箇所にドリル或いはパンチングにより第3図(a)
に示すようにスルホール7を穿孔する。
付けられた両面銅張積層板を用い、まずこの積層板の所
定の箇所にドリル或いはパンチングにより第3図(a)
に示すようにスルホール7を穿孔する。
そしてこの積層板の全面に化学銅メッキを施した後、続
いて電解銅メッキを施し、第3図(b)に示J゛ように
銅箔60表面及びスルホール7の内面に両者合わせて5
〜15μm程度の第1の銅メッキ層8を形成する・) 次にこのメッキ層8の上に溶剤により現像、剥離できる
感光性樹脂9を液状の場合には塗布し乾燥させるか、ま
たフィルム状の場合には貼合せた状態で、所望とする回
路パターンの露光を行ない、続いて所定の溶剤により現
像する1、このとき第4図(c)に示すように回路パタ
ーン形成部のみメッキ層8の」二に感光性樹脂9が残る
。
いて電解銅メッキを施し、第3図(b)に示J゛ように
銅箔60表面及びスルホール7の内面に両者合わせて5
〜15μm程度の第1の銅メッキ層8を形成する・) 次にこのメッキ層8の上に溶剤により現像、剥離できる
感光性樹脂9を液状の場合には塗布し乾燥させるか、ま
たフィルム状の場合には貼合せた状態で、所望とする回
路パターンの露光を行ない、続いて所定の溶剤により現
像する1、このとき第4図(c)に示すように回路パタ
ーン形成部のみメッキ層8の」二に感光性樹脂9が残る
。
次に上記溶剤とは異なりアルカリ性水溶液によ・て現像
、剥離できる第2の感光性樹脂IOを全1+41に塗布
、乾燥するか、または貼合せた後、所望とするパターン
の露光を行ない、続いてアルカリは水溶液によって現像
する。このとき、第4図(d)に示すようにスルホール
70周辺の円形ランド部のみ第2の感光性樹脂10が剥
離され、この場合ンント内に露出される第1の感光性樹
脂9も残る。−。
、剥離できる第2の感光性樹脂IOを全1+41に塗布
、乾燥するか、または貼合せた後、所望とするパターン
の露光を行ない、続いてアルカリは水溶液によって現像
する。このとき、第4図(d)に示すようにスルホール
70周辺の円形ランド部のみ第2の感光性樹脂10が剥
離され、この場合ンント内に露出される第1の感光性樹
脂9も残る。−。
、然る後に、電解銅メッキを施し、さらに耐エツチング
性の金属メッキを施す、っ例えば後のエツチング工程で
アルカリ性エツチング液を使用する場合には、この金属
メッキとしてスズ、ニッケルをメッキし、一方塩化第2
銅或いは塩化第2鉄等のエツチング液を使用する場合に
は金、パラジウムをメッキする。この結果第3図(e)
に示すようにスルホール7の内面とランド部に第2の銅
メッキ層11七耐工ツチング性金属メツキ層12が形成
されるー、なおこの場合第2の銅メンキ層11のメッキ
厚は10〜50.pm程度とし、まだ金属メッキ層12
は1〜30μm程度とすればよい。
性の金属メッキを施す、っ例えば後のエツチング工程で
アルカリ性エツチング液を使用する場合には、この金属
メッキとしてスズ、ニッケルをメッキし、一方塩化第2
銅或いは塩化第2鉄等のエツチング液を使用する場合に
は金、パラジウムをメッキする。この結果第3図(e)
に示すようにスルホール7の内面とランド部に第2の銅
メッキ層11七耐工ツチング性金属メツキ層12が形成
されるー、なおこの場合第2の銅メンキ層11のメッキ
厚は10〜50.pm程度とし、まだ金属メッキ層12
は1〜30μm程度とすればよい。
次に上記アルカリ性水溶液を用いて、第3図(f)に示
すように第2の感光性樹脂10を剥離する。。
すように第2の感光性樹脂10を剥離する。。
このとき第4図(f)に示すように基板表面には元の゛
銅メッキ層6と第1の感光性樹脂9が露出する−その後
銅箔部とメッキ層のエツチングを行ない、ランド部及び
第2の感光性樹脂9以外の部分の銅箔6と銅メッキ層8
を剥離する。そして次に回路パターンを形成している銅
メッキ層8の上に残・−・ている第1の感光性樹脂9を
溶剤により剥離する、。
銅メッキ層6と第1の感光性樹脂9が露出する−その後
銅箔部とメッキ層のエツチングを行ない、ランド部及び
第2の感光性樹脂9以外の部分の銅箔6と銅メッキ層8
を剥離する。そして次に回路パターンを形成している銅
メッキ層8の上に残・−・ている第1の感光性樹脂9を
溶剤により剥離する、。
この結果第4図(g)に示すように基板上のランド部に
