JPS5852993B2

JPS5852993B2 - プロスタグランジンルイジカゴウブツノセイゾウホウホウ

Info

Publication number: JPS5852993B2
Application number: JP15659775A
Authority: JP
Inventors: 実森田; 昌信成戸; 紀男成瀬; 伸太郎西尾; 清隆大野; 久竹内
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1975-12-30
Filing date: 1975-12-30
Publication date: 1983-11-26
Also published as: JPS5283435A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は一般式（ＤＩ）〔式中Ｚ１はカルボキシル基又は保護されたカルボキシ
ル基、Ｚ２は水酸基又は保護された水酸基、Ｚ３はヒド
ロキシメチル基又は水酸基の保護されたヒドロキシメチ
ル基、Ｚ４は水素原子又はアルキル基を示す〕で示され
るプロスタグランジン類似化合物の製造方法に関するも
のである。

さらに詳しくは、本発明は一般式（ＩＶ）〔式中Ｚ１〜Ｚ４は前記に同じ〕で示される化合物を酸
性条件で処理することを特徴とする一般式（）〔式中ｚ１．ｚ４は前記に同じ〕で示されるプロ
スタグランジン類似化合物の製造方法を提供するもので
ある。

本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、これをカルボニル還
元剤で処理するかあるいはグリニヤー試薬と反応させ、
続いて必要に応じて水酸基の保護基および／またはカル
ボキシル基の保護基を除去し一般式（Ｉ）〔式中ｚ１．ｚ４は前記に同じ、Ｚ５は水素原子又
はアルキル基を示す〕の化合物にすることができる。

又、一般式（ＩＶ）の化合物は、前記と同様にカルボニ
ル還元剤で処理するかあるいはグリニキ試薬と反応させ
、続いて必要に応じて水酸基Ｃ保護基および／またはカ
ルボキル基の保護基を財去することにより一般式Ｃ１１
）〔式中ｚ１．ｚ５は前記に同じ〕の化合物にする
ことができる。

本発明の最終目的物には、立体構造上、次の２種が存在
する。

ｃ式中Ｚ１〜Ｚ５は前記に同じ、又５員環から点線で伸
びた結合はα−配置即ち５員環平面から下に伸びた結合
を表わし、５員環から太い実線で伸びた結合はβ−配置
即ち５員環平面から上に伸びた結合を表わす〕本発明の方法によって得られる前記一般式（Ｉ）および
（ｎ）を有する化合物においては、置換基に結合してい
る水酸基の配置によってそれぞれ立体異性体が存在する
。

前記一般式（１）および（ＩＩ）においてはこれらの異
性体が全て単一の式で示されているが、これによって本
発明の記載の範囲は限定されるものではない。

プロスタグランジン類およびその類縁体は次の構造をも
ったブロスタン酸の誘導体であって骨格炭素原子の数え方は上式に示すとおりである
。

ブロスタン酸の系統的な名称は７（（２β−オクチル）
−シクロペント−１α−イル〕へブタン酸である。

プロスタグランジン類およびその類縁体はブロスタン酸
の誘導体として命名することができる。

本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）の化合物はブ
ロスタン酸を基本骨格として命名すると（９α、１１α
、１３Ｅ、１５８もしくは１５Ｒ）９．１５−ジヒドロ
キシ−１１−ヒドロキシメチル−プロスタ−１３−エン
−１−酸の１５，１５ジ置換−ω−ツルー誘導体であり
、同様に前記一般式（ＩＩ）の化合物は９（９α、１１
α、１３Ｅ１１５Ｓもしくは１５Ｒ）−９，１５−ジヒ
ドロキシ１１−ヒドロキシメチル−１２−イソプロスタ
１３−エン−１＝酸の１５，１５−ジ置換−ωノル誘導
体である。

プロスタグランジン類およびその誘導体の命名法につい
ては例えば、Ｎ、Ａ。

ネルラン、ジャーナル・オブ・メデイシナル・ケミスド
リー第１７巻９１１〜９１８頁（１９７４年）に記載さ
れている。

１２−イソブロスタン酸とは次式で表わされる。

ようなブロスタン酸の１２位の立体異性体を意味してい
る。

本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）を有する化合
物はブロスタン酸の１１位の置換基がヒドロキシメチル
基であり、加えて５，６位の炭素−炭素結合が飽和され
ていることに特徴を有するものであり、なかんずく前記
一般式（ＩＩ）を有する化合物は更に加えて５員環に結
合するすべての置換基がα配置をとっていることに特徴
を有するものである。

これらの意味から、本発明によって得られる前記一般式
（Ｉ）および（ＩＩ）を有する化合物は新規な化合物で
あり、また後述するように製法的にも全く新規な特徴を
有するものである。

本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）および（ＩＩ
）を有する化合物のうちＺｌがカルボキシル基であるも
のは、また、薬理上許容される塩の形にすることが出来
る。

薬理上許容される塩の形としては、例えば、ナトリウム
、カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の塩、アンモニウム塩、
テトラメチルア７−Ｅニウム、テトラエチルアンモニウ
ム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェニルトリエ
チルアンモニウムのような第四級アンモニウム塩、メチ
ルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルア
ミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチ
ルヘキシルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α
−フェニルエチルアミン、エチレンジアミンのような低
級脂肪族、低級脂環式および低級芳香脂肪族アミンの塩
、ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジン、
ピリジン、ｌ−メチルピペラジン、４−エチ′ルモルホ
リンのような複素環式アミンおよびそれらの低級アルキ
ル誘導体の塩、モノエタノールアミン、エチルジェタノ
ールアミン、２−アミン−１−ブタノールのような親水
性の基を含むアミンの塩等をあげることができる。

本発明によって得られる前記一般式（Ｉ）および（ＩＩ
）を有する化合物は動物試験および摘出臓器の試験にお
いて有意な生理作用を示した。

例えば前記一般式（Ｉ）を有する化合物のうちＺｌがカ
ルボキシル基、Ｚｌが水酸基、Ｚ３がヒドロキシメチル
基、Ｚ４がｎペンチル基、Ｚ５が水素でアリルアルコー
ル性水酸基がＳ配置のもの即ち（９α、１１α、１３Ｅ
１１５Ｓ）−９，１５−ジヒドロキシ−１１−ヒドロキ
シメチルプロスタ−１３−エン−１−酸はモルモット摘
出胃底筋を収縮させ（Ｍａｇｎｕｓ法による）、また摘
出モルモット気管筋収縮に対するヒスタミンの効果を増
強させた。

また前記一般式（ＩＩ）を有する化合物のうちＺｌがカ
ルボキシル基、Ｚｌが水酸基、Ｚ３がヒドロキシメチル
基、Ｚ４がｎ−ペンチル基、Ｚ５が水素のもの即ち、（
９α、１１α、１３Ｂ）−９，１５−ジヒドロキシ−１
１−ヒドロキシメチル−１２−イソプロスタ−１３−エ
ン−１−酸は摘出モルモット気管筋収縮に対するヒスタ
ミンの効果を抑制し、また妊娠ハムスターの黄体を退行
せしめて妊娠状態を終結させる効果を示した。

本発明の方法によれば、前記一般式（Ｉ）を有する化合
物は、一般式を有する化合物を還元するか、あるいはＺ５ＭｇＸ（Ｘ
はハロゲン原子、Ｚ５はアルキノ煤）で表わされるグリ
ニヤー試薬で処理し、続いて必要に応じて、水酸基の保
護基あるいはカルボキシル基の保護基を除去する反応に
任意の順序で付することによって得られる。

但し、一般式（ＩＩ）において、Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ
一般式（Ｉ）において説明したものと同意義を示してい
る。

ここでＺｌに含まれるカルボキシル基の保護基を除去し
て水素原子に置換する際に化合物の他の部分に影響を与
えないようなものであれば特に限定はなく、そのような
保護基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、。

−ブチル、イソブチル、イソプロピル、ｎ−オクチル、
２−エチルヘキシル、２−プロペニル、シクロヘキシル
メチル、ベンジルのような炭化水素基、２，２．２−ト
リクロルエチルのようなハロゲン化アルキル基、２−テ
トラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオピラニル、
２−テトラヒドロチェニル、４−メトキシテトラヒドロ
ピラン−４−イルのような複素環基等をあげることが出
来るが、これらの保護基に特に限定されるものではない
。

Ｚ２に含まれる水酸基の保護基としては、後にその保護
基を除去して水素原子に置換する際に除去反応によって
、化合物の他の部分に影響を与えないようなものであれ
ば特に限定はなく、そのような保護基としては例えば、
アセチル、クロルアセチル、プロピオニル、ベンゾイル
、ｐ−フェニルベンゾイルのようなアシル基、２，２．
２−トＩＪクロルエトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニルのようなエステルの炭
酸残基、トリメチルシリルのようなトリアルキルシリル
基、２−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロチェニル、４−メトキシテ
トラヒドロピラン−４−イルのような複素環基、メトキ
シメチル、エトキシメチル、１エトキシエチル、ｌ−メ
トキシシクロヘキサン１−イルのようなアルコキシ炭化
水素基、メチル、エチル、ベンジルのような炭化水素基
等をあげることが出来るが、これらの保護基に特に限定
されるものではない。

Ｚ３に含まれる水酸基の保護基としては後述するように
、アシル化条件によってエーテル環結合を切断して一般
式（Ｉ）の化合物が導かれてくることから好ましくはア
セチル、プロピオニル、ヘンソイル、クロルアセチル、
ｐ−フェニルベンゾイルのようなアシル基が望まれるが
、特に限定されるものではない。

