JPS5857330A - 環式ケト−ブチルアルデヒド、その製法及び環式ジイソシアナ−ト製造での使用 - Google Patents
環式ケト−ブチルアルデヒド、その製法及び環式ジイソシアナ−ト製造での使用Info
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- JPS5857330A JPS5857330A JP57154073A JP15407382A JPS5857330A JP S5857330 A JPS5857330 A JP S5857330A JP 57154073 A JP57154073 A JP 57154073A JP 15407382 A JP15407382 A JP 15407382A JP S5857330 A JPS5857330 A JP S5857330A
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- C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
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- C07C49/757—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing —CHO groups
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G18/752—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な環式ケト−ブチルアルデヒド及び環式ケ
ト−オレフィンからのその製造に関するものである。こ
の新規な環式ケト−ブチルアルデヒドは重合体における
架橋剤として使用し得る環式ジイソシアネートを製造す
る際に用いることができる。
ト−オレフィンからのその製造に関するものである。こ
の新規な環式ケト−ブチルアルデヒドは重合体における
架橋剤として使用し得る環式ジイソシアネートを製造す
る際に用いることができる。
殊に重合体化学における最終生成物は一般に石油を原料
とする出発物質をベースとするものである。一般的な石
油製品の枯渇の観点から、新規な製品を開発する場合、
石油に依存せず、そして連続的に再生される出発物質に
対する要求がある。
とする出発物質をベースとするものである。一般的な石
油製品の枯渇の観点から、新規な製品を開発する場合、
石油に依存せず、そして連続的に再生される出発物質に
対する要求がある。
本発明はリモネンタイプの炭化水軍から誘導される新規
な環式ケト−ブチルアルデヒドに関するものである。
な環式ケト−ブチルアルデヒドに関するものである。
この新規なケト−ブチルアルデヒドは式（１）式中、Ｒ
１及びＲ，は同一であるか、または相異なるかのいずれ
かであり、且つ水素または低級アルキルを表わし、そし
て環式脂肪族環は二重結合を含むことができる、 Ｋ対応する本のである。
１及びＲ，は同一であるか、または相異なるかのいずれ
かであり、且つ水素または低級アルキルを表わし、そし
て環式脂肪族環は二重結合を含むことができる、 Ｋ対応する本のである。
本発明の範囲内において低級アルキルは１〜約６個の炭
素原子を有する直鎖または分枝した炭化水素であること
ができる。挙げ得る例にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、インペ
ンチル、ヘキシル及びイソヘキシルがある。
素原子を有する直鎖または分枝した炭化水素であること
ができる。挙げ得る例にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、インペ
ンチル、ヘキシル及びイソヘキシルがある。
式（ｎ）
式中、環式脂肪族環は二重結合を含むことができる、
の環式ケト−ブチルアルデヒドが一般に、好ましい。
次の環式ケト−ブチルアルデヒドを殊に挙げることがで
きる：３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）
−ブチルアルデヒド、５−（ｎ−メチル−３−オキソシ
クロヘキシ−４−エニル）−ブチルアルデヒド、５−（
３−オキソシクロヘキシル）−プロピオンアルデヒド１
及び３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）−
プロピオンアルデヒド。
きる：３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）
−ブチルアルデヒド、５−（ｎ−メチル−３−オキソシ
クロヘキシ−４−エニル）−ブチルアルデヒド、５−（
３−オキソシクロヘキシル）−プロピオンアルデヒド１
及び３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）−
プロピオンアルデヒド。
本発明による新規な環式ケト−ブチルアルデヒドは芳香
剤、例えば香水成分として用いることができる。しかし
ながら、これらのものを対応するジアミンに転化し、そ
してこの本のをジイソシアネートに転化することが殊に
可能である。この環式ジイソシアネートは重合体化学に
おいて、殊にポリアミド及びポリウレタンの場合に架橋
剤として有利に用いることができる。
剤、例えば香水成分として用いることができる。しかし
ながら、これらのものを対応するジアミンに転化し、そ
してこの本のをジイソシアネートに転化することが殊に
可能である。この環式ジイソシアネートは重合体化学に
おいて、殊にポリアミド及びポリウレタンの場合に架橋
剤として有利に用いることができる。
この新規な環式ケト−ブチルアルデヒドは式Ｉｌ−冨
式中、Ｒ，及びＲ１は同一であるか、または相異なるか
のいずれかであや、且つ水素または低級アルキルを表わ
し、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことができる
、 の環式ケト−オレフィンをロジウム含有触媒の存在下に
