JPS5843979A - セフアロスポリン化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、式 〔式中　Ｒ１は水素原子またはアシル基を、Ｒは水素原
子を九はエステル残基を、点線はセフェム環の２位また
＃ｉｓ位二重結合を、Ｒ４は求核性化合物の残基を示す
〕で表わされるセファロスポリン化合物の製造＆Ｋ１１
するものである。

前記式ＣＩ）のセファロスポリン化合物は抗菌物質ある
いはその合成中間体として重要であり、〔夏〕の製造法
としてこれまでに（１）セフェム骨格の８位にアシルオ
キシメチル基を有する化合物とチオール化合物を■水ま
たは水と有機溶媒の混合溶媒中酸性〜′弱塩基性条件下
に反応させる方法（持分Ｉ８８１−１デー３６．特公昭
４９一番ｉ＄８・、時分１８４＠−１８６ｍ５．特開Ｗ
ｅ４６−８２８・、特開＠４ｓ−ａｓｓｅｓなど）、■
有機溶媒中で加熱する方法（特開＠６５−４３０４８な
ど）、■有機溶媒中酸または酸の付加物の存在下に反応
させる方法（特開昭５１１８９８？、特開昭５番−７６
ｓ９１．特開昭５５−９０４８．特開昭５５−２０１８
４．特開ｗＢ５５−４９２１８８．特開昭５１−１３・
３８マ、特開＠５８−１６８７９０なル基中のアセトキ
シ基を求核試薬により置換する方法〔ティラー（Ａ、　
Ｂ、　Ｔａｙｌｏｒ）　、ジャーナルオプ　デ　ケミカ
ル　ソナエテ４　（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅＣｈ
ａａｉｃａｌ　５ｏｃｉｅｔｙ　）、テａｇｏ頁（１９
８１年）〕、（■）セフェム骨格の８位ハイドロキシメ
チル基中のハイドロキシ基をハロゲンで置換しついで求
核試薬により置換する方法〔パイフッド（Ａ、Ｂ。

Ｂｙｗｏｏｄ）４１、リーセント　アドパンシイズ　イ
ンザ　ケミストリイ　オプ　ベーターラクタム　アンチ
バイオティクス（Ｒｅｃｅｎｔ　Ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉ
ｎ　ｔｈｅＣｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆβ−Ｌａｃｔａｍ
　Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ　）、１３・頁（ｌｆＩＩｌ
γ年）〕、（瞭）セフェム骨格の３位ハイドロキシメチ
ル基をアシル化してアシルオキシメチル皇に変えついで
求核試薬により置換する方法〔津島等、ケミカル　アン
ド　）１−マス−ティカル　プレティン（ＣｋｅｍＩｃ
ａｌ　＆　ＰｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌＢｕｌｌｅｔ
ｉｎ）、２１巻、６Ｉ・頁（１９７８年）〕などが知ら
れている。しかしながら、（＋）Ｋおける■、■の方法
では反応条件下でのβ−ラクタムの加水分解などのため
に目的物の品質、収率が悪く、■の方法ではラクトン化
成いけβ−ラクタム環の間髪などの副反応が惹起しやす
い点、酸′としてルイス酸又はその付加物を使用する場
合ＫＦｉ反応装置が制限され又後処理工程で取扱いにく
い点、反応後、用いた酸を目的物との接触により分解、
着色を惹起し易いアルカリによって中和してから単離す
る必要がある点、さらに原料、酸の種類によっては目的
物（’Ｉ）の収率が極めて悪い点などに問題があって、
ラクトン化、β−ラクタムの分解および着色が起こると
目的物（１）にこれらに由来する不純物が混入する原因
となり、不純物の除＊に手間がかかシ収率低下の原因と
なり、まえ０の方法で水分の混入を避けるため原料を低
水分にする必要が生ずるが、これは乾燥工程を必要とす
る点および乾燥された粉末は飛散しやすいため作業環境
を悪化させ、例えばチーアミノセファロスポラン陵が人
間に接触性皮膚炎等を起す性質を有する（カーク−オス
マー　（Ｋｉｒｋ−Ｏｌｈｍａｒ　）、エンサイクロペ
ディア　オプ　ケミカル　テクノＩ− ロジイ（Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ　ｏｆ　Ｃｂｅｍｉ
ｃａｌ　Ｔｅｃｎｎｏ羞０１１；Ｙ）Ｓ第３版、１９テ
＠、　Ｖｏｌｕｍｅ　　２．　Ｐ、ＩＯγ〜９０１１）
ので工業化上不利であり、さらに（１）の方法では反応
条件が過酷表ため反応中に原料、目的物が分解しやすく
、（Ｉ）の方法ではラクトン化、セフェム環内の二電結
合のイソメリゼーションなどを避けるためにｔｉ４位カ
ルボン酸のエステル化などＫよる保護が必須であり、（
瞭）の方法では反応条件を（■）の方法よりは緩和にす
ることが出来るが十分とけ云えず、又特殊なアシル化剤
を用いる場合を除いては一般にアシル化反応と置換反応
の二つの工程を必要とするなどの点が問題で収率、目的
物の品質が不十分であったり、多くの手間と設備を要し
、工業的に有利な方法とは云えない。