後にその保護基を除去して水素原子に置換する際に、化
合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定
はなく、そのような保護基としては例えば、Ｚ２に含ま
れる水酸基の保護基として前述したものの中から任意に
選択される。

またＺ４は水素またはアルキル基であり、アルキル基の
うち具体的には炭素数１〜１０のアルキル基あるいは置
換アルキル基が好ましく用いられる。

Ｚ５は水素あるいはグリニヤ試薬を用いる場合はアルキ
ル基であって、特ｔこ炭素数１〜５のものが好ましく用
いられる。

本発明の方法によれば、また前記一般式（ＩＩ）を有す
る化合物は一般式を有する化合物を還元するかあるいはグリニヤ試薬で処
理し、続いて必要に応じて水酸基の保護基あをいはカル
ボキシル基の保護基を除去する反応に任意の順序で付す
ることによって得られる。

ただし一般式（ＩＶ）においてｚ１．ｚ４はそれ
ぞれ一般式（ＩＩ）において前述したものと同意義であ
る。

また、前記一般式（Ｉ）を有する化合物は、前記一般式
（ＩＶ）を有する化合物を酸性条件で処理して異性化さ
せることによって得られる。

ただし一般式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）においてＺ１〜
Ｚ４の意義は前述したとおりであり、水酸基あるいはカ
ルボキシル基の保護基としての内容も既に例示したとお
りである。

一般式（ＩＶ）を有する化合物は一般式を有する化合物をアシル化条件で処理することによって
得られる。

ただし、一般式ＣＶ）においてＺｌ、Ｚ２およびＺ４は
前述したものと同意義を示し、複素環結合の方向は、太
い実線で描かれた水素への結合の方向で規定されるもの
とする。

即ち一般式（Ｖ）の場合エーテル結合を含んだ５員環は
シクロペンクン環から下に折れ曲っている。

一般式（Ｖ）を有する化合物は一般式を有する化合物を接触水添することによって得られる。

ただし、一般式（ＶＩ）においてＺｌ、Ｚ２およびＺ４
の意味および結合の方向は前述したものと同意義である
。

次に本発明の方法（こついて更に詳細に説明する。

（ｌｌ［）の化合物から（））の化合物を得るにあたっ
て反応は溶剤の存在下または不存在下で還元剤もしくは
グリニヤー試薬を使用することによって達成される。

使用される還元剤としてはカルボニル基を水酸基に変換
する還元剤であれば特（こ限定はなく、例えば、水素化
ホウ素すＩ−ＩＪウム、水素化ホウ素カリウム、水素化
ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ト’Ｊ
ｔｅｒｔ−ブトキシリチウムアルミニウム、水素化トリ
メトキシリチウムアルミニウム、水素化シアノホウ素ナ
トリウムなどの水素化金属化合物が好適に用いられる。

使用されるグリニヤー試薬としはＺ’ＭｇＸで示される
エーテルもしくはテトラヒドロフラン中で金属マクネシ
ウムとアルキルハライドの反応によって調整した、アル
キルマグネシウムハライドが好適に用いられる。

反応は溶剤の存在下または不存在下で行われるが反応を
円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好ましく
、使用される溶剤としては、本反応に関与しなければ特
に限定はなく、例えば還元反応の場合にはメタノール、
エタノール、イソプロパツールなどのアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類の不活性
有機溶剤が用いられ、グリニヤー反応の場合には、エー
テル、テトラヒドロフランのようなエーテル類等の不活
性溶剤が好適に用いられる。

反応温度には特に限定はないが、副反応を抑えるために
は比較的低い温度が望ましく、通常は一２０℃乃至室温
で好適に行われる。

反応時間は主に反応温度、使用される反応試剤の種類に
よって異なるが、通常１分間乃至１時間である。

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
採取される。

例えば反応終了後反応混合物にギ酸、酢酸、シュウ酸、
酒石酸のような有機酸を加えて、過剰の還元剤あるいは
グリニヤー試薬を分解し、ついで有機溶剤を加えて抽出
を行ない抽出液を水洗、乾燥した後、抽出液より溶剤を
留去することによって得られる。

得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどを用い
て、更に精製することが出来る。

このようにして得られた前記一般式（Ｄを有する化合物
のうち水酸基あるいはカルボキシル基の保護基のついて
いるものは必要に応じて、それらの保護基を除去する反
応に付することか出来る。

水酸基の保護基を除去する反応は保護基の種類【こより
除去する条件が異なる。

水酸基の保護基が例えばアセチル、クロルアセチル、プ
ロピオニル、ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾイルのよ
うなアシル基、２，２．２−トリクロルエトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニルのような炭酸残基の場合は酸または塩基と接触させ
ることによって容易に達成される。

使用される酸または塩基としては例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの鉱酸、水酸化すｌ−ＩＪウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸塩などが好適に使用される。

通常は塩基性の条件で好適に行われる。

反応は溶剤の存在下または不存在下に実施されるが反応
を円滑に行うには溶剤を使用する方が好ましく、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定はな
く、例えば、水；メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類またはこれらの有機溶剤と水との混合物である水性
有機溶剤が好適に使用される。

反応温度には特に限定はなく室温ないし溶剤の還流温度
で行われる。

水酸基の保護基が例えばトリノチルシリルのようなトリ
アルキルシリル基の場合は、水または酸を含有する水と
接触させることによって容易に達成される。

酸を含有する水を使用する場合に含有される酸としては
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸
などの有機酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が特
に限定なく使用されうる。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われる。

通常は過剰の水を使用すれば他の溶剤は特に必要ではな
い。

他の溶剤を使用する場合は例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；メタノール、エタノール
などのアルコール類等の水と混和し易い有機溶剤が好適
に用いられる。

反応温度に特に限定はないが通常は室温で好適に行われ
る。

水酸基の保護基が例えば２テトラヒドロピラニル、２−
テトラヒドロチオピラニル、２−テトラヒドロチェニル
、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イルのような
複素環基；メトキシメチル、エトキシメチル、１−エト
キシエチル、■−メトキシシクロヘキサンー１イルのよ
うなアルコキシ炭化水素基の場合は酸と接触させること
によって容易に達成される。

使用される酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸
、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭化
水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われるが、反応
を円滑ｔこ行うには溶剤を使用する方が好ましく、使用
される溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく例えば、水；メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類またはこれの有機溶剤と水との水性有機溶剤が好適
に使用される。

反応温度には特に限定はなく室温ないし溶剤の遠側の還
流温度で行われ、特に室温で好適に行われる。

水酸基の保護基が例えばメチル、エチル、ベンジルのよ
うな炭化水素基の場合は三塩化ホウ素、三臭化ホウ素の
ようなハロゲン化ホウ素化合物と接触させることにより
容易に達成される。

反応は溶剤の存在下または不存在下に実施されるが反応
を円滑に行うには溶剤を使用する方が好ましく、使用さ
れる溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定はな
く、例えば、ジクロルメタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素が好適に使用される。

反応温度には特に限定はないが副反応を抑えるためには
比較的低温で行うのが望ましく、−３０℃ないし室温で
好適１こ行われる。

反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混
合物から採取される。

例えば反応終了後、反応の混合物に適当な有機溶剤を加
えて抽出を行い、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得られる。

得られた目的化合物は必要ならば通常の方法、例えばカ
ラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなど
を用いて更に精製することが出来る。

次にカルボキシル基の保護基を除去する反応は、保護基
の種類によってその除去条件が異なる。

カルボキシル基の保護基が例えばメチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、イソプロピル、ｎ
−オクチル、２−エチルヘキシル、２−フロヘニル、シ
クロヘキシルメチル、ベンジルのような炭化水素基の場
合は酸または塩基と接触させることにより達成される。

使用される酸または塩基は通常のエステルの加水分解に
使用される酸または塩基が特に限定なく使用され、例え
ば塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸または水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化バリウムなどのアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金
属およびアルカリ土類金属の炭酸塩等が好適に使用され
る。

通常は塩基性の条件で好適に行われる。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われるが反応を
円滑に進行させるためには溶剤を使用するほうが好まし
く、使用される溶剤としては本反応に関与しなければ特
に限定はなく例えば、水あるいは水とメタノール、エタ
ノールなどのアルコール類またはテトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類との混合溶剤が好適に用い
られる。

カルボキシル基の保護基が例えば２，２．２−ＭＪクロ
ルエチルのようなハロゲン化アルキルの場合は亜鉛−酢
酸と接触させることにより達成される。

反応は溶剤の存在下または不存在下で行われるが、反応
を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好まし
く、使用される溶剤としては本反応に関与しなければ特
に限定はなく例えば水：テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類：メタノール、エタノールなどのア
ルコール類またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が
好適に使用される。

反応温度には特に限定はなく通常は室温で好適に行われ
る。

カルボキシル基の保護基が例えば、２−テトラヒドロピ
ラニル、２−テトラヒドロチオピラニル、２−テトラヒ
ドロチェニル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−
イルのような複素環基の場合は酸と接触させることによ
り達成される。

使用される酸としては、例えば蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下で実施されるが、反
応を円滑に行うには溶剤を使用する方が好ましく、使用
される溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく、例えば水；メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類：テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適に
使用される。

