JPS5852693Y2 - 粒子ビ−ム管のイオナイザ - Google Patents
粒子ビ−ム管のイオナイザInfo
- Publication number
- JPS5852693Y2 JPS5852693Y2 JP140079U JP140079U JPS5852693Y2 JP S5852693 Y2 JPS5852693 Y2 JP S5852693Y2 JP 140079 U JP140079 U JP 140079U JP 140079 U JP140079 U JP 140079U JP S5852693 Y2 JPS5852693 Y2 JP S5852693Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ionizer
- particle beam
- atomic beam
- temperature
- atoms
- Prior art date
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- Expired
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- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、原子9分子等のビームを利用した微粒子ビー
ム管の改良に関するものである。
ム管の改良に関するものである。
微粒子(原子9分子等)を用いたいわゆる原子ビーム管
は周波数標準器として採用されており、既に種々の構成
のものが提案されている。
は周波数標準器として採用されており、既に種々の構成
のものが提案されている。
周波数標準器として用いられる原子ビーム管の1つに従
来セシウムCsの原子ビームを用いた第1図のような構
成のものが知られている。
来セシウムCsの原子ビームを用いた第1図のような構
成のものが知られている。
第1図において、原子ビーム源のCs蒸蒸気上生部1、
例えばCsを80〜100℃に加熱して蒸発させ、蒸発
したC8原子をコリメータを通してCs原子ビーム9と
し、第一の状態選別磁界形成部(A磁界)2、高周波遷
移部(C磁界4中のマイクロ波共振器5)3、第二の状
態選別磁界形成部(B磁界)6を通してCs原子ビーム
検出部7に入射させる。
例えばCsを80〜100℃に加熱して蒸発させ、蒸発
したC8原子をコリメータを通してCs原子ビーム9と
し、第一の状態選別磁界形成部(A磁界)2、高周波遷
移部(C磁界4中のマイクロ波共振器5)3、第二の状
態選別磁界形成部(B磁界)6を通してCs原子ビーム
検出部7に入射させる。
一方、高周波入力部8からはマイクロ波信号を加え、こ
のマイクロ波信号によってCs原子ビームが遷移を受け
るマイクロ波磁界が加えられる。
のマイクロ波信号によってCs原子ビームが遷移を受け
るマイクロ波磁界が加えられる。
このC3原子の遷移周波数とマイクロ波周波数は共・鳴
している。
している。
この高層、波遷移部3で共鳴し、た共鳴Cs原子ビーム
をB磁界6で所定の方向に偏向して、検出部7に入射す
、る。
をB磁界6で所定の方向に偏向して、検出部7に入射す
、る。
この検出部7は共鳴Cs原子ビームによる出力信号が最
大となる位置に配置されている。
大となる位置に配置されている。
なおCs原子の零磁界における遷移周波数は9192.
631770M止である。
631770M止である。
このような原子ビーム管において、C8原子ビームの検
出部7は、一般に入射Cs原子を電離、イオン化するイ
オナイザと該イオン化したイオンを集めるコレクタから
なっている。
出部7は、一般に入射Cs原子を電離、イオン化するイ
オナイザと該イオン化したイオンを集めるコレクタから
なっている。
このイオナイザは、タングステンW、白金−イリジウム
(Pt−Ir)等からなっており、所定の温度範囲で効
率よくイオン化が行われるものを用いる。
(Pt−Ir)等からなっており、所定の温度範囲で効
率よくイオン化が行われるものを用いる。
今このイオナイザの温度が所定の温度以下、すなわち臨
界温度以下に下った場合、入射Cs原子が十分電離、イ
オン化されず、イオナイザ表面が入射するCs原子の単
原子層で覆われ、表面の仕事関係が低下するため、イオ
ン化効率が著しく低下する。
界温度以下に下った場合、入射Cs原子が十分電離、イ
オン化されず、イオナイザ表面が入射するCs原子の単
原子層で覆われ、表面の仕事関係が低下するため、イオ
ン化効率が著しく低下する。
また逆に該イオナイザの温度が高すぎた場合にはCs原
子ビームのイオン化効率が低下し、さらには、前記イオ