そこで、本発明者らは、セファロスポリン化合物（１）
の製法を種々検討した結果、醗酵培養で高単位に生産さ
れるデアセチルセファロスポリンＣ（ＤＣＰＣ）或いは
Ｄ　ＣＰ　Ｃ，セフ１０スポリンＣ（ＣＰＣ）の化学的
、酵素的反応で得られる６− 〔式中の記号および点線は前記と同意義〕で表わされる
化合物と求諌性化合物と（１）式〔式中、Ｗは酸素原子
、イオク原子またＦｉＮＲ″を、ｗ＊＃ｉ酸素原子、イ
オク原子ま九＃ｉ■１を、Ｒ１、Ｒｓは同一を九は相異
なって水素原子または炭化水素基を示す〕で表わされる
部分構造を有する三価ま九は三価の環状リン化合物、ま
たは（２）式□　　　〔式中の記号は前記と同意義〕で
表わされる部分構造を有する化合物とオキシハロゲン化
・リン、三ハロゲン化リンま九は五ハロゲン化リンとの
反応物を有機溶媒中で反応させると、驚くべきこと７− に１本発明の原料化合物（ＩＩ）の３位ヒドロキシメチ
ル基中のヒドロキシ基が一工程で、有機溶媒中低温でも
瞬時又は短時間の極めて緩和な条件下に求核性化合物に
よって置換され、収率よく目的とする（Ｉ）式のセフ１
−ロスボリン化合物が得られることを見出し、これに基
づいてさらに検討しえ結果本発明を完成させた。

即ち、本発明は、化合物（ＩＩ）と求核性化合物と（１
）部分構造〔璽〕を有する三価または三価の環状リン化
合物、を九は臼）部分構造（Ｗ）を有する化合物とオキ
シハロゲン化リン、三ハ四ゲン化リンまたは五ハロゲン
化リンとの反応物を有機溶媒中て反応させることを特徴
とする、セフゾロスポリン化合物（Ｉ）の製造法に関す
るものである。