反応温度には特に限定はなく室温ないし溶剤の還流温度
で行われ、特に室温で好適に実施される。

例えば反応終了後、反応混合物に適当な有機溶剤を加え
て抽出を行い、抽出液より溶剤を留去することによって
得られる。

得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーによって更
に精製することが出来る。

（ＩＶ）の化合物から（ＩＩ）の化合物を得る反応は一
般式（Ｉ）を有する化合物から一般式（Ｉ）を有する化
合物を得る反応として前述した方法と全く同一である。

即ち（１）の代わりに（ＩＶ）を用いて反応を実施すれ
ばよい。

前記一般式（Ｉ）を有する化合物は、前記一般式（ＩＶ
）を有する化合物を酸性条件で処理することによって得
られる。

本発明の方法を実施するに当って反応は溶剤の存在下ま
たは不存在下に酸と接触させることにより達成される。

使用される酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、シュウ酸、マロン酸などの有機酸；メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のよ
うな有機スルホン酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱
酸が単独あるいは組み合わされて好適に使用され、特に
限定はないが、有機酸と有機スルホン酸の組み合わせが
特に好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下で行われ、使用され
る溶剤としては本反応に関与しないものであれば特に限
定はない。

酸として有機酸を使用する場合には特に他の溶剤を共存
させなくても反応は円滑に進行し、望ましくは、酢酸−
ｐ−トルエンスルホン酸の組み合わせで特に好適に進行
する。

反応温度には特に限定はなく通常室温ないし溶剤または
液体有機酸の還流温度で好適に行われる。

反応時間は主に反応温度、使用される酸の種類（こよっ
て異なるが通常数時間で、例えば薄層クロマトグラフィ
ーのような分析手段によって反応終了を知ることが出来
る。

例えば反応終了後、反応混合物から揮発性の有機酸を使
用していればそれを減圧蒸留によって除去した後、有機
溶剤を加えて抽出を行い、抽出液を弱アルカリ水溶液例
えば重曹水のようなもので洗った後、水洗、乾燥し、し
かる後に溶剤を留去することによって得られる。

得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどの手段
によって更に詳製することが出来る。

前記一般式（■を有する化合物をアシル化条件で処理す
ることによって前記一般式（ＩＶ）を有する化合物が得
られる。

本発明の方法を実施するにあたって反応は溶剤の存在下
または不存在下において、アシル化剤を使用することに
よって達成される。

使用されるアシル化剤としては特に限定はなく、無水酢
酸、無水プロピオン酸などの酸無水物もしくはアセチル
クロライド、プロピオニルクロライド、ベンゾイルクロ
ライドなどの酸ハロゲン化物が好適に使用され、通常は
これらとピリジントリエチルアミンなどの塩基もしくは
、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの
有機スルホン酸のような酸との組み合わせによって反応
は達成され、酸無水物とｐ−トルエンスルホン酸の組み
合わせが特に好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われ、使用され
る溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定はない
が、酸無水物を使用する場合には溶剤の不存在下で反応
は円滑に進行する。

反応温度には特に限定はなく、室温ないし溶剤もしくは
酸無水物の還流温度で行われるが特に好適には５００な
いし１００’Ｃで行われる。

反応時間は主に反応温度と使用されるアシル化剤の種類
によって異なるが通常数分間ないし数時間である。

反応終了は例えば薄層クロマトグラフィーのような分析
手段によって知ることが出来る。

反応終了後目的化合物は通常の手段によって反応混合物
から採取される。

例えば反応終了後、過剰のアシル化剤を減圧蒸留によっ
て除去した後、有機溶剤を加えて抽出を行い、弱アルカ
リ水溶液例えば重曹水のようなもので洗った後、水洗、
乾燥し、しかる後に溶剤を除去することによって得られ
る。

得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどの手段
によって更に精製することが出来る。

目的とする最終化合物が前記一般式（Ｉ）を有する化合
物であって、その原料である前記一般式（Ｉｆ）を有す
る化合物が必要な場合には、本反応で得られた化合物（
ＩＶ）は特に精製することなく次の反応（■→■）に付
することか出来、むしろその方が望ましい。

例となれば、本反応によって前記一般式（ＩＶ）を有す
る化合物とともに前記一般式（ＩＶ）を有する化合物に
おいて共役ケトンがエノル化され、その共役エノールの
アシル化生成物が副生じて、この化合物は次の反応にお
いて前記一般式（ＩＶ）を有する化合物と同様に前記一
般式（Ｉ）を有する化合物に変換されるからである。

前記一般式（ＶＩ）を有する化合物を接触水添すること
によって、前記一般式（Ｖ）を有する化合物が得られる
。

本発明の方法を実施するに当って、通常の接触水添触媒
が使用される。

使用される接触水添触媒としては特に限定なく、パラジ
ウム−炭素、白金−炭素、パラジウム黒、ラネーニッケ
ルなどのような不均一系触媒もしくはクロロトリス（ト
リフェニルホスフィン）ロジウムなどのような有機金属
錯体の均一系触媒などが好適に使用される。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われるが反応を
円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好ましく
、使用される溶剤としては本反応に関与しなければ特に
限定はなく、例えばメタノール、エタノールなどのアル
コール類ニジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、シフライムなどのエーテル類；ベンゼン、ト
ルエン、シクロヘキサン、などの炭化水素類；酢酸エチ
ルなどのエステル類；酢酸、プロピオン酸などの有機カ
ルボン酸類；ジオチルホルムアミドなどのジアルキルホ
ルムアミド類が好適に使用される。

反応は常圧でも加圧でもよく水素と接触させることによ
り簡便に行われる。

反応温度には特に限定はないが、副反応を抑えるために
は比較的低温が望ましく通常は０℃ないし室温において
好適に行われる。

反応時間は通常数分間ないし数時間で、水素吸収量もし
くは薄層クロマトグラフィーのような分析手段によって
反応終了を知ることが出来る。

例えば反応終了後、ケイソウ士、セライトなどを通じて
反応混合物を口過し、０液から溶剤を除去することによ
って得られる。

得られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムク
ロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどの手段
によって精製することが出来る。

本発明の方法を実施するに当って原料化合物として使用
した前記一般式（ＶＩ）を有する化合物は新規な化合物
であり、例えば次のような方法で製造することが出来る
。

上記式中、Ｚｌ、Ｚ２およびＺ４の表わす意味は、前述
したものと同じである。

Ａは保護されたカルボニル基を示す。

カルボニル基の保護基としては第４工程即ちアルコール
をアルデヒドに酸化する工程において変化を受けないよ
うなものならば特に限定はなく、そのような保護基で保
護されたカルボニル基としては例えば、メチレンジオキ
シ、エチレンジオキシのようなアルキレンジオキシ基；
ジメトキシ、ジェトキシのようなジアルコキシ基；エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキレンジ
チオ基；オキシムなどをあげることが出来るがこれらの
保護基に特に限定されるものではない。

ここにおいてＺ４がアルキル基を示す場合に限りＡはま
た酸素原子を示す。

Ａが酸素原子を示す場合には第３工程と第７エ程即ちカ
ルボニル基を保護する工程とカルボニル基の保護基を除
去する工程は省略することが出来る。

この場合第５工程即ち後述するウイテイツヒ反応におい
てアルデヒドとケトンが両方存在することになるが、ウ
イテイツヒ反応はアルデヒドに優先的に起るので一般式
（Ｗで示される化合物が主として生成する。

ここで原料化合物として使用した前記一般式（ＶＩＩ）
を有する化合物は既知化合物であり、その合成法には例
えば、藤瀬、丸い、字画、市原、恵沢、日本化学雑誌第
８２巻３６７頁〜３７２頁（１９６１年）に記載されて
いる方法がある。

以下、第１工程から第７エ程まで順を追って説明する。

第１工程はアルコールを保護する反応でありＺ２に含ま
れる保護基としては以下に続く工程中で変化しないもの
が選ばれる。

第２工程はアルドール縮合類似反応であって一般式を有する化合物と四塩化チタン、四塩化錫、三塩化アル
ミニウム、三フッ化ホウ素エーテラートなどのルイス酸
を反応試剤として用いることによって達成される。

ここにＺ６はアセチル、プロピオニルなどのアシル基；
メチル、エチルなどのアルキル基；トリメチルシリルな
どのトリアルキルシリル基を示している。

四塩化チタンを用いる反応については例えば向い、伊沢
、西都、ケミストリー・レターズ、（１９７４年）３２
３−３２６頁に記載されている。

第３工程はカルボニル基を保護する反応であり、カルボ
ニル基の保護基としては以下に続く第４工程において変
化しないようなものが選ばれる。

第４工程はアルコールを酸化してアルデヒドにする反応
であって、酸化剤としては化合物中の他の部分に関与し
なければ特に限定はないが通常、クロム酸−ピリジン錯
体（コリンズ試薬）が好適に使用される。

第５工程はウイテイツヒ反応であって式で表わされるホスホニウムインドと前記一般式個）を有
する化合物との反応によって、前記一般式（Ｘｎ）を有
する化合物が得られる。

第６エ程はカルボン酸を保護する反応であってカルボン
酸の保護基としては以下に続く工程で変化を受けないも
のが選ばれる。

第７エ程はカルボニル基の保護基を除去する反応である
。

ここで第６エ程と第７エ程は順序を逆にして実施するこ
とも出来る。

即ち、カルボニル基の保護基を除去する反応を先に行っ
てしかる後にカルボン酸を保護する反応を行うことも出
来る。

反応終了後、各工程の目的化合物は通常の方法によって
反応混合物から採取され得られた目的化合物は必要なら
ば常法例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロマト
グラフィー、あるいは製造的高速液体クロマトグラフィ
ーなどの手段によって更に精製することが出来る。