おいて５０〜２００℃の温度範囲内及び少なくとも３０
バールの圧力下で一酸化炭素及び水素と反応させること
により製造することができる。
のいずれかであや、且つ水素または低級アルキルを表わ
し、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことができる
、 の環式ケト−オレフィンをロジウム含有触媒の存在下に
おいて５０〜２００℃の温度範囲内及び少なくとも３０
バールの圧力下で一酸化炭素及び水素と反応させること
により製造することができる。
本発明の方法に対する環式ケト−オレフィン、例えばカ
ルボン及びジヒドロカルボンはリモネンから調製するこ
とができる。リモネンはシトロン属の果実、例えばオレ
ンジ、レモン及びライムの９− 構成物であり、そして一般に果実の皮を蒸留することＫ
よ抄単離される。
ルボン及びジヒドロカルボンはリモネンから調製するこ
とができる。リモネンはシトロン属の果実、例えばオレ
ンジ、レモン及びライムの９− 構成物であり、そして一般に果実の皮を蒸留することＫ
よ抄単離される。
リモネンからのカルボンの製造は公知である。
かくして例えば、塩化ニトロシルをリモネンのエンド環
式（ｅｎｄｏｅｙｅｌｉｅ）結合に加えることによ抄ダ
イマー性のクロロニトロン化合物を得ることができる。
式（ｅｎｄｏｅｙｅｌｉｅ）結合に加えることによ抄ダ
イマー性のクロロニトロン化合物を得ることができる。
このクロロニトロン化合物は塩基を用いてカルボンオキ
シムに転化することができ、このものを酸性条件下で加
水分解してカルボンを生成させることができる（ Ｉｔ
’ｄ、 Ｅｎｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ４ Ｓ 。
シムに転化することができ、このものを酸性条件下で加
水分解してカルボンを生成させることができる（ Ｉｔ
’ｄ、 Ｅｎｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ４ Ｓ 。
１１９６（１９５１））。またこの３段階の反応はいわ
ゆる一容器（ｏｎｅ−マｅｓｓｓｌ）工程として行うこ
とができる（米国特許第４２９に５０１号）。
ゆる一容器（ｏｎｅ−マｅｓｓｓｌ）工程として行うこ
とができる（米国特許第４２９に５０１号）。
ジヒドロカルボンの製造は同様に公知である。
例えば、過酸を用いてリモネンをリモネンモノエポキシ
ドに転化することができる（Ｊ、Ａｍ５ｒ。
ドに転化することができる（Ｊ、Ａｍ５ｒ。
Ｃｈｓｍ、Ｓｏｅ、、７７．３４０５（１９５５））。
１０−
このエポキシドはルイス（Ｌｓｗｉｓ）酸を用いるか（
Ｈｇｌｖ−Ｃｈｉｍ、Ａｃｔａ ４７．４１５ （１９
６４））または酸イオン交換剤によ？）（Ｚａ、Ｖｍｅ
ｓ−Ｋｈｅｍ、０ｅｓａｅａ、２２ ．２２３（１９７
７））転位させてジヒドロカルボンを生じさせる。
Ｈｇｌｖ−Ｃｈｉｍ、Ａｃｔａ ４７．４１５ （１９
６４））または酸イオン交換剤によ？）（Ｚａ、Ｖｍｅ
ｓ−Ｋｈｅｍ、０ｅｓａｅａ、２２ ．２２３（１９７
７））転位させてジヒドロカルボンを生じさせる。
またディールス−アルダ−（Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ
）反応を用いて環式ケト−オレフィンの製造を行うこと
ができる。この場合、適当ならばルイス酸の存在下にお
いて適当なジエンをイソプレンと反応させる。
）反応を用いて環式ケト−オレフィンの製造を行うこと
ができる。この場合、適当ならばルイス酸の存在下にお
いて適当なジエンをイソプレンと反応させる。
本発明の方法による一酸化炭素／水素を用いる環式ケト
−オレフィンのヒドロホルミル化はロジウム触媒の存在
下で行う。リモネンのヒドロホルミル化はそれ自体公知
である［ Ｎｅｗ ５ｙｎｔｈｅａｉａａｉｔｈ Ｃａ
ｒｂｏｎ Ｍｏｎｏｘｉｄｅ、 Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｖ
ｅｒｌａｇＢｅｒｌｌｎ（１９８０）、１０９〜１１９
頁〕。しかしながら、公知の方法をできる限抄不飽和の
環式ケト−オレフィンに使用し得ることは予期されず、
その理由は２個の二重結合を有しているととに加えてこ
れらのものが反応条件で優先的に反応すべきケト基で更
に置換されているからである。
−オレフィンのヒドロホルミル化はロジウム触媒の存在
下で行う。リモネンのヒドロホルミル化はそれ自体公知
である［ Ｎｅｗ ５ｙｎｔｈｅａｉａａｉｔｈ Ｃａ
ｒｂｏｎ Ｍｏｎｏｘｉｄｅ、 Ｓｐｒｉｎｇｅｒ Ｖ
ｅｒｌａｇＢｅｒｌｌｎ（１９８０）、１０９〜１１９
頁〕。しかしながら、公知の方法をできる限抄不飽和の
環式ケト−オレフィンに使用し得ることは予期されず、
その理由は２個の二重結合を有しているととに加えてこ
れらのものが反応条件で優先的に反応すべきケト基で更
に置換されているからである。
本発明の方法に対する好適なロジウム錯体には１種また
はそれ以上の含窒素、含リン及び／または含イオウ配位
子が含まれる。
はそれ以上の含窒素、含リン及び／または含イオウ配位
子が含まれる。
触媒として用いる殊に好適なロジウム錯体は弐ＸＲｈ
（ＣＯ）Ｉ４ 、 ＨＲｈ （Ｃｏ ）Ｌ３ 、
ＨＲｈ （Ｃｏ＼Ｌ！。
（ＣＯ）Ｉ４ 、 ＨＲｈ （Ｃｏ ）Ｌ３ 、
ＨＲｈ （Ｃｏ＼Ｌ！。
ＲｈＸＬｓ ＊ ［Ｒｈ（Ｃｏ）冨Ｌｘ）及び（Ｒｈ
（０ＣＯＣＨｓ ）（Ｃｏ）Ｌ）ｍに対応する本ので
あり、ここにＸは塩素、臭素またはヨウ素原子を表わし
、そしてＬは有機性配位子を表わす。適当な有機性配位
子は第三級有機ホスフィン、スルフィド、スルホンまた
は第三級アミンであることができる。適当な配位子の例
には有機性基として各々の場合に多くとも２個までの同
一もしくは相異なる、炭素原子１〜２０個を有するアル
キル基、要素原子５〜１２個を有するシクロアルキル基
、炭素原子７〜１０個を有するアラルキル基及び少なく
とも１ｍの、炭素原子６〜１０個を有するアリール基を
有する第三級有機ホスフィンがある。ここに示した基は