前記式において　１１１は水素原子またはアシル基を示
す。Ｒ１で示されるアシル基としては、たとえば、従来
知られているペニシリン誘導体の６位アミノ基に置換し
ているアシル基、セファロスポリン誘導体のテ位アミノ
基に置換しているアシル基等が用いられる。このよりな
アシル基の例として一＄− は、たとえば式 ％式％ 〔式中、Ｖは水素原子、アルキル、フェニル１または複
素環ゝ基を示す。〕で表わされる基、式〔式中、］Ｒ１
は水素、アミノ酸残基、アミノ基の保護基または式Ｒ”
−（ＣＨｓ）ｎ　＊　−Ｃｏ−（式中、ＲｓＦｉ複素環
１基を、ｌｉｔは０〜３の整数を、それぞれ示す。）で
表わされる基を、Ｒｖはアルキル、フェニル、複素環　
−カルボニルアミノま九は＊＊環　基を、それぞれ示す
。〕で表わされる基、式 １式％（ 〔式中、鼠１は式Ｒ”−Ｃ−（式中、１０はアルキ１ 訃Ｒ” ル本、複素環１基を九はフェニル１を、ＩＳＩは水素、
アルキルｔえは式−１ｔｕ−＊＊４　（式中、Ｒ１１は
アルキレンを九はアルケニレン１を、Ｒ１４はフェニル
九カルボキシルま九はそのエステルｔえは七］を九はジ
アルキルアミンを、それぞれ示す。）で表わされる基を
、それぞれ示す。）で表わされる基を　Ｒ１１を示す。

）で表わされる基を、それぞれ示す。〕で表わされる基
、式 〔式中、Ｒ′′はヒドロキシ、ヒドロキシスルホニルオ
キシ、カルボキシ、フレイド、スル７アモ本 イル、スルホまたはフェノキシカルボニル、ホルミルオ
キシを　１１＊Ｙは水素、アルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、ヒドロキシを、それぞｈ示す。〕で表わ
される基、式 ％式％ 〔式中、Ｒｓはシアへフェニル′？フェノキシ、本 アルキル、アシルオキシ、アルケニル 素ａｍ基をＲ１１は単なる結合手ま九はーＳ−を、それ
ぞれ示す。〕で表わされる基などが用いられる。

前記の記号１’、、、１１”で表わされる基において、
「置換基を有していてもよい」基の場合には基の右肩に
本を付して表わす。たとえば、「置換基を有していても
よいアルキル」を「アルキル」として表わす。この場合
、置換基の数は１個に限定されず、置換される基によっ
ては８〜数個の同一または相異碌る置換基を有していて
もよい。アルキルとしては、直鎖状または妙技状の炭素
数１〜６の低級アルキルがよく、たとえばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、８は−グチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル
、インペンチル、勤−ヘキシル、イソヘキシルなどが用
いられる。１ルクニルとしては、直鎖状または分枝状Ｏ
脚素数窓ないし６の低級アルケニル力よく、たとえばビ
ニル、アリル、インプロペニル、２−メタリル、３−グ
チニル、８−グチニルなどが用いられる。複素環基とし
ては、たとえば窒素原子（オキシド化されていてもよい
）、駿素原子、硫黄原子などのへテロ原子を１〜数個含
結合チを有するものが用いられ、たとえば８−まえは３
−ピロリル、トまた＃ｉＩＩ　−アリル、ｆ−また＃′
ｉ８−チェニル、２−またけ畠−ピロリジニル、霧−１
畠−またけ４−ピリジル、Ｎ−オキシトート、トまたけ
る一ピリジル、ト、８−ｔたＦｉ噛−ピペリジニル、”
−１３−１走？’ｉ　４−ピ１ラニル、ト、３−または
４−チオピラニルピラジニル、ト、４−またけ５−チア
ゾリル、雰−１４−またけ５−オキサシリル、畠−１４
−または５−インチアゾリル、８−１←→タハ５−イン
オキサゾリル、”−１４−”４たけ暴−イミｙ”／Ｕル
、３−１番−また＃ｉ５−ピラゾリル、８−またＦｉ４
−ピリダジニル、Ｎ−オー＋シト−Ｂ−ま九は４−ピリ
ダジニル、２−１４−またＦｉｓ−ピリミジニル、Ｎ−
オキシド−１−１４−４たはｉ−ピリミジニル、ピペラ
ジニル、番−または５−（１，ｓ、ａ−チアジアゾリル
）、３−まえは５−（１，愈、４−チアジアゾリル）、
１，８．４−チアジアゾリル、’　ｌ、　１．５−チア
ジアゾリル、４−または５←（ｉｌ、１．、ｓ−オキサ
ジアゾリル）、３−または暴−（１，ｇ、４−オキサジ
アゾリル）、１、　ＩＩ、　　４−オキサジアゾリル、
ｌ、！、藝−オキサジアゾリル、１．ｌ、Ｉ−またｔ’
ｉｌ、ｌ、４−トリアゾリル、ｌＨまたＩｆ怠Ｈ−テト
ラゾリル、ピリド（１，Ｉ−ｄ）ピリミジル、ベンゾピ
ラニル、ｌ、Ｉ＋、１．！ｉ−、１．＠−、１．　　デ
ー。

