JPS5846640A - プラズマ分布モニタ装置 - Google Patents
プラズマ分布モニタ装置Info
- Publication number
- JPS5846640A JPS5846640A JP14465281A JP14465281A JPS5846640A JP S5846640 A JPS5846640 A JP S5846640A JP 14465281 A JP14465281 A JP 14465281A JP 14465281 A JP14465281 A JP 14465281A JP S5846640 A JPS5846640 A JP S5846640A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- optical fiber
- window
- distribution
- beams
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラズマを用いたドライエツチング装置やスパ
ッタ装置等のプラズマ分布をモニタするプラズマ分布モ
ニタ装置に関するものである。
ッタ装置等のプラズマ分布をモニタするプラズマ分布モ
ニタ装置に関するものである。
近年、プラズマを用いたドライエツチング等の対象とな
る薄膜材料の大量化・大量化が進み更に薄膜材料の連続
製作が行なわれる様になった。この様な状況の下で、製
作される薄膜材料の精度・品質・信頼性を高めるために
は、薄膜の製造工程中のプラズマ分布をモニタし、膜形
成条件を制御する必要がある。
る薄膜材料の大量化・大量化が進み更に薄膜材料の連続
製作が行なわれる様になった。この様な状況の下で、製
作される薄膜材料の精度・品質・信頼性を高めるために
は、薄膜の製造工程中のプラズマ分布をモニタし、膜形
成条件を制御する必要がある。
しかし、従来のプラズマ状態をモニタする手段は、ドラ
イエツチング時やスパッタリング時に放射されるプラズ
マ光のスペクトル分布を分光器で分光掬光するものであ
るため、全体的なプラズマ光の強度変化を測定すること
はできるが、プラズマ状態の局所の変動を測定すること
は不可能であった。
イエツチング時やスパッタリング時に放射されるプラズ
マ光のスペクトル分布を分光器で分光掬光するものであ
るため、全体的なプラズマ光の強度変化を測定すること
はできるが、プラズマ状態の局所の変動を測定すること
は不可能であった。
本発明はかかる従来技術の欠点Ｋｆｌｋみなされたもの
で、プラズマ状態の局所の変動を測定することが可能な
プラズマ分布モニタ装置を提供することを目的としてい
る。
で、プラズマ状態の局所の変動を測定することが可能な
プラズマ分布モニタ装置を提供することを目的としてい
る。
本発明のプラス１分布モニタ装置は、プラズマを利用す
るドライエツチング装置やスパッタリング装置等の窓を
介して放射されるプラズマ光のスペクトル分布を分光測
定し、そのグッズマ状態をモニタする装置であって、上
記窓Ｋｉｉして設けられた光ファイバな該窓の形状和合
わせて移動さ奢る手段と、上記窓から放射されるプラズ
マ光を光ファイバを介して集光して分光測定する手段と
、上記光ファイバの動作位置と上記分光測定した測定値
とを同期させてデータ処理を行う手段をそれぞれ有して
構成されている。
るドライエツチング装置やスパッタリング装置等の窓を
介して放射されるプラズマ光のスペクトル分布を分光測
定し、そのグッズマ状態をモニタする装置であって、上
記窓Ｋｉｉして設けられた光ファイバな該窓の形状和合
わせて移動さ奢る手段と、上記窓から放射されるプラズ
マ光を光ファイバを介して集光して分光測定する手段と
、上記光ファイバの動作位置と上記分光測定した測定値
とを同期させてデータ処理を行う手段をそれぞれ有して
構成されている。
以下添付の図面に示す実施例により、更に詳細に本発明
について説明する。図示する様に。
について説明する。図示する様に。
高周波電源ＩＫよって電極２に高周波電圧が印加され、
電極２間でプラズマ光３が発生する。
電極２間でプラズマ光３が発生する。
該プラズマ光５はチャンバ４の一端に設けられた窓５か
ら放射される。窓５の外匈には光ファイバ６が設けられ
ており、窓５から放射されるプラズマ光３を受け１分光
器９に設けられているスリット８上に集光させる。光フ
ァイバ６は駆動部７によって窓面の任意の位置に移動で
きる様に構成されており、駆動部７は例えばＸＹ座標系
の入力によって動作するものである。従りて１分光器９
は駆動部７で設定された位置におけるプラズマ光をスリ
ット８を介して受は分光橢光する。分光器９は、図示す
る様忙入力光を反射する反射器９１と１反射器９１０反
射光を回折格子９５に反射する凹面鏡と１回折格子９３
と、回折格子９３を回転させるためのパルスモータ９４
と、回折格子からのスペクトル線を検出器１０ＪＩＣ反
射する反射器９５からそれぞれ構成されている。
ら放射される。窓５の外匈には光ファイバ６が設けられ
ており、窓５から放射されるプラズマ光３を受け１分光
器９に設けられているスリット８上に集光させる。光フ
ァイバ６は駆動部７によって窓面の任意の位置に移動で
きる様に構成されており、駆動部７は例えばＸＹ座標系
の入力によって動作するものである。従りて１分光器９
は駆動部７で設定された位置におけるプラズマ光をスリ
ット８を介して受は分光橢光する。分光器９は、図示す
る様忙入力光を反射する反射器９１と１反射器９１０反
射光を回折格子９５に反射する凹面鏡と１回折格子９３
と、回折格子９３を回転させるためのパルスモータ９４
と、回折格子からのスペクトル線を検出器１０ＪＩＣ反
射する反射器９５からそれぞれ構成されている。
検出器１０は、このスペクトル線を受は腋プラズマ光の
スペクトル分布を検出する。この検出結果は、データ処
理部１１において光ファイバの動作位置及びパルスモー
タ９４の回転位置と同期してデータ処理され、記碌部１
２で記録される。
スペクトル分布を検出する。この検出結果は、データ処
理部１１において光ファイバの動作位置及びパルスモー
タ９４の回転位置と同期してデータ処理され、記碌部１
２で記録される。
上記の構能に基づきチャンバ４内で発生するグッズマ光
３．スパッタリング時の例えば、Ａｔ７０６１ｎｎＬ
、 Ｆａ ４５７．６３ｎ ＩあるいはＡｌｘｙテ７グ
時のＡｌ ５９Ｌ２ ｎｖ＊などの波長に設定し、光フ