次に実施例および参考例をあげて、本発明の方法を更に
具体的に説明するが、もちろんこれらによって本発明の
範囲が限定されるものではない。

実施例においては略号として次のものを使用した。

ｍｐ：融点（未補正）ｔｌｃ：薄層クロマトグラフィ（特記なき限り、メルク社製シリカゲル薄層板アート・５７１５を使用）ｉｒ：赤外吸収スペクトルｍａｓｓ：質量スペクトルｎｍｒ：核磁気共鳴吸収スペクトル（プロトン
１００ＭＨｚで測定）１ＳＣ−ｎｍｒ：炭素−１３核磁気共鳴吸収スペクトル〔α〕Ｄ：旋光度ｉｒのデータは主要なピークのみ記載した。

ｍａｓｓのデータは親ピークもしくはそれに対応するピ
ークのみ記載した。

実施例１（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−ヒドロキシ−プロス
タ−１３−エン−１−酸メチルエステル（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−オキソ−プロスタ−
１３−エン−１−酸メチルエステル１９１■を２０−の
メチルアルコールに溶解し、この溶液をＯ′ＣＩこ冷却
して撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム１３■を加え
る。

１０分後、酒石酸水素ナトリウムの飽和溶液２ＴＬｌを
加えて、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解し、更に
、反応液を弱酸性にする。

減圧下にメチルアルコールを除去してから、残りを酢酸
エチル１５０ｍ１で抽出し、酢酸エチル抽出液を少量の
食塩水で洗浄したのち硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を
留去することによって目的の（９α、１１α、１．３Ｅ
）１１−アセチルオキシメチル−９−ベンゾイルオキシ
−１５−ヒドロキシ−プロスタ−１３−エン１−酸メチ
ルエステル１９７７ｎＩ？を得た。

このものは、１５８体と１５Ｂ体の混合物であり、他に
若干の不純物を含んでいる。

目的化合物の精製および１５８体と１５Ｂ体の分離は、
薄層クロマトグラフィーを用いて行った。

即ち、上記で得た生成物を２關厚のシリカゲル薄層板（
２０ｃｒｆ１．×２０ＣｒｆＬ）２枚を使用し、シクロ
ヘキサン：酢酸エチル７：３の混合溶剤で３回展開する
ことによって分離精製することが出来る。

Ｒｆ値０．２３から０．２９の範囲の薄層をかき取って
酢酸エチル２００就で抽出し、酢酸エチルを除去するこ
とによって、１５８体即ち（９α。

１１α、１３Ｂ、１５８）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−ヒドロキシ−プロス
タ−１３−エン−１−酸メチルエステル７６．５１ｎ９
を得た。

Ｒｆ値０．３１から０．３７の範囲の薄層をかき取って
酢酸エチル２００ｍ１で抽出し、酢酸エチルを除去する
ことによって１５Ｒ体即ち（９α、１１α。

１３Ｅ、１５Ｒ）−１１−アセチルオキシメチル９
−ベンゾイルオキシ−１５−ヒドロキシ−プロスタ−１
３−エン−１−酸メチルエステル８１．６■を得た。

目的化合物１５８体および１５Ｂ体は次の分析手段によ
り確認した。

ｔｎｃ：（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４）１５
８体：Ｒｆ＝０．２３１５Ｂ体：Ｒｆ＝０．２８ｉｒ（液膜） ν の−１１５Ｓ体：３４５０２９２０２８５０１７３５
１７１５１６００９７０７１５１５Ｂ
体：３５００２９２０２８５０１７３５１７１
５１６００９７０７１５αＤ１５８体：〔α〕某−＋５０．７゜（Ｃ＝１．５３メタノール）１５Ｂ体：〔α〕鴬−＋３３．４゜（Ｃ＝１．６３２メタノール）ｎｍｒ（ＣＤｃ１３） δｐｐｍ（ＴＭＳから）１
５Ｓ体：０．９０（ｔ３Ｈ）１．０〜２．５
（Ｃ２５Ｈ）（１，９０８３Ｈを除く）１．９０
（Ｓ３Ｈ）３．５７（８３Ｈ）３．７〜４．３（Ｃ３Ｈ）５．３〜５．６（Ｃ３Ｈ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）１５Ｅ体：０．９０（ｔ３Ｈ）１．０〜２．
６（Ｃ２５Ｈ）（１，９０Ｓ３Ｈを除く）１．９０
（Ｓ３Ｈ）３．５８（Ｓ３Ｈ）３．７〜４．３（Ｃ３Ｈ）５．２〜５．７（Ｃ３Ｈ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）実施例２（９α、１１α、１３Ｂ、１５８） −９，１５ジヒド
ロキシ−１１−ヒドロキシメチル−プロスタ−１３−エ
ン−１酸実施例１で得た（９α、１１α、１３Ｅ、ｔ５Ｓ）１１
−アセチルオキシメチル−９−ベンゾイルオキシ−１５
−ヒドロキシ−プロスタ−１３−エン−１−酸メチルエ
ステル７６．５ｍ１ｌとメタノール３７７１１および１
規定水酸化力リウム水溶液３ｍｌの混合物を室温で１０
時間撹拌する。

シュウ酸飽和水溶液少量を加えて、反応液をｐＨ３にし
、メチルアルコールの大部分を減圧下に除去してから残
った水層を酢酸エチル１００ＴＩＬｌで抽出する。

酢酸エチル抽出液を少量の飽和食塩水で洗ってから、硫
酸ナトリウムで乾燥し、酢酸エチルを留去することによ
って、６８ｍ９の淡黄色半固体状の物質を得る。

シリカゲ゛ルー６０４ｇを用いてカラムクロマトグラフ
ィーを行いクロロホルム中２咎ないし２０饅のメチルア
ルコールを含んだ溶媒で溶出、２０ｍ１のフラクション
を２５本取る。

１１番目から２２番目までのフラクションを集めて濃縮
することにより、純粋な目的化合物（９α、１１α。

１３Ｅ、１５Ｓ）−９，１５−ジヒドロキシ１１−ヒド
ロキシメチルプロスタ−１３−エン−１−酸３９■が得
られた。

９番目、１０番目および２３番目のフラクションを合せ
て濃縮することにより、少量の不純物を含んだ目的化合
物（９α。

１１α、１３Ｅ、１５８）−９，１５−ジヒドロキシ−
１１−ヒドロキシメチルプロスタ−１３エン−１−酸１
４■が得られた。

目的化合物は次の分析手段により確認した。

ｔｌＣ：（ベンゼン：ジオキサン：酢酸２０：１０：１）Ｒｆ＝０．３０ｔｌｃ：（塩化メチレン：メタノール５：１）Ｒｆ＝
０．２０ｍｐ：６４〜６８°Ｃ１α）２４５５′ｌ＝＋２８．３° （Ｃ＝０．８
６５メタノール）ｉｒ：（ＫＢｒ）ｖ
ｃｒｒｔ’３４００２９２０１７０５９６
５ｎｍｒ：（ＣＤｃＡｓ） δ ｐｐｍ（ＴＭＳか
ら）０．８７（ｔ３Ｈ）１．０〜２．５（Ｃ２５Ｈ）３．５７（ｍ２Ｈ）３．９〜４．３（ｍ２Ｈ）５．４６
（ｍ２Ｈ）７．０（Ｓ４Ｈ）１３Ｃ−ｎｍ
ｒ（ＣＤｃ１２）δ ｐｐｍ（ＴＭＳから低磁場へ）１７７．６７４１３４．０８３１３３．４１
８７２．６２３６３．５２２５２．０５６
４７．６８７４５．１３９３７．０７０（２Ｃ）
３３．７３３３１．６０９２９．０６１２８．４５
４２７．４２３２６．５１３２５．１
１８２４．４５０２２．５６９１３．９
５４実施例３（９α、１１α、１３Ｅ、１５Ｒ） −９，１５ジヒド
ロキシ−１１−ヒドロキシメチル−プロスタ−１３−エ
ン−１−酸実施例１で得た（９α、１１α、１３Ｅ。

１５’Ｒ）−１１−アセチルオキシメチル−９−ペンゾ
イルオキシ−１５−ヒドロキシ−プロスタ−１３−エン
−１−酸メチルエステル８１．６１ｎｇトメチルアルコ
ール３ｍｌおよび１規定水酸化カリウム水溶液３ＴＬｌ
の混合物を室温で１７時間撹拌する。

シュウ酸飽和水溶液を加えて反応液のＰＨが３になるよ
うに調整し、メチルアルコールの大部分を減圧下に除去
してから残った水層を酢酸エチル１００７７１１で抽出
する。

酢酸エチル抽出液を少量の飽和食塩水で洗ってから、硫
酸ナトリウムで乾燥し酢酸エチルを留去することによっ
て９０．８ｍｇの半固体状淡黄色の物質を得る。

酸性シリカゲル（マリンクロット社製シリツクＡＲ−
ＣＣ４）７ｇを用いてカラムクロマトグラフィーを行い
、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：１）の混合溶媒で
溶出３０ＴｒＬｌのフラクションを１４本取る。