１．７−４た＃ｉｇ、ｅ−ナフチリジル、キノリル、チ
ェノ〔１，畠−ｂ〕ピリジルなどが繁用される。

アルミキシとしては、直鎖状または妙技状の炭素数１〜
・の低級アルコキシが好ましく、たとえばメトキシ、エ
トキシ、ｎ−プロポキシ、インプロポキシ、ｎ−ブトキ
シ、インブトキシ、５ｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブト
キシ、１−ペンチルオキシ、インペンチルオキシ、ｎ−
へキシルオキシ、イソへキシルオキシなどが用いられる
。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨク素が用
いられる。

アミノ酸伐基としては、九とえばグリシル、アラニル、
バリル、ロイシル、インロイシル、セリル、スレオニル
、システィル、シスチル、メチオニル、１ｌ− ａ−またはβ−アスパラギル、ａ−またはｒ−グルタミ
ル、リジル、アルギニル、クエ二ルアラニル、フェニル
クリシル、チロシル、ヒスチジル、トリプトファニル、
プロリルなどが用いられる。

アルキレンとしては炭素数１−１の低級アルキレンが好
ましく、その例としては、九・とえはメチレン、エチレ
ン、プロピレン、イソプロピレンなどが用いられる・ア
ルケニひプしては、直鎖状または妙技状の置傘Ｉｋｍ一
番の低級アルケニレンが好ましく、九とえはビニレン、
プロイニレンなどが用いられる。カルボキシル基におけ
るエステルとしては、たとえばメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステル、＋ａ−７”チルエステル
、イソグチルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステルなど
の炭素数ｌ〜６の低級アルキルエステルなどが用いられ
る。アミノ基の保護基としては、β−ラクタムおよびペ
プチド合成の分野でこの目的に用いられるものが便宜に
採用される。たとえばフタロイル、トルオイル、ナフト
イル、ベンゾイル、クロロベンゾイル、ｐ−二トロペン
ゾイル、ｐ−ｔｅｒｔ１４− −ブチルベンソイル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンス
ルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、
フェニルアセチル等の芳香族アシル基、たとえばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、バレリル、カプリジル、
ｎ−デカノイル、アクリロイル、ヒバロイル、モノクロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
メタンスルホニル、エタンスルホニル、カン７アスルホ
ニル、トリフルオロアセチル、マレイル、ナクシニル等
の脂肪族アシル基、たとえば、メトキシカルボニル、メ
トキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル・ボニル、インプ
ロポキシカルボニル、露−シアノエ・トキシカルボニル
、β、β、β−トリクロロエトキシカルボニル、β−ト
リメチルシリルエトキシカルボニル、β−メチルスルホ
ニルエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−ノトキシペ
ンジルオキシカルポニル、ジフェニルメチルオキシカル
ボニル、メトキシメチルオキシカルボニル、ア七チルメ
チルオキシカルボニル、インポル五ルオキシカルボニル
、フェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカル
ボキシル基、たとえばメチルカルバモイル、フェニルカ
ルバモイル、ナフチルカルバモイルなどの置換カルバモ
イル基さらＫ。