は金属メッキ層12が、−また回路パターン形成部には
銅メッキ層8がそれぞれ露出され、その他の部分には元
の基材5が露出する。
は金属メッキ層12が、−また回路パターン形成部には
銅メッキ層8がそれぞれ露出され、その他の部分には元
の基材5が露出する。
以上のようにして本実施例では一枚の基板上に所望の回
路パター7とランドが配線形成されるとともにスルホー
ルを通して両層両面の回路接続が行なわれる。
路パター7とランドが配線形成されるとともにスルホー
ルを通して両層両面の回路接続が行なわれる。
第5図及び第6図は本発明の他の実施例を示す。
ここでは十二述した第3図、第4図の実施例の場合と同
様に、まず、両面銅張積層板を用いて、これに第5図(
a)に示すようにスルホール7を穿孔した後、化学銅メ
ッキ及び電解銅メッキを施し、第5+A(b)に示すよ
うに、銅箔6上及びスルホール70内面に第1の銅メッ
キ層8を形成する。
様に、まず、両面銅張積層板を用いて、これに第5図(
a)に示すようにスルホール7を穿孔した後、化学銅メ
ッキ及び電解銅メッキを施し、第5+A(b)に示すよ
うに、銅箔6上及びスルホール70内面に第1の銅メッ
キ層8を形成する。
次にこのメッキ層8の上に第1の感光性樹脂9を塗布ま
たは貼合せた状態で所望とするパターンの露光を行ない
、続いて所定の溶剤により現像する このとき第6図(
C)に示すようにランド部のみ感光性樹脂9が剥離され
、銅メッキ層8が露出される。
たは貼合せた状態で所望とするパターンの露光を行ない
、続いて所定の溶剤により現像する このとき第6図(
C)に示すようにランド部のみ感光性樹脂9が剥離され
、銅メッキ層8が露出される。
そして次に再び電解銅メッキを行ない、第5図(d)に
示すようにランド部及びスルホール7の内面に第2の銅
メッキ層11を形成するー。
示すようにランド部及びスルホール7の内面に第2の銅
メッキ層11を形成するー。
続いて所定の溶剤を用いて上記第1の感光性間服9を剥
離した後、第2の感光性樹脂lOを塗イ1iまたは貼合
せた状態で所望とする回路パターンの露光、現像を行な
う。このとき第6図(e)に示すように回路パターンに
対応jる部分のみの第1の銅メッキ層8が露出され、他
の部分の表面は第2の感光性樹脂10によって被覆され
ている。
離した後、第2の感光性樹脂lOを塗イ1iまたは貼合
せた状態で所望とする回路パターンの露光、現像を行な
う。このとき第6図(e)に示すように回路パターンに
対応jる部分のみの第1の銅メッキ層8が露出され、他
の部分の表面は第2の感光性樹脂10によって被覆され
ている。
次にランド部及び回路パターン形成部の表面及びスルホ
ール7の内面に耐エツチング性の金属メッキを施し、第
5図(f)に示すように金属メッキ層12を形成する。
ール7の内面に耐エツチング性の金属メッキを施し、第
5図(f)に示すように金属メッキ層12を形成する。
次にアルカリ性水溶液を用いて第2の感光性樹脂10を
剥離し、然る後に鋼エツチング処理を行ない、金属メッ
キ層12で被われている部分以外の銅メッキ層8及び銅
箔6を剥離除去する。このとき、第6図(g)に示すよ
うに回路パターン形成部、う/ト部及びスルホール内面
には金属メッキ層12か残り、その他の部分には元の基
材5が露出される こうして本実施例では基板上に所望の回路パターンとラ
ンドとが配線形成されるとともにスルホールを通して表
裏両面が回路接続されるー。
剥離し、然る後に鋼エツチング処理を行ない、金属メッ
キ層12で被われている部分以外の銅メッキ層8及び銅
箔6を剥離除去する。このとき、第6図(g)に示すよ
うに回路パターン形成部、う/ト部及びスルホール内面
には金属メッキ層12か残り、その他の部分には元の基
材5が露出される こうして本実施例では基板上に所望の回路パターンとラ
ンドとが配線形成されるとともにスルホールを通して表
裏両面が回路接続されるー。
本発明の印刷配線板の製造方法によれば、上記のように
現像及び剥離の際の処理液の異なる2種類の感光性樹脂
を使い分け、第2の銅メツキ工程ではスルホールとその
周辺のランド部のみ銅メッキを施すようにしているため
、その他の部分の銅メッキ層のメッキ厚はそれ部分厚く
ならず、その後の銅エツチング工程では比較的短い時間
でのエツチング処理が可能となり、従ってサイドエツチ