反応条件下で不活性である置換基、例えば１〜２個のヒ
ドロキシル基、炭素原子１〜４個を有するアルコキシも
しくはカルバルコキシ基、アミン基またはハロゲン原子
、例えばトリフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホ
スフィン、トリトルイルホスフィン、トリナフチルホス
フィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルブチ
ルホスフィン、トリス−（ｐｌクロロェニル）−ホスフ
ィン、トリス−（ｐ−カルボメトキシフェニル）−ホス
フィン、トリス−（ｐ−シアノフェニル）−ホスフイン
、ジフェニル亜ホスホン酸フェニルエステル、ベンゼン
亜ホスホン酸ジフェニルエステ−１３− ル及びジフェニル−（ジメチルアミノ）−フェニルホス
フィンを有することができる。
（０ＣＯＣＨｓ ）（Ｃｏ）Ｌ）ｍに対応する本ので
あり、ここにＸは塩素、臭素またはヨウ素原子を表わし
、そしてＬは有機性配位子を表わす。適当な有機性配位
子は第三級有機ホスフィン、スルフィド、スルホンまた
は第三級アミンであることができる。適当な配位子の例
には有機性基として各々の場合に多くとも２個までの同
一もしくは相異なる、炭素原子１〜２０個を有するアル
キル基、要素原子５〜１２個を有するシクロアルキル基
、炭素原子７〜１０個を有するアラルキル基及び少なく
とも１ｍの、炭素原子６〜１０個を有するアリール基を
有する第三級有機ホスフィンがある。ここに示した基は
反応条件下で不活性である置換基、例えば１〜２個のヒ
ドロキシル基、炭素原子１〜４個を有するアルコキシも
しくはカルバルコキシ基、アミン基またはハロゲン原子
、例えばトリフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホ
スフィン、トリトルイルホスフィン、トリナフチルホス
フィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルブチ
ルホスフィン、トリス−（ｐｌクロロェニル）−ホスフ
ィン、トリス−（ｐ−カルボメトキシフェニル）−ホス
フィン、トリス−（ｐ−シアノフェニル）−ホスフイン
、ジフェニル亜ホスホン酸フェニルエステル、ベンゼン
亜ホスホン酸ジフェニルエステ−１３− ル及びジフェニル−（ジメチルアミノ）−フェニルホス
フィンを有することができる。
ｐ、 ［ＣＨ茸ＣＩ（、Ｃ馬Ｎ（ＣＨｓ）ｚ〕ｓ、Ｐ
（ＣＨ２ＣＨＩＣＨりＮ（Ｃ２Ｈｓ ）ｉ〕３、Ｐ（Ｃ
ＨＨｅＨ２ＣＨ２−Ｎ−イソ−Ｃ４Ｈ９ｈ、Ｐ （ＣＨ
ＩＧＨ鵞ＧＨｚＮ（イソ−〇４Ｈ１１）２：１３、（ｎ
−ＣａＨｅ ）２ＰＣＨＩＣＨ２Ｎ（Ｃ２Ｈｇ ）２
、Ｐ （ＣＨＥＮ（Ｃ！Ｈ５）！ ）ｓ 、Ｐ （Ｃ
６Ｈ４Ｎ（ＣＨ３）！ ）３、Ｐ （ＣＨｘＣＨｓＣａ
Ｈ４Ｎ（ＣｚＨｓ ｈ 〕ｓ、Ｐ ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
，Ｎ（Ｌｅ ｒ ｔ、Ｃ４Ｈｓ ）！ ）！ 及びＰ
［ＣＨｔＣＨ２ＣＨｚＮ （イソ−ＣｓＨｖ ）鵞３
３用いる炬リン酸含有配位子はホスフィンの群から選ぶ
ことが最良である。殊に好ましい配位子はトリフェニル
ホスフィン及びトリブチルホスフィ−１４− ンである。
（ＣＨ２ＣＨＩＣＨりＮ（Ｃ２Ｈｓ ）ｉ〕３、Ｐ（Ｃ
ＨＨｅＨ２ＣＨ２−Ｎ−イソ−Ｃ４Ｈ９ｈ、Ｐ （ＣＨ
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，Ｎ（Ｌｅ ｒ ｔ、Ｃ４Ｈｓ ）！ ）！ 及びＰ
［ＣＨｔＣＨ２ＣＨｚＮ （イソ−ＣｓＨｖ ）鵞３
３用いる炬リン酸含有配位子はホスフィンの群から選ぶ
ことが最良である。殊に好ましい配位子はトリフェニル
ホスフィン及びトリブチルホスフィ−１４− ンである。
またフェロセンで部分的に置換されるトリオルガノホス
フィンの形態の錯体配位子（ドイツ国特許出願公開明細
書第２．６１７．３０６号）を本発明に従って用いるこ
とができる。しかしながら、ロジウムで触媒されたヒド
ロホルミル化反応系に適するいずれかのトリオルガノ亜
リン酸配位子を用いることができる。
フィンの形態の錯体配位子（ドイツ国特許出願公開明細
書第２．６１７．３０６号）を本発明に従って用いるこ
とができる。しかしながら、ロジウムで触媒されたヒド
ロホルミル化反応系に適するいずれかのトリオルガノ亜
リン酸配位子を用いることができる。
適当な含窒素配位子の例にはピリジン、ピコリン、エチ
ルピリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルビロー
ル、Ｎ、Ｎ’−ジメチルピペラジン、ジメチルシクロヘ
キシルアミン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ−メチルモルフィシン、Ｎ−メチルインドー
ル、キノリン、インキノリ／、Ｎ−メチルピロリドン及
び３−ジメチルアミノプロピオニトリルがある。
ルピリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルビロー
ル、Ｎ、Ｎ’−ジメチルピペラジン、ジメチルシクロヘ
キシルアミン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ−メチルモルフィシン、Ｎ−メチルインドー
ル、キノリン、インキノリ／、Ｎ−メチルピロリドン及
び３−ジメチルアミノプロピオニトリルがある。
適当な含イオウ配位子の例には硫化ジベンジル、硫化ジ
−ｎ−ブチル、ジメチルスルホキシド、硫化ジエチル、
硫化ジー（４−クロロベンジル）、硫化ジー（４−シア
ノベンジル）、硫化ビス−（４−ジメチルアミノベンジ
ル）、硫化ジー（４−ジエチルアミノベンジル）、硫化
ジー（α−ナフチルメチル）、硫化ジー（２，６−ジク
ロロベンジル）、硫化ジー（へ４−ジクロロベンジル）
、（ｉｉＩＥ化シー （２−クロロベンジル）、硫化ジ
ー（５゜６、Ｚ８−テトラヒドロナフチル−２−メチル
）、硫化ベンジルメチル、硫化ベンジルドデシル、硫化