Ｎ、ｔば、）リチル、３−ニトロフェニルチオ、ベンジ
リデン、４−ニトロベンジリデン、トリアルキルシリル
、ベンジル、ｐ−ニトロベンジルたとえばジエチルホス
ホリル、ジメチルホスホリル、ジフェニルホスホリル、
ジ−イソプロピルホスホリル、ジ−イソブチルホスホリ
ル、ジブチルホスホリル、０−ヒドロキシフェニルホス
ホリル、メチル（・−ヒドロキシフェニル）ホスホリル
等のホスホリル基たとえばジメチルホスフィニル、ジフ
ェニルホスフィニル勢のホスフィニル基、タトえばフヱ
ニルホスホニル、ブチルホスホニル等のホスホニル基等
のアシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられる。該保
護基の選択は本発明においては、特に限定されるもので
はない。

これらのうちアルキル、アルケニル、たとえばシクロア
ルキル、シクロアルケニル、アリール、複素環基、アル
コキシカルボニル、アシル、オキソ、ハロゲン、シアノ
、）　！Ｊ　７　ｐレオ−ｏ　／　ｆル、ヒドロキシ、
アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ、ヒドロキシスルホニルオキシ、アルキルス
ルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、ニトロ、
アミノ、カルボキシ、アミノカルボニル、アルキルチオ
カルボニル、どにより１〜畠個置換されていてもよい。

置換されたアルキル基は、たとえば式 〔式中、臘３は・ないし３の整数を、Ｒ８０，１１１け
ルプキシカルボニル、アシルまたはＲ”とＲｍｌ　、＞
Ｅ−緒になってオキソをＨｕは水素原子、アルキル、−
ｌマー シクロアルキル１アリ−メジ複素環％、　７１１０ゲン
、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、
アシルオキシ、カルバモイルオキシ、ヒドロキシスルホ
ニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アリールスル
ホニルオキシ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、アルコキ
シカルボニル、アミ７カルポニル、アルキルチオカルボ
ニル、アシル、メルカプト、アルキルチオ、アミノアル
キルチオ、アシルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ
、アリ−７−チオ、複素ｊチオ、第四級アンモニクムを
不す。〕で表わされるものも用いられる。ここにおいて
、シクロアルキルとしては、次素数Ｓ〜８のものが好ま
しく、たとえばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、アダマン
チルなどが用いられる。

アリールとしては、たとえばフェニル、−一す７チル、
β−ナフチル、ピフェニル、アントリルなどが用いられ
るが、とりわけフェニル、ナフチルなどが繁用される。

アラルキルとしては、たとえばベンジル、７エネチル、
フェニルプロピル、ナ１８− フチルメ贅ルなどが用いられる。アシル基としては、た
とえばホルミル、アルキルカルボニル、アーｉ°アセチ
ルなどが用いられ、とりわけ、たとえばアセチル、プロ
ピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ｎ−ペンタノ
イル、ｎ−へキサノイル、ベンゾイル、４−ヒドロキシ
ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、フェニルアセチ
ル、４−ヒドロキシフェニルアセチル、番−メトキシフ
ェニルアセチル、２−チェニルカルボニル、２−フリル
カルボニル、ｇ−，４−または５−チアゾリルアセチル
、３−またＦｉ８−チェニルアセチル、２−１えは３−
７リルアセチル、２−アミノ−４またはｌ−チアゾリル
アセチルなどが用いられる。第四級アンモニタム基とし
ては、たとえばピリジニクム、キノリニクムなどが用い
られる。

また、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル
、アリール、複素環基、第番級アンモニクムの置換基と
しては、九とえはアルキル、アルコキシ、アルケニル、
アリール、アラルキル、メルカプト、アルキルチオ、ア
リールチオ、アラルキルチオ、アルキルスルホニル、ア
リールスルホニル、アラルキルスルホニル、トリハロゲ
ノアルキル、ヒドロキシ、オキソ、チオキソ、ハロゲン
、ニトロ、ア、ミノ、シーアノ、カルバモイル、カルボ
キシ、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、とドロキ
シアルキル、カルボキシアルキル、ハロゲノアルキル、
モノまたはジアルキルアミノアルキルなどが用いられる
。（ここにおけるアルキル、アルコキシ、アルケニル、
アリール、アラルキル、アシルは前記のごときものであ
る）。