４番目から１１番目までのフラクションを集めて濃縮す
ることにより純粋な目的化合物（９α、１１α、１３Ｅ
。

１５Ｒ）−９，１５−ジヒドロキシ−１１−ヒドロキシ
メチルプロスタ−１３−エン−１−酸４６．２■が得ら
れた。

目的化合物は次の分析手段により確認した。

ｔＺＣ：（ベンセン：ジオキサン：酢酸２０：１０：
１）Ｒｆ＝０．４０ｉｒ：（ＫＢｒ）ｖｍ ’３４００
２９２０１７００９６５ｎｍｒ：（ＣＤｃ
１３） δ ｐｐｍ（ＴＭＳから）０．８７
（ｔ３Ｈ）１．０〜２
．５（Ｃ２５Ｈ）３．５７
（ｍ２Ｈ）この場合、１５位の
水酸基の配置は薬理活性の犬なることをもって１５Ｓ体
と仮定した。

１７番目から２７番目までのフラクションを集めて濃縮
することにより、純粋な（９α、１１α、１３Ｅ、
１５Ｒ）−９，１５−ジヒドロキシ−１１−ヒドロキシ
メチル−１２−イソプロスタ−１３−エン−１〜酸１３
１ｎＩ？を得た。

１１番目から１６番目までのフラクションを集めて濃縮
することにより、上記２種の化合物３６．５Ｔｎ９を得
た。

次の分析手段により確認した。

ｔｌＣ（ベンゼン：ジオキサン：酢酸２０：１０：１
）１５Ｓ体Ｒｆ＝０．３５１５Ｅ体Ｒｆ＝０．２５ｐ１５８体７８〜８１°Ｃ１５Ｅ体結晶しなかった。

ＣＤ１５３体〔α−１）＝＋１８°（Ｃ＝１．６８クロロホ
ルム）１５Ｅ体〔α）Ｄ−＋９°（Ｃ＝０．４３クロロ
ホルム〕ｉｒ： νｃｒｃ１１５８体：３４７０２９２０２８５０１７１０８
０１５Ｅ体：３４５０２９２０２８５０１７１０８
０ｎｍｒ（ＣＤｃＡ３）１５８体：０．９０（ｔ３Ｈ）１
．０〜３．０（Ｃ２５Ｈ）３．５８（ｄ２Ｈ）３．９〜４
．４（ｍ２Ｈ）５．１８
（Ｓ４Ｈ）５．５〜５．９（
ｍ２Ｈ）１５Ｅ体：０．９０（ｔ
３Ｈ）１．０〜３．０（Ｃ２５Ｈ）３．５８（ｄ２Ｈ）３．９〜４
．４（ｍ２Ｈ）５．２
（Ｓ４Ｈ）５．５〜５．９（
ｍ２Ｈ）３、’Ｊ−４，３（ｍ２Ｈ）５．４６（ｍ２Ｈ）７
（Ｓ４Ｈ）実施例４（９α、１１α、１３Ｅ）−９，１５−ジヒドロキシ−
１１−ヒドロキシメチル−１２−イソプロスタ−１３−
エン−１−酸（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−オキソ−１２−イソ
プロスタ−１３−エン−１−酸メチルエステル３３６１
ｎ９を３０−のアルコールに溶解し、水素化ホウ素す）
ＩＪウム３０ｍｇを加える。

室温で２時間撹拌したのち減圧下にアルコールを留去し
、続いてメチルアルコール１０ｍ１と水酸化カリウムの
６係水溶液１０ＴＬｌを加え２時間室温で撹拌した後、
７０℃の油浴中で１時間加熱しながら撹拌する。

水流ポンプによる減圧下にメチルアルコールの大部分を
留去したる後、残った水層をシュウ酸飽和水溶液でＰＨ
２に調整する。

水層を酢酸エチル１７０ｍ１で数回に分けて抽出し、酢
酸エチル抽出液を合して少量の食塩水で洗浄したのち、
硫酸すｌ−’Ｊウムで乾燥し溶剤を留去することによっ
て目的の粗（９α、１１α、１３Ｅ）−９゜１５−ジヒ
ドロキシ−１１−ヒドロキシメチルイソプロスタ−１３
−エン−１−酸約０．５．９（不純物を含む）が得られ
た。

これを酸性シリカゲル（マリンクロット社製シリツ
クＡＲ−ＣＣ４）２（Ｂｉ’を使用したカラムクロマト
グラフィーに供し、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：
１）の混合溶媒で溶出３０ｍ１のフラクションを２７本
取る。

４番目から１０番目までのフラクションを集めて濃縮す
ることにより純粋な（９α、１１α、１３Ｅ。

１５Ｓ）−９，１５−ジヒドロキシ−１１−ヒドロキシ
メチル−１２−インプロスタ−１３−エン１−酸８５■
を得た。

但し、実施例５（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５オキソ−プロスタ−１
３−エン−１−酸メチルニスアル（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−オキソ−１２−イン
プロスタ−１３−エン−１−酸メチルエステル６４０■
を１００Ｍの酢酸に溶解し、これにＰＬ−ルエンスルホ
ン酸５００■を加えて、１１０°Ｃの油浴中で加熱しな
がら撹拌する。

９時間後、減圧下に酢酸を除去したのら、残りの油状物
質を１２０ｇのシリカゲルを使用してカラムクロマトグ
ラフィーで精製する。

塩化メチレンを溶媒として展開溶出して１００ｒＩｌｌ
のフラクションを順次採取し、１７番目、１８番目のフ
ラクションを集めてこれを濃縮することにより、純粋な
目的化合物（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチル
オキシメチル−９−ベンゾイルオキシ−１５オキソ−プ
ロスタ−１３−エン−１−酸メチルエステル２０４■を
得た。

また、１４番目から１６番目までのフラクションと１９
番目から２１番目までのフラクションを集めてこれを濃
縮することにより、不純物若干を含む目的化合物を２０
６１ｎＩ？得た。

目的化合物は次の分析手段により確認した。

ｔｌＣ（シクロヘキサン：酢酸エチル８：２２回展開）
Ｒｆ＝０．２６〔α〕早−十６５．６° （Ｃ＝１．１２８メタノ
ール）ｉｒ（液膜）シｃｒｒＬ−１２９２０２８５０１７４０１７１５１６７０１
６３０１６００７１５ｎｍｒ（Ｃｃｌ＋）δ
ｐｐｍ（ＴＭＳから）０．９２（ｔ
３Ｈ）１．１〜２．６（Ｃ２５Ｈ）（１，８６Ｓ３Ｈを除
く）１．８６（Ｓ３Ｈ）３．５６（Ｓ３Ｈ）４．０１（ｍ２Ｈ）５、’４６（ｍＩＨ）６．１２（ｄＩＨ）６．５８（ｄｄＩＨ）７．３〜７．５（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）１３Ｃ−ｎｍｒ（ｃＤｃ１４）δｐｐｍ（ＴＭＳか
ら低磁場へ）１９９．１８６１７３２１８
１７０．１２２１６４．９６７１４６．９４５
１３２／１４７１３０．６８５１２９．７
１４１２８．８０７（２Ｃ）１２７Ｂ９５（２Ｃ）７６
０２１６６．４３４５１．１４５５０．
４１７（２Ｃ）４２３４８４０．６４９３５．３
７１３３．７９４３１３６６
２９２４３２８．７５８２７５４４（２Ｃ）２
４．６９３２３．７８３２２．３８７２
０．６２８１３８９３実施例６（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−オキソ−１２−イン
プロスクー１３−エン−１酸メチルエステル（９α、１３Ｒ）−９−ペソゾイルオキシ１５−オキソ
−１２−イソ−１３，１１α−エポキシメタノプロスク
ン−１−酸メチルエステル１．５ｇとＰ−１ルエンスル
ホン酸１．５ｇを７５ｍ１！の無水酢酸に溶解し、この
混合物を撹拌しながら７０℃油浴中で加熱する。

９０分後減圧下に無水酢酸を除去し、残渣を１７０ｍ１
の酢酸エチルに溶かして酢酸エチル溶液を炭酸水素ナト
ｌ）ラム水溶液少量で洗い、続いて食塩水少量で洗った
のち、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶剤を留去することに
よって油状物質１．６１ｇを得た。

この油状物質をシリカゲル１５０ｇを使用したカラムク
ロマトグラフィーに供し、酢酸エチル５多ないし２０φ
を含んだシクロヘキサンで溶出して、１ｏｏｙずつのフ
ラクションを順次採取する。

４２番目から５３番目までのフラクションを集めて濃縮
することにより、純粋な目的化合物（９α、１１α。

１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチル−９−ベンゾイ
ルオキシ−１５−オキソ−１２−イソプロスタ−１３−
エン−１−酸メチルエステル１．０３ｇを得た。

３７番目から４１番目までのフラクションを集めて濃縮
することによって、目的化合物と目的化合物の共役ケト
ンがエノル化してアセチル化された化合物の混合物０．
４６８９を得た。

