JPS5855567A - プラズマエツチング方法 - Google Patents
プラズマエツチング方法Info
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- JPS5855567A JPS5855567A JP15080181A JP15080181A JPS5855567A JP S5855567 A JPS5855567 A JP S5855567A JP 15080181 A JP15080181 A JP 15080181A JP 15080181 A JP15080181 A JP 15080181A JP S5855567 A JPS5855567 A JP S5855567A
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- JP
- Japan
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- etching
- cathode
- permanent magnets
- magnetic field
- etching method
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15080181A JPS5855567A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | プラズマエツチング方法 |
| EP81109891A EP0054201B1 (en) | 1980-12-11 | 1981-11-25 | Dry etching device and method |
| DE8181109891T DE3175576D1 (en) | 1980-12-11 | 1981-11-25 | Dry etching device and method |
| DD81235634A DD208011A5 (de) | 1980-12-11 | 1981-12-10 | Trockenaetzverfahren und -vorrichtung |
| US06/559,857 US4492610A (en) | 1980-12-11 | 1983-12-12 | Dry Etching method and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15080181A JPS5855567A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | プラズマエツチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855567A true JPS5855567A (ja) | 1983-04-01 |
| JPS6254191B2 JPS6254191B2 (esLanguage) | 1987-11-13 |
Family
ID=15504720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15080181A Granted JPS5855567A (ja) | 1980-12-11 | 1981-09-25 | プラズマエツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5855567A (esLanguage) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62241335A (ja) * | 1985-12-30 | 1987-10-22 | アプライド マテリアルズ インコ−ポレ−テツド | マグネトロン増強型プラズマエツチング法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5915982A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-27 | 松下電器産業株式会社 | グラフイツク表示装置 |
-
1981
- 1981-09-25 JP JP15080181A patent/JPS5855567A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5915982A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-27 | 松下電器産業株式会社 | グラフイツク表示装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62241335A (ja) * | 1985-12-30 | 1987-10-22 | アプライド マテリアルズ インコ−ポレ−テツド | マグネトロン増強型プラズマエツチング法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6254191B2 (esLanguage) | 1987-11-13 |
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