ナイザの加熱電力損失が増大し、寿命の低下をきたすこ
ともある。
子ビームのイオン化効率が低下し、さらには、前記イオ
ナイザの加熱電力損失が増大し、寿命の低下をきたすこ
ともある。
入射原子ビームのイオン化効率は下記の式で表わされる
。
。
この式はサバ−ラングミュア(Saha
Langmuir)の式と呼ばれ、上記式に示されてい
るようにイオナイザの温度は最も効率よくイオン化する
温度に均一に保つ必要がある。
るようにイオナイザの温度は最も効率よくイオン化する
温度に均一に保つ必要がある。
従来使用されていたイオナイザ例えば、タングステンW
線、または白金−イリジウム(Pt−Ir)リボンで形
成したイオナイザの温度分布は該イオナイザ両端の支持
部材から熱伝達により放熱して、中央部は比較的均熱部
が得られるが両端部は低温になり、臨界温度以下になる
ことまぬがれない。
線、または白金−イリジウム(Pt−Ir)リボンで形
成したイオナイザの温度分布は該イオナイザ両端の支持
部材から熱伝達により放熱して、中央部は比較的均熱部
が得られるが両端部は低温になり、臨界温度以下になる
ことまぬがれない。
この臨界温度附近では、C8原子のイオン化の機構が複
雑であり、臨界温度附近でのイオナイザ表面から放出さ
れるイオンに時間的遅れを生じることが考えられ、これ
が検出部に於ける雑音の一因となる。
雑であり、臨界温度附近でのイオナイザ表面から放出さ
れるイオンに時間的遅れを生じることが考えられ、これ
が検出部に於ける雑音の一因となる。
本考案は上記のごとき従来の問題を解決するもので、特
にイオナイザ両等の臨界温度以下の不均一温度部でのイ
オン化を阻止して雑音成分の低減を図ろうとするもので
ある。
にイオナイザ両等の臨界温度以下の不均一温度部でのイ
オン化を阻止して雑音成分の低減を図ろうとするもので
ある。
かかる目的を達成するため本考案は一対の支柱間に張架
した表面電離機能を有する材料から戊る直熱式のイオナ
イザにおいて、前記イオナイザの臨界温度以下の温度に
なる両端部をイオン化すべき粒子ビームの電離エネルギ
より小さい仕事関数の部材で被覆したことを特徴とする
ものである。
した表面電離機能を有する材料から戊る直熱式のイオナ
イザにおいて、前記イオナイザの臨界温度以下の温度に
なる両端部をイオン化すべき粒子ビームの電離エネルギ
より小さい仕事関数の部材で被覆したことを特徴とする
ものである。
以下本考案の実施例につき図面を参照しながら説明する
。
。
第2図は本考案のイオナイザの好ましい一実施例を示す
要部斜視図で、11は金属板を下向きのコの字型に折り
曲げた形状のコレクタ電極であり、12は該コレクタ電
極の側面の下部に取り付けた給電柱で、該給電柱は図示
しないステムに取り付けられている。
要部斜視図で、11は金属板を下向きのコの字型に折り
曲げた形状のコレクタ電極であり、12は該コレクタ電
極の側面の下部に取り付けた給電柱で、該給電柱は図示
しないステムに取り付けられている。
13は前記コレクタ電極の上面に設けられた粒子ビーム
入射窓用スリットであり、14はイオナイザで、15は
イオナイザ14の両端部を仕事関数の小さい材料(例え
ばシリコニウムZr、バリウムBa等)を塗布またはメ
ッキした被覆層で゛あり、かつ、スリット13の設けら
れたコレクタ電極のスリットとイオナイザ14の間隔を
所望の寸法になるよう取り付けている。
入射窓用スリットであり、14はイオナイザで、15は
イオナイザ14の両端部を仕事関数の小さい材料(例え
ばシリコニウムZr、バリウムBa等)を塗布またはメ
ッキした被覆層で゛あり、かつ、スリット13の設けら
れたコレクタ電極のスリットとイオナイザ14の間隔を
所望の寸法になるよう取り付けている。
またイオナイザを熱膨張吸収用スプリング板16に張架
して取り付けている。
して取り付けている。
該熱膨張吸収用スプリング板はイオナイザ用給電柱17
に取り付けられており、該給電柱は図示しないステムに
取り付けられた構造である。
に取り付けられており、該給電柱は図示しないステムに
取り付けられた構造である。
さて、本考案の構造にもとづいて、その作用を説明すれ
ば、今、前記一対の給電柱間に張架したイオナイザ14
に該給電柱17を介して電流が流れて、該イオナイザが
加熱された場合、イオナイザ14の両端に形成した被覆
層15も加熱される。
ば、今、前記一対の給電柱間に張架したイオナイザ14
に該給電柱17を介して電流が流れて、該イオナイザが
加熱された場合、イオナイザ14の両端に形成した被覆
層15も加熱される。
しかし、被覆層15は、前記したごとく仕事関数がCs
原子の電離エネルギより小さい材料で形成されている。
原子の電離エネルギより小さい材料で形成されている。