目的化合物は次の分析データより確認した。

ｔｌＣ（シクロヘキサン：酢酸エチル８：２２回展開）
Ｒｆ＝０．２３３〔α）１）＝＋２７．３° （Ｃ＝１．９９４
メタノール）ｉｒ（液膜）ｖｃｒｎ−’ ２９２０２８５０１７３５１７１０１６７０１
６２５１６００７１５ｎｍｒ（ＣｃＡ４）
δ ｐｐｍ（ＴＭＳから）０．９０（ｔ
３Ｈ）１．１〜３．０（Ｃ２５Ｈ）（１，９３Ｓ３Ｈを除
く）１．９３（Ｓ３Ｈ）３．５７（Ｓ３Ｈ）３．９４（ｄ２Ｈ）５．５０（ｍＩＨ）６．０８（ｄＩＨ）７．０３（ｄｄＩＨ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）１３Ｃ−ｎｍｒ（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ（ＴＭＳ力ら
低磁場へ）１９８．８８５１７３２１８１６９
８７９１６５．０２５１５４．１１９１
４３０６２１２８．８０７（２Ｃ）１２７．９５７（２Ｃ）５１．
１４５４９ＤＢ３４０．０４３３５８５６２９．１２２２８１９２４．６９３２３８４４１３．８３３３２３２６５８９９４８．０５１３３．７９４２７．４２３２３８７１２９．５９３６４．８５７４１．６２０３１．３６６２５．９６７２０．６８９実施例７（９α、１１α、１３Ｅ）−１１−アセチルオキシメチ
ル−９−ベンゾイルオキシ−１５−オキソ−プロスタ−
１３−エン−１−酸メチルエステル実施例６のカラムクロマトグラフィーで３７番目から４
１番目までのフラクションを集めて濃縮して得て混合物
０．４６８．９のうら、５７．４ｒＩＩｇを実施例５に
示したと同様の反応条件に付する。

即ち、７ｒｕｌの酢酸に溶解して、これに６５■のＰ−
１ルエンスルホン酸を加え、１１０’Ｃ油浴中で加熱し
ながら撹拌する。

４時間後減圧下に酢酸を除去し、残りを酢酸エチル３０
ｍ１に溶かして、これを少量の飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、続いて少量の食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで
乾燥したのち、酢酸エチルを留去することによって、４
９．５■の油状物質を得る。

このものを２關の厚さに調整されたシリカゲル薄層板（
８ｃｒｒＬ×２０ＣｒｒＬ）を使用してシクロヘキサン
−酢酸エチル８：２の混合溶媒で展開し対応するバンド
をかき取って酢酸エチルで抽出しシルカゲルを口過する
ことによって除去した後酢酸エチルを留去することによ
って、純粋な目的化合物（９α、１１α、１３Ｅ）−１
１−アセチルオキシメチル−９−ベンゾイルオキシ−１
５−オキソ−プロスタ−１３−エン−１酢酸メチルエス
テル３０ｍ９を得た。

次の分析データより確認した。

ｔｌＣ（シクロヘキサン：酢酸エチル８：２２回展開）
Ｒｆ＝０．２６ｉｒ（液膜） ν α−１２９２０２８
５０１７４０１７１５１６７０１６３０１６００７１５ｎｍｒ（ＣｃＡ！４） δｐｐｍ（ＴＭＳ
から）０．９２（ｔ３Ｈ）１．１〜２．６（Ｃ２５Ｈ）（１，８６８３Ｈを除
く）１．８６（Ｓ３Ｈ）３．５６（Ｓ３Ｈ）４．０１（ｍ２Ｈ）５．４６（ｍＩＨ）６．１２（ｄ１Ｈ）６．５８（ｄｄＩＨ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）実施例８（９α、１３Ｒ）−９−ベンゾイルオキシ１５−オキソ
−１２−イソ−１３，１１α−エポキシメタノプロスク
ン−１−酸メチルエステル（５Ｚ、９α、１３Ｒ）−９−ベンゾイルオキシ−１５
−オキソ−１２−イソ−１３，１１α−エポキシメタノ
プロスタ−５−エン−１−酸メチルエステル２．５９ｇ
とクロロトリストリフェニルホスフィンロジウム３００
ｍ＆、アルコール５０ｍ１およびベンゼン５０ＴＬｌの
混合物を１気圧の水素と接触させながら３時間撹拌する
。

減圧下にアルコールとベンゼンを除去し、残渣をジエチ
ルエーテル−ｎ−ペンタン（１：１）の混合溶媒２００
ｍ１で抽出し、抽出液を口過したのち溶剤を留去するこ
とによって、２．７１ｇの油状物質が得られた。

これをシリカゲル１００ｇを用いたカラムクロマトグラ
フィーに供し、塩化メチレンで溶出する部分を集めて濃
縮することにより純粋な目的化合物（９α、１３Ｒ）−
９−ベンゾイルオキシ−１５オキソ−１２−イソ−１３
，１１α−エポキシメタノプロスクン−１−酸メチルエ
ステル２．１７ｇが得られた。

目的化合物は次の分析データより確認した。

ｔｉｃ（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４）Ｒｆ＝
０．４３原料Ｉ（ｆ＝０．４３ｔｌＣ（硝酸銀塗付シリカゲ′）Ｌ／）（ベンセン：
酢酸エチル１０：１２回展開）Ｒｆ＝０．５０原料Ｒｆ、＝０．３６〔α）Ｄ −＋５３．９° （Ｃ＝１．４４６メタ
ノーヲレ）ｉｒ（液膜）Ｊ／ｃｒｒｔ’
２９２０２８５０１７３５１７１０１６００
７１５ｎｍｒ（Ｃｃ４４） δｐｐｍ（ＴＭＳから）０
．９２（ｔ３Ｈ） ■、１〜３．１（Ｃ２７Ｈ）３．５８（Ｓ３Ｈ）３．３〜３．７（ｍＩＨ）（３，５８Ｓ３Ｈを
除く）３．８〜４．２（ｍＩＨ）４．６（ｍＩＨ）５．４９（ｍＩＨ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ） ’ ３Ｃ−ｎｍｒ（Ｑ）ｃ１３）δｐｐｍ（ＴＭＳ
から低磁場へ）２０８．１６５１７３２２５１
６５３３６１３２３８４１２９．７７８１２８
９８６（２Ｃ）１２７．９５７（２Ｃ）７８．４４８７
５．４１４７４３８２５２６６２
５１．２０６４８．５３７４６１７０４３３
１９（２Ｃ）３７．０７０３３．７９４３Ｌ！４５
２９２４３２８．８１９２８．３９４
２５５４２２４．６９３２３．１
１５２２．３８７１３８９３実施例９（９α、１３Ｒ）−９−ベンゾイルオキシ１５−オキソ
−１２−イソ−１３，１１α−エポキシメタノブロスク
ン−１−酸（５Ｚ、９α、１３Ｒ）９−ペンゾイルオキシー１５−オキ゛ノー１２−イソ−１３、］、］１α
エポキシメタノプロスター５エン−１−酸１２４■を２
０ｍ１の酢酸エチルに溶かし、これにパラジウム−炭素
（５％）触媒７７Ｔｎ９を加える。

１気圧の水素と接触させながら３時間撹拌した後口過し
て触媒を除去し、酢酸エチルを留去することによって１
２４１ｎ９の目的化合物（９α、１３Ｒ）９−ベンゾイ
ルオキシ−１５−オキソ−１２−イソ−１，３、１１α
−エポキシメタノプロスタン１−酸が得られた。

次の分析データによって確認した。

ｔｌｃ（硝酸銀塗付シリカゲル）（ベンゼン：酢酸エチル１０：１２回展開）Ｒｆ＝
０．５０原料Ｒｆ＝０．３６ｔｌｃ（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４）
※※ Ｒｆ＝０．４３原料Ｒｆ＝０．４３ｉｒ（液膜）ｖｃＩｒＬ−’２９２０
２８５０１７３５１７１０１６００７１５ｎｍｒ（Ｃｃ１４）δｐｐｍ（ＴＭＳから）０．
９２（ｔ３Ｈ）１．１〜３．１（Ｃ２７Ｈ）３．５８（Ｓ３Ｈ）３．３〜３．７（ｍＩＨ）（３，５８Ｓ３Ｈ
を除く３．８〜４．２（ｍＩＨ）４．６（ｍＩＨ）５．４９（ｍＩＨ）７．３〜７．６（ｍ３Ｈ）７．９〜８．１（ｍ２Ｈ）アルゴン置換した５０縦の二ロフラスコに４カルボヒド
ロオキシ−〇−ブチルトリフェニルホスホニウムプロミ
ド２．９６ｇ（６，６ミリモル）を入れ、乾燥脱気した
ＤＭＳＯ１５ｍｌを加えて溶解させる。

ついで、ＮａＣＨ２’ｂＣＨ３のＤＭＳＯ溶液（
２，０３Ｈ）４．９４１７１１（１０，０２ｍｍｏｌ
）を加えると赤色のホスホラン溶液が土族する。

これにＤＭＳ０５ｍｌに溶かした（３Ｒ３ａＲ，
４Ｒ，５８゜６ａＲ）−へキサヒドロ−５−ベンゾイル
オキシ−４−ホルミルメチル−３−（２−オキソヘプチ
ル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン１．２９ｇ（３
，３４ミＩＪモル）を加え、室温に２時間撹拌した後、
減圧（５Ｘ１０″ｍｍＨｇでＤＭＳＯを除去する。

残渣に氷水１００ｍ１を加えて溶解させ、ついで中性化
合物をエーテル（５０ｍｌＸ３）で抽出除去する。

水層をシュウ酸水溶液でＰＨ２〜３にした後、酢エチ（
５０ＴＬｌ×５）で抽出する。

合せた酢酸エチル溶液を濃縮すると２．０６ｇの粗（Ｚ
）−７−（（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５Ｓ、６ａＲ）−
へキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−３（２−オキソ
ヘプチル）−Ｈ−シクロペンタ〔ｃ〕フラン−４−イル
ヨー５−ヘプテン酸を得る。