ノグによる回路パターン形成部の銅箔の浸蝕、剥離作用
は少なくて済む。
現像及び剥離の際の処理液の異なる2種類の感光性樹脂
を使い分け、第2の銅メツキ工程ではスルホールとその
周辺のランド部のみ銅メッキを施すようにしているため
、その他の部分の銅メッキ層のメッキ厚はそれ部分厚く
ならず、その後の銅エツチング工程では比較的短い時間
でのエツチング処理が可能となり、従ってサイドエツチ
ノグによる回路パターン形成部の銅箔の浸蝕、剥離作用
は少なくて済む。
それ数本発明の製造方法を用いれば、銅箔幅がO1〜0
.15關以下の微細な回路パターンを有する両面スルホ
ール印刷配線板を確実にまた回路仕上りを均一に製造す
ることができる。
.15關以下の微細な回路パターンを有する両面スルホ
ール印刷配線板を確実にまた回路仕上りを均一に製造す
ることができる。
第1図は従来の印刷配線板の製造方法を説明するだめの
断面図、第2図は同平面図、第3図は本発明の印刷配線
板の製造方法の1実施例の工程を表わす断面図、第4図
は同平面図、第5図は本発明の他の実施例の工程を表わ
す断面図、第6図は同平面図である。 5・・・暴利、6−・・銅箔、7・・・スルホーノペ
8.・第1の銅、メッキ層、9・・・第1の感光性樹脂
、10・・・第2の感光性樹脂、11・・・第2の銅メ
ッキ層、12・耐エッチ/グ性金属メッキ層、−1 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 簗1 ! 禦2図 篤3図 纂4図
断面図、第2図は同平面図、第3図は本発明の印刷配線
板の製造方法の1実施例の工程を表わす断面図、第4図
は同平面図、第5図は本発明の他の実施例の工程を表わ
す断面図、第6図は同平面図である。 5・・・暴利、6−・・銅箔、7・・・スルホーノペ
8.・第1の銅、メッキ層、9・・・第1の感光性樹脂
、10・・・第2の感光性樹脂、11・・・第2の銅メ
ッキ層、12・耐エッチ/グ性金属メッキ層、−1 代理人 弁理士 福 士 愛 彦 簗1 ! 禦2図 篤3図 纂4図
Claims (1)
- 1、スルホールを有する両面銅張積層板に第1の銅メツ
キ処理を施す工程と、該メッキ処理の施された銅張積層
板に第1の感光性樹脂を付着した状態で所望とするパタ
ーンの露光、現像処理を行なう工程と、さらに上記第1
の感光性樹脂とは異なる第2の感光性樹脂の付着した状
態で所望のパターンの露光、現像処理を行なう工程と、
スルホールとその周辺部の上記第1の銅メッキ層の上に
第2の銅メツキ処理を施すとともに耐エツチング性金属
メッキ処理を施す工程と、所望とするパターン以外の部
分の銅エツチングを行なう工程とからなる印刷配線板の
製造方法2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15998281A JPS5860596A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 印刷配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15998281A JPS5860596A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 印刷配線板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5860596A true JPS5860596A (ja) | 1983-04-11 |
Family
ID=15705410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15998281A Pending JPS5860596A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 印刷配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5860596A (ja) |
-
1981
- 1981-10-06 JP JP15998281A patent/JPS5860596A/ja active Pending
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