フェノキシの置換基としては、前記で述べたアリールの
置換基のごときものが用いられる。さらＫ、チアゾリル
の置換基として、九とえはアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、アミノなどで置換され九嶽素敷３〜
４のアシルアミノを用いてもよい。複素環基の置換基と
して、たとえはアルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニト
ロ、ア　　　　　□ミノなどで置換され九フェニルを用
いてもよい。

フレイドにおける置換基としては、九とえば、ナトリウ
ム、カリタムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバモ
イル、スルファモイル、アミジノ、炭素数ｌ゛〜３のア
ルキルなどが用いられる。スルファモイル♂における置
換基としては、例えば、炭素数ｔ−Ｓの低級アルキル、
アミジノなどが用いられる。アルケニレンの置換基とし
ては、たとえば、カルボキシ、シアノなどが用いられる
。

丸はそれらの混合物を表わす。

上記のアシル基において、式Ｒ’　−Ｃｏ−で表わされ
るアシル基の具体例として、九とえばホ殖ミル、アセチ
ル、ヘキサノイル、ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイル
、畠−（Ｓ、Ｓ−ジクロロフェニル）−Ｉ−メチルイソ
キナゾール一番−イルーカルボニル、Ｋ−／＋ルー８−
フェニル一番−イソキナ３１− ゾリルカルボニル、番−エチル−３，３−ジオキソ−１
−ピペラジノカルボニルなどが用いられる。

ルＮ“　−カルボベンゾキシ−ｒ−Ｄ−グルタミル−Ｄ
−アラニル、Ｄ−フェニルクリシル−Ｄ−アラニル、Ｎ
−カルボベンゾキシ−Ｄ−アラニル、Ｎ−カルボベンゾ
キシ−Ｄ−フェニルグリシル、Ｄ−７ラニルーＤ　−フ
ェニルクリシル、γ−Ｄ−グルクミルー、Ｄ−アラニル
、５−（４−エチル−３、ｓ−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボキサミド）−３−フェニルアセチル、５−（４
−エチル−雪、３−ジオキソ−１−ピペラジ７カルポキ
デミ）？）−ｓ−（４−スルホキシフェニル）アセチル
、Ｎ−（４−エチル−８，３−ジオキソ−１−ピペラジ
ノカルボニル）−〇−アクニル、Ｎ−（番−エチル−３
，ｓ−ジチオオキソ−１−ピペラジノカルボニル）−Ｄ
−フェニルグリシル、２゜８−ビス−（４−工儂ルー２
．畠−ジオキソーｌ−ビイラジノカルボキサミド）アセ
チル、怠−（８３− ■−アミノー鴫−チアゾリル）−ｓ−（＋−エチル−ｓ
、３−ジオキソ−１−ピ〆ラジノ力ルポキサミド）アセ
チル、ｇ−（４−ヒドロキシ−６−メチルニコチンアミ
Ｆ）−ｍ−フェニルアセチル、！−（４−ヒドロキシ−
６−メチルニコチンアミＦ）−１−（４−ヒドロキシフ
ェニル）アセ・チル、ｓ−（藝、８−ジヒドロ−畠−（
４−ホルミル−１−ピペラジニル）−５−オキソピリド
〔雪、３−ｄ）ピリミジン−６−カルボキサミド）−２
−フェニルアセチル、５−（３ｉ−ジオキソ−１゜１．
４−）リアジン−６−カルボキサミド）−！−（４−＊
ドロキシフェニル）アセチル、怠−（易−フルフリデン
アミノー露−オキソイミダゾリジン−１−カルボキサミ
）”）−１−フェニルアセチル、Ｓ−（クマリン−３−
カルボキナミド）−８−フェニルアセチル、１−（４−
ヒドロキシ−チーメチル−１，ＩＩ−ナフチリジン−３
−カルホキすミド）−怠−フェニルアセチル、１−（４
，−ヒドロキシーテートリプルオロメチルキノリン−３
−カルボキサミド）−露−フェニルアセチル、Ｎ−（怠
−（Ｓ−アミノ一番−チアゾリル）アセチル〕−〇−７
エニルグリシル、２−＜８−プロモーｌ−エチル−１１
番−ジヒドロ−４−オキソチェノ（１，８−ｂ）ピリジ
ン−３−カルボキサミ）”）−１−７エニルアセチル、
！−（４−エチ７Ｌ’　−ｇ　、　ｌ　−ジオキン−１
−ピＲラジノヵルボキサミド）−１−チェニルアセチル
、＊−（４−ｎ−ペンチル−３，３−ジオキソ−１−ピ
Ｒラジ７カルポキサミド）−露一チェニルアセチル　ｆ
−（４−ｎ−オクチル−３，３−ジオキソ−１−ピはラ
ジノ力ルポキサミド）−２−チェニルアセチル、”−（
＋−シクロヘキシル−３，３−ジオキソ−１−ピはラジ
ノ力ルポキサミド）−■−チェニルアセチル、！−（４
−（１−フェニルエチル）−１，８−ジオキソ−１−ビ
ベラジノ力ルポキナミト〕−雪−チェニルア七チル、”
（ｓ−メチルスルホニル−８−オキソイミダゾ、リジン
−１−カルボキサミド）−息−フェニルアセチル　２−
（３−フルフリデンアミノ−１−オキソイミダゾリジン
−１−力ルポキサミド）−ｓ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）アセチル、ｇ−（４−エチル−露、３−ジオキソ−
１−ピイラジノカルボギサミＦ）−ｓ−（４−ベンジル
オキシフェニル）アセチル、２−（４−ｘチ／Ｌ／−１
，８−ジオキ７−１−ビ４ラジノカルボキサミド）−ｚ
−（４−メトキシフェニル）アセチル、＊−（８−ヒド
ロキシ−１Ｓ＆−ナフチリジン−γ−カルボキサミド）
−Ｓ−フェニルアセチルなどが用いられる。