この粗生成物を塩化メチレン−エーテル１：２混合溶媒
３０Ｍに溶解し、窒素ガスの発生が止むまでジアゾメタ
ンのエーテル溶液を加える。

反応の進行は薄層シリカゲルクロマトグラフ（展開溶媒
ニジクロヘキサン：酢エチー６：４）によって容易に追
跡できる。

溶媒を減圧で除去して得られた油状物をカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル１００ｇ、ベンゼン：酢酸エチ
ル−８：２で留出）で精製すると、９３０ｍＩ？（５７
％）の純粋な（Ｚ）７−（（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５Ｓ
６ａＲ）へキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−３−（
２−オキソヘプチル）−１Ｈ−シクロペンタＣＣ）フラ
ン−４−イルツー５−ヘプテン酸メチルエステルが得ら
れた。

この化合物の構造は次に示すデータにより確認した。

赤外スペクトル（液膜法）：１７３５（ｌＦ７７１’１
７１５ｃＩｃ’ 、１２７０ｃｍ１．１２５０ｃｙ
ｙｔ”” 、７１０ｃｒｒｔ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２
．ｌＯＯＭＨ３）二〇、９ｐｐｍ（ｔ、３Ｈ）、
１．１０〜２．９４（ｍ、２３Ｈ）。

３．５２（ｄｄ、ＩＨ）、４．１０（ｔ、ＩＨ）。

３．６２（Ｓ、３Ｈ）、４．７２（ｍ、ＩＨ）５．３
６（ｍ、２Ｈ）、５．４６（ｍ、ＩＨ）。

７．５２（ｍ、３Ｈ）、８．０４（ｍ、２Ｈ）（ｃｌ
、：］Ｄ：＋６４．５３（ＣＨｃ１３．ｃｌ
、０４６ｇ／１００ＴｒＬｌ）同様な実験で得た粗（Ｚ
）−７（（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５Ｓ、６ａＲ） −
へキサヒトロー５−ベンゾイルオキシ−３−（２−オキ
ソヘプチル）−１Ｈ−シクロペンタＣＣ）フラン−４イ
ル〕−５−ヘプテン酸をカラムクロマトグラフ法フィー
で精製し、次のデータより構造を確認した。

赤外スペクトル（液膜法）：１７１５ＣｒｒＬ−’１２
７８ｃｍ ’ 、７１３ｃｆｒＬ’ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ３３．１００ＭＨ３）：０．９０ｐｐｒｎ（
ｔ、３Ｈ）、２．９０（ｍ、ＩＨ）、
１．１５〜２．７５ｐｐｍ（ｍ、２２Ｈ）、３．５０（
ｄｄ、ＩＨ）、４．１０（ｔ、ＩＨ）、
４．７０（ｍ、ＬＨ）、５．３８（ｍ、
２Ｈ）、５．４８９（ｍ、ＩＨ）、７．５
２（ｍ、３Ｈ）８．０６（ｍ、２Ｈ）、８．４０（ｂｒ
ｏａｄｓ、ＩＨ）４−カルボヒドロオキシ−ｎ−ブチル
トリフェニルホスホニウムプロミド５．３６．９（１
２，１ミリモル）を酸素を除去した無水のＤＭＳ０２０
ｍｌに溶解し、系をアルゴン置換する。

ついで撹拌しなからＮａＣＨ２Ｓ、ＣＨ３のＤＭ！
０溶液（１，９５Ｍ）Ｏ９，３１ｍ１（１８，１５ミリモル）を加えると、赤色
のホスホラン溶液が生成する。

これに、（３Ｒ。３ａＲ２４Ｒ２５Ｓ、６ａＲ）−へキ
サヒドロ５−ベンゾイルオキシ−４−ホルミルメチル−
３−（２−オキソプロピル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ
〕フラン２．０ｇ（６，０５ミリモル）をＤＭＳ０
８ｍ１に溶解したものを加え室温で２時間撹拌した後、
ＤＭＳＯを減圧で留去する。

残渣に氷水１５０ｍ１を加え溶解させ、ついでエーテル
（１００ｍｌ×４）で中性化合物を抽出除去する。

さらに、水層をシュウ酸水溶液を用いてＰＨ２〜３に調
整した後、酢エチ（１００ｍ１Ｘ５）で抽出し、合せ
た酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄、ついで硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。

酢酸エチル溶液を濃縮すると（Ｚ）７（（３Ｒ
，３ａＲ，４Ｒ。

５８．６ａＲ）−へキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ
−３−（２−オキソプロピル）−１Ｈ−シクロペンタ〔
Ｃ〕フラン〜４−イルヨー５−ヘプテン酸２ｇを得る。

ついで、このカルボン酸を塩化メチレン５０ｒｕｌに溶
解し、等量より少し過剰のジアゾメタンのエーテル溶液
を加えると即座に反応してメチルエステルが生成する。

溶媒を除去した後、カラムクロマトグラフ法（シリカゲ
ル７０ｇ：塩化メチレンで展開留出）で精製し、純粋な
（Ｚ）７（（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５８゜６ａ
Ｒ）−へキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−３−（２
−オキソプロピル）−１Ｈ−シクロペンタＣＣ）フラン
−４−イル〕−５−ヘプテン酸メチルエステル１．３６
ｇ（５２φ）を得た。

この化合物の構造は次のデータより確認した。

赤外スペクトル（液膜法）：１７３５ｃｒｒＬ’１７１
５ｃｒｒＬ−１，１２７０ＣＩＩＬ−１，７１２ｃｒｆ
Ｌ−１ＨＭＲ（ＣＤｃ４．１００ＭＨ３）：
２．２８ｐｐｒｎ（Ｓ、３Ｈ）、１．５〜３．
１ｐｐｍ（ｍ、１５Ｉ−Ｉ）３゜６４ｐｐｍ（
Ｓ、３Ｈ）３．５６ｐｐｍ（ＩＨ）、４．１４（ＩＨ）
。

４．７５（ｍ、ＩＨ）、５．４０（ｍ、２Ｈ）。

５．５２（ｍ、ＩＨ）、７．５６（ｍ、３Ｈ）。

８．１０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ）〔α〕Ｄ＝＋５２７３（ＣＨｃ１３，１，０６２ｇ／１
００扉ｌ）参考例３ｉ押装置のついた２１の三つロフラスコに、よく乾燥し
たセライト５４５１００ｇ、無水クロム酸ピリジン錯
体５０ｇを入れ、ついで塩化メチレン５００ｍ１を加え
撹拌する。

反応容器を水−塩で０℃に冷却し、ついで塩化メチレン
５０ｍＡ’に溶解した（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５８，６
ａＲ）へキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−４−（ヒ
ドロオキシエチル）−３−（２−オキソヘプチル）−１
Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン８．１１ｇ（２０，９ミ
リモル）を一時に加える。

０°Ｃで１５分間撹拌したのら、よく粉砕した硫酸水素
す）ＩＪウムー水和物１００ｇを加える。

さらに１５分間撹拌したのらろ別し、固体を塩化メチレ
ンでよく洗浄する。

合せた塩化メチレン溶液を濃縮すると褐色の油状物９．
３：ｌを得る。

この油状物をエーテル２００−に溶解させたのち、不溶
物をろ別して除去し、ついでエーテル溶液を濃縮すると
薄黄色の油状物として（３Ｒ，３ａＲ，４Ｒ，５８。

６ａＲ，）−へキサヒドロ−５−ペンゾイルオ、キ
シー４−ホルミルメチル−３−（２−オキソヘプチル）
−１Ｈ−シクロペンタＣＣ）フラン７．３ｇを得た。

この化合物の構造は次に示すデータより構造を確認した
。

赤外スペクトル：２７５０ｃＩｒＬ−１，１７１５ｃＩ
ｒＬ’１２７０ＣｒｆＬ、１１０５ｃｆｒＬ’ＮＭ
Ｒ（ＣＤｃＩＪｓ、１００Ｍｎ２）：０．
８８ｐｐｒｎ（ｔ、３Ｈ）１．０〜３．２（ｍ
、１７Ｈ）。

３．５８（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ３，６Ｈ３）。

４．０８（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ３，８Ｈ３）４．
５４（ｍ、ＩＨ）、５．５２（ｍ、ＬＨ）。

７．５０（ｍ、３Ｈ）８．０２（ｍ、２Ｈ）、９．７
６（幅広い一重線、ＩＨ）（ａ）Ｄ：＋４０．８（ＭｅＯＨ）分子
量：３８６（マススペクトルによる）元素分析値（Ｃ
２３Ｈ３ｏＯ５として）Ｈ計算値７１ｉｔ９
７．ｓ３実測値７１．５０７
．８５参考例４（ＩＲ，３ａＲ，５Ｓ、６Ｒ，６ａＲ） −へキサヒ
ドロ−５−ベンゾイルオキシ−６−（２ヒドロキシエチ
ル）−１（２−オキソ−ヘプチル）−１Ｈ−シクロペン
タ〔Ｃ〕フラン２〜アセトキシ−１−ヘプテン６．３５７ｇ（４Ｑ、７
ｍｍｏｌ）を精製した塩化メチレン８０ｍ１に溶か
し、この溶液をアルゴン零囲気中０°Ｃ〜−５°Ｃに冷
却撹拌しながら、これに四塩化チタンの塩化メチレン溶
液（０，６４Ｍ）６３．８Ｍ（４０，７ｍｍｏｌ）
をゆっくり胸下して加える。