４−ジメチルアミノベンジルメチル、硫化ベンジルブチ
ル、硫化ビス−（４−カルボキシベンジル）、硫化ジー
（４−メチルベンジル）、硫化ジー（３−メチルベンジ
ル）、硫化ジー（２−メチルベンジル）及びテトラメチ
レンスルホンがある。
−ｎ−ブチル、ジメチルスルホキシド、硫化ジエチル、
硫化ジー（４−クロロベンジル）、硫化ジー（４−シア
ノベンジル）、硫化ビス−（４−ジメチルアミノベンジ
ル）、硫化ジー（４−ジエチルアミノベンジル）、硫化
ジー（α−ナフチルメチル）、硫化ジー（２，６−ジク
ロロベンジル）、硫化ジー（へ４−ジクロロベンジル）
、（ｉｉＩＥ化シー （２−クロロベンジル）、硫化ジ
ー（５゜６、Ｚ８−テトラヒドロナフチル−２−メチル
）、硫化ベンジルメチル、硫化ベンジルドデシル、硫化
４−ジメチルアミノベンジルメチル、硫化ベンジルブチ
ル、硫化ビス−（４−カルボキシベンジル）、硫化ジー
（４−メチルベンジル）、硫化ジー（３−メチルベンジ
ル）、硫化ジー（２−メチルベンジル）及びテトラメチ
レンスルホンがある。
触媒錯体における配位子に対するロジウムの比は広範囲
に変えることができる。しかしながら、一般に反応媒質
にはロジウム１を原子ａｈ少なくとも１モルの配位子が
含まれる。しかしまた、配位子を過剰に加えることがで
き、ロジウムに対する配位子の比を１〜２００：１で用
いることがある。しかしながら、１０〜８０：１のロジ
ウムに対する配位子の比を用いることが好ましい。また
配位子化合物を溶媒として有利に用いることができる。
に変えることができる。しかしながら、一般に反応媒質
にはロジウム１を原子ａｈ少なくとも１モルの配位子が
含まれる。しかしまた、配位子を過剰に加えることがで
き、ロジウムに対する配位子の比を１〜２００：１で用
いることがある。しかしながら、１０〜８０：１のロジ
ウムに対する配位子の比を用いることが好ましい。また
配位子化合物を溶媒として有利に用いることができる。
本発明による方法の好適な具体例において、溶媒中にて
昇温下で且つ昇圧下にて、例えば２００バールの水の気
体圧力下で活性触媒を予備生成させ、そして反応条件下
で環式ケト−オレフィンを加える。
昇温下で且つ昇圧下にて、例えば２００バールの水の気
体圧力下で活性触媒を予備生成させ、そして反応条件下
で環式ケト−オレフィンを加える。
環式ケト−オレフィン１１１１当抄１〜１．０００ｑの
ロジウム金属を本発明に従って触媒中に用いる。
ロジウム金属を本発明に従って触媒中に用いる。
殊に、環式ケト−オレフィン１４当＃）１０〜６００■
のロジウム金属を用いる。この触媒は公知の方−１７− 法で回収し、そして再び使用することができる〔ドイツ
国特許出願公開明細書第１．９５４．５１５号（１９６
９）及び同第２，３１１，３８８号（１９７３））。
のロジウム金属を用いる。この触媒は公知の方−１７− 法で回収し、そして再び使用することができる〔ドイツ
国特許出願公開明細書第１．９５４．５１５号（１９６
９）及び同第２，３１１，３８８号（１９７３））。
本発明によるヒドロホルミル化において、−酸化炭素及
び水素は一般に少なくとも化学量論比で用いるが、１０
０モルチまでの過剰が好ましい。
び水素は一般に少なくとも化学量論比で用いるが、１０
０モルチまでの過剰が好ましい。
−酸化炭素及び水素の混合物には一般に１：４〜４：１
、殊に２＝１〜１：２の容量比の一醗化炭素及び水素が
含まれる。
、殊に２＝１〜１：２の容量比の一醗化炭素及び水素が
含まれる。
本発明によるヒドロホルミル化は一般に５０〜２００℃
の温度範囲内で行う。９０〜１８０℃の範囲内の温度が
殊に好ましい。本発明による方法は一般に少なくとも３
０バールの圧力下で行う。
の温度範囲内で行う。９０〜１８０℃の範囲内の温度が
殊に好ましい。本発明による方法は一般に少なくとも３
０バールの圧力下で行う。
本発明による方法は７０〜４００バールの圧力範囲内で
行うことが好ましい。
行うことが好ましい。
一般に１、本発明による方法は２０〜１２０分間−１８
− にわたって実質的に転化が完了するまで行う。
− にわたって実質的に転化が完了するまで行う。
本発明による方法は一般に液相中で行う。ここで触媒を
固体担体、例えばシリカゲル上に固定することが好まし
い。
固体担体、例えばシリカゲル上に固定することが好まし
い。
液体反応媒質はそれ自体存在している液体の混合物（反
応生成物もしくは過剰の配位子化合物）であることがで
きるか、ま九は適当ならば反応条件下で変化せず、そし
て触媒及び過剰の配位子が可溶である追加の溶媒を含む
こともできる。溶媒の例にはヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンがある。
応生成物もしくは過剰の配位子化合物）であることがで
きるか、ま九は適当ならば反応条件下で変化せず、そし
て触媒及び過剰の配位子が可溶である追加の溶媒を含む
こともできる。溶媒の例にはヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンがある。
本発明による方法の好適な具体例において、本発明によ
る環式ケト−ブチルアルデヒドを与える際の環式ケト−
オレフィンのヒドロホルミル化はヒドリドカルボニル−
ホスフィン−ロジウム錯体の存在下において、１０〜８
０：１のロジウムに対するリンの比に対応する過剰のホ
スフィン配位子において、溶媒としての炭化水素中で、
１５０〜１６５℃の温度範囲内で、１５０〜５５０ノ（
−ルの圧力範囲内で、α７〜１．５の比の水素及び−酸
化炭素を用いて行う。
る環式ケト−ブチルアルデヒドを与える際の環式ケト−
オレフィンのヒドロホルミル化はヒドリドカルボニル−
ホスフィン−ロジウム錯体の存在下において、１０〜８
０：１のロジウムに対するリンの比に対応する過剰のホ
スフィン配位子において、溶媒としての炭化水素中で、
１５０〜１６５℃の温度範囲内で、１５０〜５５０ノ（
−ルの圧力範囲内で、α７〜１．５の比の水素及び−酸
化炭素を用いて行う。
本発明によれば、式（Ｒ／）
１ＮＣＯ
式中、Ｒ１及びＲ１は上記の意味を有する、のジイソシ