例えば、イオナイザ14が表面状態のクリーンなタング
ステンWの場合、仕事関数は約4.5evであるが、そ
の表面をジルコニウムZrによって覆った場合、Zrの
仕事関数で規定され、その仕事関数は約3.16vであ
る。
ステンWの場合、仕事関数は約4.5evであるが、そ
の表面をジルコニウムZrによって覆った場合、Zrの
仕事関数で規定され、その仕事関数は約3.16vであ
る。
一方、C8原子ビームの電離エネルギは約3.89ev
である。
である。
したがって、Zrの仕事関数が入射するCs原子の電離
エネルギよりも小さいので、イオナイザ両端部のZrで
被覆した被覆層15ではCs原子のイオン化は起きない
。
エネルギよりも小さいので、イオナイザ両端部のZrで
被覆した被覆層15ではCs原子のイオン化は起きない
。
このようにして臨界温度以下の領域を前記仕事関数の小
さい材料で被覆することによってイオナイザの所要の温
度領域部分のみをイオン化可能な領域に形成することが
できる。
さい材料で被覆することによってイオナイザの所要の温
度領域部分のみをイオン化可能な領域に形成することが
できる。
以上の説明から明らかなように本考案によれば直熱式イ
オナイザの均熱部の両側をCs原子の電離エネルギより
低い仕事関数の材料で被覆して臨界温度附近の不安定な
Cs原子のイオン化による雑音の一因を除去することが
できる。
オナイザの均熱部の両側をCs原子の電離エネルギより
低い仕事関数の材料で被覆して臨界温度附近の不安定な
Cs原子のイオン化による雑音の一因を除去することが
できる。
第1図は原子ビーム管の概略構成の説明図、第2図は本
考案のイオナイザの好ましい一実施例を示す要部斜視図
である。 1 : Cs蒸気発生部、7:共鳴原子ビーム検出部、
9 : Cs原子ビーム、11:コレクタ電極、12:
コレクタ電極を取り付ける給電柱、13:粒子ビーム入
射窓用スリット、14:イオナイザ、15:イオナイザ
の表面に仕事関数の小さい材料を被覆層、16・・・・
・・熱膨張吸収用スプリング板、17:給電柱。
考案のイオナイザの好ましい一実施例を示す要部斜視図
である。 1 : Cs蒸気発生部、7:共鳴原子ビーム検出部、
9 : Cs原子ビーム、11:コレクタ電極、12:
コレクタ電極を取り付ける給電柱、13:粒子ビーム入
射窓用スリット、14:イオナイザ、15:イオナイザ
の表面に仕事関数の小さい材料を被覆層、16・・・・
・・熱膨張吸収用スプリング板、17:給電柱。
Claims (1)
- 一対の支柱間に張架した表面電離機能を有する材料から
成る直熱式のイオナイザにおいて、前記イオナイザの端
部近傍をイオン化すべき粒子ビームの電離エネルギより
小さい仕事関数の部材で被覆したことを特徴とする粒子
ビーム管のイオナイザ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP140079U JPS5852693Y2 (ja) | 1979-01-08 | 1979-01-08 | 粒子ビ−ム管のイオナイザ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP140079U JPS5852693Y2 (ja) | 1979-01-08 | 1979-01-08 | 粒子ビ−ム管のイオナイザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55101072U JPS55101072U (ja) | 1980-07-14 |
JPS5852693Y2 true JPS5852693Y2 (ja) | 1983-12-01 |
Family
ID=28803516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP140079U Expired JPS5852693Y2 (ja) | 1979-01-08 | 1979-01-08 | 粒子ビ−ム管のイオナイザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5852693Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-01-08 JP JP140079U patent/JPS5852693Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55101072U (ja) | 1980-07-14 |
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