（Ｒ”　−Ｒ”　−ＣＯ−で表わされるアシル基の具体
例として、たとえば、Ｎ−（ｆｉ−（！−アミノー４−
チアゾリル）−３−メトキシイミノアセチル）−Ｄ−ア
ラニル、Ｎ−ＣＢ−Ｃ２−アミノ一番−チアゾリル）−
８−メトキシイミノアセチル〕−Ｄ−フェニルグリシル
、８−（ｌ−アミノ−４−チアゾリル）−Ｓ−（Ｓ−（
Ｓ−アミノ−４−チアゾリル）−！−メトキシイミノア
セタミド〕アセチル、愈−（１−クロロアセタミド−４
−チアゾリル）−３−メトキシイミノアセチル、露−（
愈−アミノ一番−チアゾリル）−２−メトキシイミノア
セチル、ｓ−（ｇ−アミノ一番−チアゾ−ＩＳ、− ジル）−３−エトキシイミノアセチル、ｇ−（ｇ−アミ
ノ−４−チアゾリル）−３−プロポキシイミノアセチル
、ｓ−（ｍ−アミノ一番−チアゾリル）−２−ブトキシ
イミノアセチル、＊−（１−アミノ−４−チアゾリル）
−２−ベンジルオキシイミノアセチル、ｚ−（露−アミ
ノ−４−チアゾリル）、−Ｓ−アリルオキシイミノアセ
チル、寥−（！−アミノー器−クロロ一番−チ７ゾリル
）−３−メトキシイミノアセチル、＊−（！−アミノー
５−プロモー４−チアゾリル）−！−メトキシイミノア
セチル、ｇ−（ｍ−アミノ一番−チアゾリル）−３−オ
キシイミノアセチル、露−チェニルー露−メトキシイミ
ノアセチル、２−フリル−３−メトキシイミノアセチル
、１＝（１，ｌ、４−チアジアゾール−３−イル）−３
−メトキシイミノアセチル、５−（ｔ、ｌ、４−チアジ
アゾール−５−イル）−！−メトキシイミノアセチル、
露−（１，１１，４−チアジアゾリル）−３−メトキシ
イミノアセチル、！＝（４−ハイドロキシフーエニル）
−３−メトキシイミノアセチル、３−７３６一 ユニルー２−メトキシイミノアセチル、２−７エ二ルー
２−オキシイミノアセチル、８−〔４−（γ−Ｄ−グル
タミルオキシ）フェニルツー２−オキシイミノアセチル
、”（＋−（ｓ−アミノ−８−カルボキシプロポキシ）
フェニルツー２−オキシイミノアセチルなどが用いられ
る。