アネートを製造する際に、環式ケト−ブチルアルデヒド
を水素化触媒の存在下において５０〜２８０℃の温度範
囲内で１．且つ１０〜２００バールの圧力範囲内でアン
モニア及び水素と反応させて式（Ｖ） 式中、Ｒ１及びＲ１け上記の意味を有する、のジアミン
を生じさせ、次にこれらのジアミンを不活性溶媒中で酸
で処理し、そして生じた塩を２０〜２５０℃の温度範囲
内でホスゲンと反応させることによ抄この新規な環式ケ
ト−ブチルアルデヒドを用いることができる。
アネートを製造する際に、環式ケト−ブチルアルデヒド
を水素化触媒の存在下において５０〜２８０℃の温度範
囲内で１．且つ１０〜２００バールの圧力範囲内でアン
モニア及び水素と反応させて式（Ｖ） 式中、Ｒ１及びＲ１け上記の意味を有する、のジアミン
を生じさせ、次にこれらのジアミンを不活性溶媒中で酸
で処理し、そして生じた塩を２０〜２５０℃の温度範囲
内でホスゲンと反応させることによ抄この新規な環式ケ
ト−ブチルアルデヒドを用いることができる。
式（ｆＶ）のジイソシアネート及び式（■）のジアミン
も同様に新規なものである。
も同様に新規なものである。
この還元的アミン化はそれ自体公知である（Ｈｏｕｂ＠
ｎ’−Ｗｅｙｌ、 Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇ
ａｎｉｓｅｈ＠ｎＣｈｅｍ１ｅ （Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏ
ｆ Ｏｒｇａｎｌａ Ｃｈｅｍｉｇｌｒｙ）、第４巻、
１／Ｃ部（１９８０）、４１２頁以下〕。
ｎ’−Ｗｅｙｌ、 Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇ
ａｎｉｓｅｈ＠ｎＣｈｅｍ１ｅ （Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏ
ｆ Ｏｒｇａｎｌａ Ｃｈｅｍｉｇｌｒｙ）、第４巻、
１／Ｃ部（１９８０）、４１２頁以下〕。
本発明によれば、少なくとも２．２ ： １、好ましく
は５〜１５：１の環式ケト−ブチルアルデヒドに対する
アンモニアのモル比を用いる際に高選択的にジアミンが
得られる。この還元的アミノ化は液相水素化として非連
続的Ｋか、または例えば滴２１− 下（ｔｒｉｅｋｌ・）相中で連続的に行うことができる
。
は５〜１５：１の環式ケト−ブチルアルデヒドに対する
アンモニアのモル比を用いる際に高選択的にジアミンが
得られる。この還元的アミノ化は液相水素化として非連
続的Ｋか、または例えば滴２１− 下（ｔｒｉｅｋｌ・）相中で連続的に行うことができる
。
本発明によるアミノ化の条件下で不活性である溶媒を用
いることが有利であり得る。挙げ得る例にはアルコール
、エーテル、アミド並びに複素環式化合物、例えばメタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノール、
エチレングリコール、エチレングリコールジメチルエー
テル、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジ
メチルホルムアミド及びヘキサンがある。エタノール及
びインプロパツールが好適な溶媒である。
いることが有利であり得る。挙げ得る例にはアルコール
、エーテル、アミド並びに複素環式化合物、例えばメタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノール、
エチレングリコール、エチレングリコールジメチルエー
テル、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジ
メチルホルムアミド及びヘキサンがある。エタノール及
びインプロパツールが好適な溶媒である。
一般に本発明による還元的アミノ化は５０〜１８０℃、
好ましくは９０〜１３５℃の温度範囲内で行う。水素圧
は１０バール以上で、そして５０〜２００バールの範囲
内であるべきである。
好ましくは９０〜１３５℃の温度範囲内で行う。水素圧
は１０バール以上で、そして５０〜２００バールの範囲
内であるべきである。
本発明のアきノ化は酢酸アンモニウムの如きアンモニウ
ム塩を加えて行うことが有利である。と２２− の場合、ケト−アルデヒドを基準として（１１〜５−の
アンモニウム塩を一般に用いる。
ム塩を加えて行うことが有利である。と２２− の場合、ケト−アルデヒドを基準として（１１〜５−の
アンモニウム塩を一般に用いる。
本発明による還元的アミノ化に対する水素化触媒には活
性成分として還元及び／もしくは酸化状態の少なくとも
１種の金属バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケルまたは銅が含まれる。好適な触媒は担持さ
れた触媒状態のニッケルまたはコバルト触媒であり、そ
の際に担体として使用し得る無機物質にはケイソウ土、
ケイ酸、酸化アルミニウム、ケイ酸塩、ケイ酸アルミニ
ウム、モンモリロナイト、ゼ第２イト、スピネル、ドロ
マイト、カオリ／、ケイ酸マグネシウム、酸化ジルコニ
ウム、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、シリコンカ
ーバイド、リン酸アルミニウム、リン酸ホウ累、石綿ま
たは活性炭素、及び高分子量を有する天然に生じるか、
または合成化合物である有機性触媒担体として使用し得
る化合物、例えば絹、ポリアミド、ポリスチレン、パル
プまたはポリウレタンがらり、その際に担体としてはケ
ーキ、ロープ、フィラメント、筒、多角形の形態または
粉末状態であることが可能である。
性成分として還元及び／もしくは酸化状態の少なくとも
１種の金属バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケルまたは銅が含まれる。好適な触媒は担持さ
れた触媒状態のニッケルまたはコバルト触媒であり、そ
の際に担体として使用し得る無機物質にはケイソウ土、
ケイ酸、酸化アルミニウム、ケイ酸塩、ケイ酸アルミニ