ァイバ６をＸ、Ｙに移動しながら発生するプラズマ光５
の光強度を測定し、各観測位置に対する光強度を比較す
ることＫよってプラズマ分布状態をモニタできる。また
、光ファイノ＜６は所望の位置に固定し１分光器９内の
回折格子９３を短波長から長波長まで移動することによ
って該位置でのスペクトル分布、すなわち、発光スペク
トル線とその光強度が計測でき、その結果を最適条件時
でのスペクトル分布と対比することによってプラズマ分
布状態を監視できる。さらに上記の操作を繰返すことに
よって間欠的なスペクトル分布もモニタできる。また、
波長および光ファイバー６を所望の位置１定すれば発生
するプラズマ光３の光強度の経時変化が観察できる。
３．スパッタリング時の例えば、Ａｔ７０６１ｎｎＬ
、 Ｆａ ４５７．６３ｎ ＩあるいはＡｌｘｙテ７グ
時のＡｌ ５９Ｌ２ ｎｖ＊などの波長に設定し、光フ
ァイバ６をＸ、Ｙに移動しながら発生するプラズマ光５
の光強度を測定し、各観測位置に対する光強度を比較す
ることＫよってプラズマ分布状態をモニタできる。また
、光ファイノ＜６は所望の位置に固定し１分光器９内の
回折格子９３を短波長から長波長まで移動することによ
って該位置でのスペクトル分布、すなわち、発光スペク
トル線とその光強度が計測でき、その結果を最適条件時
でのスペクトル分布と対比することによってプラズマ分
布状態を監視できる。さらに上記の操作を繰返すことに
よって間欠的なスペクトル分布もモニタできる。また、
波長および光ファイバー６を所望の位置１定すれば発生
するプラズマ光３の光強度の経時変化が観察できる。
尚、上記の実施例においては、光ファイノ（６を一本用
いた例を示したが１本発明はこれに限定されるものでは
なく、＃Ｊ定個所を増やすために光ファイバ及び分光測
定する系の数を増やしても差支えない。
いた例を示したが１本発明はこれに限定されるものでは
なく、＃Ｊ定個所を増やすために光ファイバ及び分光測
定する系の数を増やしても差支えない。
以上の説明から明らかな様に１本発明によればプラズマ
状態の局部の変動を正確に測定できる効果を有する。そ
のため、本発明のプラズマ分布モニタ装置をドライエツ
チング装置等に設けることによって、高精度・高信頼度
に薄膜製作工程を管理制御することが可能になる。
状態の局部の変動を正確に測定できる効果を有する。そ
のため、本発明のプラズマ分布モニタ装置をドライエツ
チング装置等に設けることによって、高精度・高信頼度
に薄膜製作工程を管理制御することが可能になる。
添付の図面は、本発明の一実施例を示す説明図である。
５・・・・・・・・・・・・・・・ プラズマ光５・・
・・・−・・・・・・・・窓 ６・・・・・・・・−・・・・・光ファイバ７・・−・
・・・・・・−・・駆動部 ８・・・・・・・・・・・−・・スリット９・・・・・
・・・・・・・・・・分光器１０・・−・・・・・・・
・検出部 １１・・・・・−・・・・・データ処理部１２・・・・
・・・・−・・記鍮部 代理人弁理士薄 １）利窄、 ７．２７．ｈ
・・・−・・・・・・・・窓 ６・・・・・・・・−・・・・・光ファイバ７・・−・
・・・・・・−・・駆動部 ８・・・・・・・・・・・−・・スリット９・・・・・
・・・・・・・・・・分光器１０・・−・・・・・・・
・検出部 １１・・・・・−・・・・・データ処理部１２・・・・
・・・・−・・記鍮部 代理人弁理士薄 １）利窄、 ７．２７．ｈ
Claims (1)
- プラズマを利用するドライエツチング装置等の窓を介し
て放射されるプラズマ光を分光測定してプラズマ状態を
モニタする装置において、上記窓に接して設けられた光
ファイバを該窓の形状に合わせて移動させる手段と、上
記窓から放射されるプラズマ光を光ファイバを介して集
光して分光測定する手段と、上記光ファイバの動作位置
と上記分光測定した測定値とを同期させてデータ処理を
行う手段とをそれぞれ有してなるプラズマ分布モニタ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14465281A JPS5846640A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | プラズマ分布モニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14465281A JPS5846640A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | プラズマ分布モニタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5846640A true JPS5846640A (ja) | 1983-03-18 |
Family
ID=15367060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14465281A Pending JPS5846640A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | プラズマ分布モニタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846640A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7814796B2 (en) | 2007-04-18 | 2010-10-19 | Panasonic Corporation | Partial pressure measuring method and partial pressure measuring apparatus |
-
1981
- 1981-09-16 JP JP14465281A patent/JPS5846640A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7814796B2 (en) | 2007-04-18 | 2010-10-19 | Panasonic Corporation | Partial pressure measuring method and partial pressure measuring apparatus |
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