得られた淡黄色の混合物を撹拌しながらこれに更に６−
ニビテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンベンゾエ
イト１０．１５ｇ（３７，０５ｍｍｏｌ）を含ん
だ塩化メチレン溶液（５０ｍ０をゆっくり滴下して加え
る。

滴下終了後更に０’−−５℃で３０分撹拌を続けてから
、得られた褐色の反応液に冷却した飽和重曹水２００ｍ
ｌを加えてチタンの錯体を分解する塩化メチレン層を分
離したのち、水層を酢酸エチル４００ｒＩＬｌで５回抽
出し、有機層を合してから、重曹水２００１′Ｌｌで２
回、食塩水２００ｍ１で１回洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥後、濃縮して油状の粗生成物１５．２７ｇが得られ
た。

シリカゲ′７Ｉ／３００ｇを使用したカラムクロマトグ
ラフィーに供し酢酸エチル５〜２０ｆＯを含んだ塩化メ
チレンで展開溶出し、５００ｒｒＬｌのフラクションを
２１本採取する。

鳩７からｒｌ！１１１３までのフラクションを集めて濃
縮することによって、無色油状の純粋な生成物８．８２
ｇ（２２，７ｍｍｏｌ）が得られた。

Ｎ１１６のフラクション克１４から２１までのフラクシ
ョンを集めて濃縮することによって、不純物少量を含ん
た生成物０．９６ｇが得られた。

この生成物は次に示す分拓データによづて表記の（ＩＲ
，３ａＲ，５Ｓ、６Ｒ，６ａＲ）へキサヒドロ−５−
ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロキシエチル）−１
−（２−オキソ−へブチル）−１Ｈ−シクロペンタ〔Ｃ
〕フランであることを確認した。

ｔｉｃ（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４）Ｒｆ
＝０．１ｔｌＣ（塩化メチレン：酢酸エチル１０：１）Ｒｆ＝
０．２５〔α）Ｄ−＋６８．６° （Ｃ＝１．１０１メタ
ノール〕ｉｒ（液膜） νｃｒＩＬ’ ３４５０２９４０２８５０１７１３１６００１
２７５１１１０１０７０１０２５７１２ｍａｓｓＭ＋＝３８８Ｈｍｒ（ＣＤｃ１３）δｐｐｍ（ＴＭＳから
）０．８８（ｔ３Ｈ）１．１
〜３．１（Ｃ１８Ｈ）３．４〜４．４
（Ｃ４Ｈ）４．６４（ｍＩＨ）５．５７
（ｍＩＨ）７．３〜７．６
（ｍ３Ｈ）７．９〜８．２（
ｍ２Ｈ）’ ３Ｃ−ｎｍｒ（ＣＤｃ４）δ
ｐｐｍ（ＴＭＳから低磁場へ）２０９．５３８１
６６．３３３１３３．１２９１３０．２７０
１２９．６８７（２Ｃ）１２８．６４８（２Ｃ）７９．
００８７７．１８８７４．７１９６１．
４６５５２．９５３４８．６６５４３．
５９７４３．４０２４２．９４７３７．
４２５３１．３８１２８．６５３２３．
１９５２２．４１５１３．９０４参考
例５６−ニピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン
ベンゾエイト６−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン７
．２７ｇ（４２，８ｍｍｏｌ）をピリジン２０１ｒ
Ｌｌに溶かし、氷水浴中で冷却撹拌しながらベンゾイル
クロライド７．６．９（５４ｍｍｏｌ）を滴下す
る。

滴下終了後、室温に戻して更に２時間撹拌してからニー
エル５００ＴＬｌでうすめ、水１規定塩酸、水、飽和重
曹水、飽和食塩水で順に洗う。

エーテル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥してから濃縮する
ことにより、粗生成１２．４６ｇを油状物質として得た
。

シリカゲル５００ｇを使用したカラムクロマトグラフィ
ーに供し、ベンゼン：酢酸エチル混合溶剤で展開溶出す
ることにより精製して１０．１８ｇの無色結晶が得られ
た。

次の分析データによって６−ニピーテトラヒドロアンヒ
ドロアウクビゲニンベンゾエイトであることを確認し
た。

ｍＰ６０〜６１°Ｃｔｌ）Ｃ（塩化メチレン）Ｒｆ＝０．７５５〔α）Ｄ＝＋３２．γ（Ｃ＝１．０４メタノー
ル〕１ｒ（ＫＢｒ） δ （１７７１’２９４０
２８５０１７１０１２８５１１２０１０５５
７１０＋ｍａｓｓＭ＝２７４Ｈｍｒ（ＣＤｃＡ３）δ ｐｐｍ（ＴＭ
Ｓから）１．６〜３．０（Ｃ７Ｈ）３．３〜３．６（ｍＩＨ）３．６〜
４．２（Ｃ３Ｈ）５．２７（ｄＩＨ５ｃｐｓ）５．
４５（ｍＩＨ）７．３〜７．７
（ｍ３Ｈ）７．９〜８．２
（ｍ２Ｈ）１３Ｃ−ｎｍｒ（ＣＤｃｌａ）
δｐｐｍ（ＴＭＳから低磁場へ）１６６．０７３
１３３．０６７１３０．３３７１２９
．６２０（２Ｃ）１２８．５１８（２Ｃ）１００．７７
１７９．２０２７１．７３１５９
．６４６４１．６４８４０．０８８３
６．１２５（２Ｃ）２１．８３１〔式中Ｚｌはカルボキシル基又は保護されたカルボキシ
ル基、Ｚ２は水酸基ヌ、は保護された水酸基、Ｚ３はヒ
ドロキシメチル基又は水酸基の保護されたヒドロキシメ
チル基、Ｚ４は水素原子又はアルキル基を示す〕で示さ
れる化合物を酸性条件で処理することを特徴とする一般式〔式中ｚ１．ｚ４は前記に同じ〕で示されるプロ
スタグランジン類似化合物の製造方法。

発明の詳細な説明本発明は一般式（ＤＩ）〔式中Ｚ１はカルボキシル基又は保護されたカルボキシ
ル基、Ｚ２は水酸基又は保護された水酸基、Ｚ３はヒド
ロキシメチル基又は水酸基の保護されたヒドロキシメチ
ル基、Ｚ４は水素原子又はアルキル基を示す〕で示され
るプロスタグランジン類似化合物の製造方法に関するも
のである。

１２−イソブロスタン酸とは次式で表わされる。

次に本発明の方法（こついて更に詳細に説明する。

通常は塩基性の条件で好適に行われる。

反応は溶剤の存在下または不存在下に行われる。

通常は塩基性の条件で好適に行われる。

Ａは保護されたカルボニル基を示す。

以下、第１工程から第７エ程まで順を追って説明する。

第７エ程はカルボニル基の保護基を除去する反応である
。

実施例においては略号として次のものを使用した。

目的化合物は次の分析手段により確認した。

次の分析手段により確認した。

目的化合物は次の分析手段により確認した。

目的化合物は次の分析データより確認した。

次の分析データより確認した。

目的化合物は次の分析データより確認した。

次の分析データによって確認した。

この化合物の構造は次に示すデータにより確認した。

３．５２（ｄｄ、ＩＨ）、４．１０（ｔ、ＩＨ）。

この化合物の構造は次のデータより確認した。

４．７５（ｍ、ＩＨ）、５．４０（ｍ、２Ｈ）。

５．５２（ｍ、ＩＨ）、７．５６（ｍ、３Ｈ）。

この化合物の構造は次に示すデータより構造を確認した
。

３．５８（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ３，６Ｈ３）。

ｍＰ６０〜６１°Ｃｔｌ）Ｃ（塩化メチレン）Ｒｆ＝０．７５５〔α）Ｄ＝＋３２．γ（Ｃ＝１．０４メタノー
ル〕１ｒ（ＫＢｒ） δ （１７７１’２９４０
２８５０１７１０１２８５１１２０１０５５
７１０＋ｍａｓｓＭ＝２７４Ｈｍｒ（ＣＤｃＡ３）δ ｐｐｍ（ＴＭ
Ｓから）１．６〜３．０（Ｃ７Ｈ）３．３〜３．６（ｍＩＨ）３．６〜
４．２（Ｃ３Ｈ）５．２７（ｄＩＨ５ｃｐｓ）５．
４５（ｍＩＨ）７．３〜７．７
（ｍ３Ｈ）７．９〜８．２
（ｍ２Ｈ）１３Ｃ−ｎｍｒ（ＣＤｃｌａ）
δｐｐｍ（ＴＭＳから低磁場へ）１６６．０７３
１３３．０６７１３０．３３７１２９
．６２０（２Ｃ）１２８．５１８（２Ｃ）１００．７７
１７９．２０２７１．７３１５９
．６４６４１．６４８４０．０８８３
６．１２５（２Ｃ）２１．８３１

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中Ｚｌはカルボキシル基又は保護されたカルボキシ
ル基、Ｚ２は水酸基ヌ、は保護された水酸基、Ｚ３はヒ
ドロキシメチル基又は水酸基の保護されたヒドロキシメ
チル基、Ｚ４は水素原子又はアルキル基を示す〕で示さ
れる化合物を酸性条件で処理することを特徴とする一般式〔式中ｚ１．ｚ４は前記に同じ〕で示されるプロ
スタグランジン類似化合物の製造方法。