ウム、モンモリロナイト、ゼ第２イト、スピネル、ドロ
マイト、カオリ／、ケイ酸マグネシウム、酸化ジルコニ
ウム、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、シリコンカ
ーバイド、リン酸アルミニウム、リン酸ホウ累、石綿ま
たは活性炭素、及び高分子量を有する天然に生じるか、
または合成化合物である有機性触媒担体として使用し得
る化合物、例えば絹、ポリアミド、ポリスチレン、パル
プまたはポリウレタンがらり、その際に担体としてはケ
ーキ、ロープ、フィラメント、筒、多角形の形態または
粉末状態であることが可能である。
また本発明によるアミノ化に対する好適な触媒にはラネ
ー（Ｒａｎｅｙ）タイプの触媒、例えばラネー−ニッケ
ル、Ｗ−１，Ｗ−５、Ｗ−６、Ｗ−７ラネー・ニッケル
［Ｊ、 Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｅ、 ６９ 。
ー（Ｒａｎｅｙ）タイプの触媒、例えばラネー−ニッケ
ル、Ｗ−１，Ｗ−５、Ｗ−６、Ｗ−７ラネー・ニッケル
［Ｊ、 Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｅ、 ６９ 。
５ｏ５９（１９７４））、ラネー・コバルト触媒、ラネ
ー銅、ラネー・ニッケルー鉄、ラネー・コバルト−ニッ
ケルもしくはラネー・コバルト−鉄、ニッケル塩もしく
はコバルト塩の還元により１１ｇされる金属触媒例えば
Ｕｒａｓｈｉｂａｒａニッケル、または金属アルキル化
合物、アルカリ金属水素化物、ヒドラジン、ポルネート
もしくは水素化ホウ素によ抄還元されたニッケル塩また
はコバルト塩、或いは金Ｍ４酸化物または金属酸化物の
混合物の還元によ９調製される触媒がある。
ー銅、ラネー・ニッケルー鉄、ラネー・コバルト−ニッ
ケルもしくはラネー・コバルト−鉄、ニッケル塩もしく
はコバルト塩の還元により１１ｇされる金属触媒例えば
Ｕｒａｓｈｉｂａｒａニッケル、または金属アルキル化
合物、アルカリ金属水素化物、ヒドラジン、ポルネート
もしくは水素化ホウ素によ抄還元されたニッケル塩また
はコバルト塩、或いは金Ｍ４酸化物または金属酸化物の
混合物の還元によ９調製される触媒がある。
また触媒の還元は水素を用いて、適当ならば昇温下で且
つ昇圧下においてか、または本発明による方法の条件下
もしくは拳法中において行うことができる。
つ昇圧下においてか、または本発明による方法の条件下
もしくは拳法中において行うことができる。
水素化触媒は助触媒として１種またはそれ以上の次の元
素を１０重量−までの量で含むことができる：リチウム
、ナトリウム、カルシウム、バリウム、カリウム、銀、
ベリリウム、ランタン、セリウム、チタン、バナジウム
、ニオブ、タンタル、モリブデン及びタングステン。加
えて１重量Ｓまｒ（Ｄｋテニウム、レニウム、パラジウ
ム、金、イリジウム及び白金の元素を水素化触媒中に含
めることができる。
素を１０重量−までの量で含むことができる：リチウム
、ナトリウム、カルシウム、バリウム、カリウム、銀、
ベリリウム、ランタン、セリウム、チタン、バナジウム
、ニオブ、タンタル、モリブデン及びタングステン。加
えて１重量Ｓまｒ（Ｄｋテニウム、レニウム、パラジウ
ム、金、イリジウム及び白金の元素を水素化触媒中に含
めることができる。
本発明による還元的アミノ化に対する殊に好適な水素化
触媒はラネー触媒、例えばラネー・ニッケル、ラネー・
コバルト及びラネー・ニッケルー２５− 鉄である。
触媒はラネー触媒、例えばラネー・ニッケル、ラネー・
コバルト及びラネー・ニッケルー２５− 鉄である。
還元的アミノ化によりｗ４製したジアミンをそれ自体公
知の方法でホスゲンと反応させて環式ジイソシアネート
を生成させる。この段階で、適当ならば不活性溶媒中の
ジアミンはガス状の酸、例えば塩化水素または二酸化炭
素と反応して対応する付加生成物が生じ、このものを次
にホスゲンで処理する。
知の方法でホスゲンと反応させて環式ジイソシアネート
を生成させる。この段階で、適当ならば不活性溶媒中の
ジアミンはガス状の酸、例えば塩化水素または二酸化炭
素と反応して対応する付加生成物が生じ、このものを次
にホスゲンで処理する。
一般に、ジアミン１モルに対して２〜３０モル、好まし
くは５〜１０モルのホスゲンを反応させる。
くは５〜１０モルのホスゲンを反応させる。
この段階で、酸が離脱し、そして環式ジイソシアネート
が生じる。反応温度は一般に２０〜２５０℃、好ましく
は１３０〜１７０℃の範囲内である。
が生じる。反応温度は一般に２０〜２５０℃、好ましく
は１３０〜１７０℃の範囲内である。
このホスゲン化に対する可能な溶媒は反応条件下で変化
せず、その沸点がホスゲン化に対して十分に高く、そし
てジイソシアネートとの沸点の差が適当であるすべての
通常の溶媒である。クロロ２６− ベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、テトラリン及び
デカリンが好ましい。溶媒を留去した後、ジイソシアネ
ートを蒸留によりそれ自体公知の方法で精製することが
できる。
せず、その沸点がホスゲン化に対して十分に高く、そし
てジイソシアネートとの沸点の差が適当であるすべての
通常の溶媒である。クロロ２６− ベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、テトラリン及び
デカリンが好ましい。溶媒を留去した後、ジイソシアネ
ートを蒸留によりそれ自体公知の方法で精製することが
できる。
本発明による環式ジインシアネートはドイツ国特許第２
．２５４．５０７号（ＣＢＢ１０３５１．７７４号）Ｋ
従って、ラッカー添加剤としても有用なポリウレタンの
製造における架橋剤として用いることができる。
．２５４．５０７号（ＣＢＢ１０３５１．７７４号）Ｋ
従って、ラッカー添加剤としても有用なポリウレタンの
製造における架橋剤として用いることができる。
実施例１
カルボ７ （ｃａｒｖｏｎｅ ） ２．０００ ｆ及び
トルエンｓ、ｏｏｏ−をステンレス−スチール製オート
クレーブ中で２−エチルヘキサン酸ロジウム１．５Ｆ及
びトリフェニルホスフィン１５２ｆの存在下において１
５０℃及び２８０バール下で水素及び−酸化炭素の１：
１混合物と反応させた。２時間後にガスはこれ以上取り
込まれなくなった。１０ミリバール下で溶媒を留去した
。α１ミリバール下で残渣を分別した。１． ｑ １ｏ
ｙ （用いたカルボンの量を基準として８０チ）の混
合物が得られ、このものは３−（４−メチル−３−オキ
ソシクロヘキシ−ａ−ｘニル）−ブチルアルデヒド８０
％、３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）−
ブチルアルデヒド１５チ及び飽和オキソアルコール５チ
からなるものであった。沸点＝１００〜１０５℃／［Ｌ
１ミリバール。
トルエンｓ、ｏｏｏ−をステンレス−スチール製オート
クレーブ中で２−エチルヘキサン酸ロジウム１．５Ｆ及
びトリフェニルホスフィン１５２ｆの存在下において１
５０℃及び２８０バール下で水素及び−酸化炭素の１：
１混合物と反応させた。２時間後にガスはこれ以上取り
込まれなくなった。１０ミリバール下で溶媒を留去した
。α１ミリバール下で残渣を分別した。１． ｑ １ｏ
ｙ （用いたカルボンの量を基準として８０チ）の混
合物が得られ、このものは３−（４−メチル−３−オキ
ソシクロヘキシ−ａ−ｘニル）−ブチルアルデヒド８０
％、３−（４−メチル−３−オキソシクロヘキシル）−
ブチルアルデヒド１５チ及び飽和オキソアルコール５チ
からなるものであった。沸点＝１００〜１０５℃／［Ｌ
１ミリバール。
蒸留残渣にはヒドロホルミル化触媒が含まれてお抄、そ
してこのものを新たなヒドロホルミル化に用いることが
できた。
してこのものを新たなヒドロホルミル化に用いることが
できた。
実施例２
カルボン５０１Ｆ、トリフェニルホスフィン１．１５２
及びトリス−トリフェニルホスフィンロジウム塩化物α
０１ｗ９を実施例１に示したようにトルエン２５〇−中
にて１５０℃で２８０バール下にて４時間水素及び−酸
化炭素の１：１混合物と反応させた。蒸留処理により実
施例１に示した混合物と同様の組成を有する混合物（沸
点＝１０１〜１０５℃／α１ミリバール）４９ｆ（用い
たカルボンの量を基準として８２％）が生じた。
及びトリス−トリフェニルホスフィンロジウム塩化物α
０１ｗ９を実施例１に示したようにトルエン２５〇−中
にて１５０℃で２８０バール下にて４時間水素及び−酸
化炭素の１：１混合物と反応させた。蒸留処理により実
施例１に示した混合物と同様の組成を有する混合物（沸
点＝１０１〜１０５℃／α１ミリバール）４９ｆ（用い
たカルボンの量を基準として８２％）が生じた。
実施例３
ジヒドロカルボン５０ｆ１ トリフェニルホスフェン１
，５を及び２−エチルヘキサン酸ロジウムα０１３ｔを
実施例１に示したようにトルエン２０〇−中にて１５０
℃で２８０バール下で水素及び−酸化炭素の１：１混合
物と反応させた。蒸留処理により６−（４−メチル−３
−オキソシクロヘキシル）−ブチルアルデヒド５ｔｓｓ
’（４点＝９８〜１００℃／α１ミリバール、理論値の
８６％）が生じた。
，５を及び２−エチルヘキサン酸ロジウムα０１３ｔを
実施例１に示したようにトルエン２０〇−中にて１５０
℃で２８０バール下で水素及び−酸化炭素の１：１混合
物と反応させた。蒸留処理により６−（４−メチル−３
−オキソシクロヘキシル）−ブチルアルデヒド５ｔｓｓ
’（４点＝９８〜１００℃／α１ミリバール、理論値の
８６％）が生じた。
実施例４
３−Ｃ４−メチル−３−オキソつクロヘキシ−一ウ９−
４−エニル）−ブチルアルデヒド１００ ｆ、ラネー・
ニッケル３０ｆ、酢酸アンモニウム５を及びエタノール
７５０ｙｄを攪拌されたステンレス・スチール製オート
クレーブ中に４人した。このオートクレーブを密閉し、
窒素を吹き込み、そして液体アンモニア３５０−をポン
プで送入した。この混合物を８０パールの水素圧力下で
１００℃に加熱し、そして水素を用いて１時間１１０バ
ール下に保持し、アンモニアを蒸発させた後に触媒を反
応混合物からｐ別し、該混合物を冷却し、そして溶媒を
留去した。蒸留により３−（３−アミノ−４−メチルシ
クロヘキシル）−ブチルアミン７＆５２、沸点＝１０８
〜１１１℃１０．１ミリバール（理論値の７５％）が生
じた。
ニッケル３０ｆ、酢酸アンモニウム５を及びエタノール
７５０ｙｄを攪拌されたステンレス・スチール製オート
クレーブ中に４人した。このオートクレーブを密閉し、
窒素を吹き込み、そして液体アンモニア３５０−をポン
プで送入した。この混合物を８０パールの水素圧力下で
１００℃に加熱し、そして水素を用いて１時間１１０バ
ール下に保持し、アンモニアを蒸発させた後に触媒を反
応混合物からｐ別し、該混合物を冷却し、そして溶媒を
留去した。蒸留により３−（３−アミノ−４−メチルシ
クロヘキシル）−ブチルアミン７＆５２、沸点＝１０８
〜１１１℃１０．１ミリバール（理論値の７５％）が生
じた。
実施例５
Ｓ−（Ｓ−アミノ−４−メチルシクロヘキシル）−ブチ
ルアミン１００ｔを乾燥したクロロベンゼ３０− ン７５０−に溶解させ、そして生じた溶液に０℃で二酸
化戻素を飽和させた。冷却を止め、ホスゲンを混合物中
に通している間は沸点に加熱した。
ルアミン１００ｔを乾燥したクロロベンゼ３０− ン７５０−に溶解させ、そして生じた溶液に０℃で二酸
化戻素を飽和させた。冷却を止め、ホスゲンを混合物中
に通している間は沸点に加熱した。
ホスゲンを１５０℃で８時間通した。未反応のホスゲン
を溶液から窒素で追い出し、溶液をきれいにした。溶媒
を１０ミリバール下で留去し、そして残渣を１０ｍのピ
グロー（Ｖｉｇｒｅｕｘ）カラムを介して蒸留した。沸
点１２５〜ｂ リバールの３−（３−イソシアナト−４−メチルシクロ
ヘキシル）−ブチルイソシアネート８９５２が生じた。
を溶液から窒素で追い出し、溶液をきれいにした。溶媒
を１０ミリバール下で留去し、そして残渣を１０ｍのピ
グロー（Ｖｉｇｒｅｕｘ）カラムを介して蒸留した。沸
点１２５〜ｂ リバールの３−（３−イソシアナト−４−メチルシクロ
ヘキシル）−ブチルイソシアネート８９５２が生じた。
実施例６（使用実施例）
この目的はポリオール及び本発明によるジイソシアネー
トからポリウレタンラッカーを調製することであった。
トからポリウレタンラッカーを調製することであった。
用いたポリオールはアルカリ金属触媒を用いてトリメチ
ロールプロパンをプロピレンオキシドと３１− 反応させる仁とにより調製し、そしてＳＳＯのヒドロキ
シル数を有するポリエーテルであった。このポリオール
１４Ｚ４ｆをａ１重責チ（全Ｍ量を基準）のジブチルジ
ラウリルスズを加えて５−（５−インシアナト−４−メ
チルシクロヘキシル）−ブチルイソシアネート（実施例
５による）１３１．２Ｆと混合し、そして金属箔に塗布
した。
ロールプロパンをプロピレンオキシドと３１− 反応させる仁とにより調製し、そしてＳＳＯのヒドロキ
シル数を有するポリエーテルであった。このポリオール
１４Ｚ４ｆをａ１重責チ（全Ｍ量を基準）のジブチルジ
ラウリルスズを加えて５−（５−インシアナト−４−メ
チルシクロヘキシル）−ブチルイソシアネート（実施例
５による）１３１．２Ｆと混合し、そして金属箔に塗布
した。
８時間後にはラッカーの表面はもはや付着性ではなかっ
た。７１稜に、このラッカ一層はトルエン、アセトン及
びエチレングリコールニ酢酸塩の溶媒に耐性であり、そ
して高い弾力性及び耐引かき性（５ｃｒａｔｃｈ ｒｅ
ｓｉｓｔａｎｃｅ）を有していた。
た。７１稜に、このラッカ一層はトルエン、アセトン及
びエチレングリコールニ酢酸塩の溶媒に耐性であり、そ
して高い弾力性及び耐引かき性（５ｃｒａｔｃｈ ｒｅ
ｓｉｓｔａｎｃｅ）を有していた。
特許出願人 バイエル・アクチェンゲゼルシャフト第
１頁の続き ０発 明 者 ディーター・アルルト ドイツ連邦共和国デー５００ｏケル ン８０リブニッカー・シュトラ− セ２ ０発 明 者 ルドルフ・ブラデン ドイツ連邦共和国デー５０６８オー プンタール・ノート・ハウザー フエルト１
１頁の続き ０発 明 者 ディーター・アルルト ドイツ連邦共和国デー５００ｏケル ン８０リブニッカー・シュトラ− セ２ ０発 明 者 ルドルフ・ブラデン ドイツ連邦共和国デー５０６８オー プンタール・ノート・ハウザー フエルト１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 式 （夏） 式中、Ｒ１及びＲ３は同一であるか、または相異なるか
のいずれかであり、且つ水素または俳級アルキルを表わ
し、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことができる
、 の環式ケト−ブチルアルデヒド。 ２ 式（１） 式中、環式脂肪族環は二重結合を含むことができる、 の特許請求の範囲第１項記載の環式ケト−ブチルアルデ
ヒド。 五 式（ＩＩＩ） １ 式中、Ｒ１及びＲ１は同一であるか、ま友は相異なるか
のいずれかてあり、且つ水素または低級アルキルを表わ
し、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことができる
、 の環式ケトーオレフィンをロジウム−含有触媒の存在下
において５０〜２ＱＱ℃の温度範囲内及び少なくと本３
０バールの圧力下で一酸化炭素及び水素と接触させるこ
とを特徴とする環式ケト−ブチルアルデヒドの製造方法
。 （過剰の一酸化炭素及び水素を用いて反応を行う、特許
請求の範囲第３項記載の方法。 五 用いる触媒が含窒素、含リンまたは含イオウ配位子
０１種またはそれ以上を持つロジクム錯体である、特許
請求の範囲第３項記載の方法。 ４ ７０〜４００バールの圧力範囲内で反応を行う、特
許請求の範囲第３項記載の方法。 ｌ 式（Ｆ／） 式中、Ｒ１及びＲ２は同一であるか、または相異なるか
のいずれかでめ抄、且つ水素または低級アルキルを表わ
し、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことができる
、 のジイソシアネート。 ａ 式（１） 式中、Ｒ１及びＲ＊ ４２同一であるが、または相異な
るかのいずれかであり、且つ水素または低級アルキルを
表わし、そして環式脂肪族環は二重結合を含むことがで
きる、 の環式ケト−ブチルアルデヒドを水素化触媒の存在下に
おいて５０〜２８０℃の範囲温度で１０〜２００バール
の圧力にてアンモニア及び水素と接触させ、それＫより
式ｆｆ） 式中、Ｒ１及びＲ，は上記の意味を有し、そして環式脂
肪族環は二重結合を含むことができる、 のジアミンを生じさせ、その後該ジアミンを不活性溶媒
中で酸と反応させて塩を生じさせ、そして生じた塩を２
０〜２５０℃の範囲温度でホスゲンと反応させることを
特徴とする、式（Ｒ／）式中、Ｒ１及びＲ２は同一であ
るか、または相異なるかのいずれかであり、且つ水素ま
たは低級アルキルを表わし、そして環式脂肪族環は二重
結合を含むことができる、 のジイソシアネートの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE31359485 | 1981-09-10 | ||
| DE19813135948 DE3135948A1 (de) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | Cyclische keto-butyraldehyde, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von cyclischen diisocyanaten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857330A true JPS5857330A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=6141349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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