具体例として、九きえば、ａ−スルホフェニルアセチル
、ａ−カルボキシフェニルアセチル、α−ハイドロキシ
フェニルアセチル、ａ−フレイドフェニルアセチル、ａ
−スルホフレイドフェニルアセナル、ａ−スルファモイ
ルフェニルアセチル、１１−フェノキシカルボニルフェ
ニルアセチル、ａ−（ｐ−）！ｊルオキシカルボニル）
フェニルアセチル、−一ホルミルオキシツエニルアセチ
ルなどが用いられる。

式　Ｒ”　−Ｒ”　−ＣＨ，−ＣＯ−で表わされるアシ
ル基の具体例としては、たとえば、シアノアセチル、ア
セトアセチル、フェニルアセチル、フェノキシアセチル
、２−アミノ−器−カルボキシバレリル、暴−オキソ−
２−カルボキシバレリル、４−カルボキシブチリル、ト
リフルオロメチルチオアセチル、シアノメチルチオアセ
チル、ｌＨ−テトラゾリル−１−アセチル、チェニルア
セチル、５−（３−アミノ一番−チアゾリル）アセチル
、４−ピリジルチオアセチル、２−チェニルチオアセチ
ル、３、暴−ジクロロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ
ピリジン−１−アセチル、β−カルボキシビニルチオア
セチル、ｓ−（ｍ−アミノメチルフェニル）アセチルな
どが用いられる。

上記のアシル基中のアミノ基および／ｉたはカルボキシ
ル基および／またはヒドロキシル基は、保護基を有して
いる場合も含む。

該アミノ基の保護基としては、前述のアミノ基の保護基
と同様のものが用いられる。また、カルボキシル基の保
護−としては、β−ラクタムおよ−び有機化学の分野で
通常カルボキシル基の保護基として使用し得るものけす
べて利用でき、九とえばメチル、エチル、ｎ−プロピル
、インプロゼル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ−アミル
、ベンジル、ｐ−二トロペンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、ベンツヒトリール、ｌ−インダニル、フェナシル、
フェニル、ｐ−ニトロフェニル、メトキシメチル、エト
キシメチル、ベンジルオキシメチル、アセトキシメチル
、ピパロイルオキシメチル、β−メチルスルホニルエチ
ル、β−トリメチルシリジルｆＡｔ、メチルチオメチル
、トリチル、β、βミβ−トリクロロエチル、β−ヨー
ドエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、アセチ
ルメチル、ｐ−二トロペンソイルメチル、ｐ−メシルベ
ンゾイルメチル、ブチルイミドメチル、プロピオニルオ
キシメチル、１，１−ジメチルプロピル、８−メチル−
３−ブテニル、サクシンイミドメチル、３．５−ジｔｅ
ｒｔ−ブチル一番−ヒドロキシベンジル、メシルメチル
、ベンゼンスルホニルメチル、フェニルチオメチル、ジ
メチルアミノエチル、ピリジン−１−オキサイド−３−
メチル、メチルスルフィニルメチル、ビス（ｐ−メトキ
シフェニル）メチ３９− ル、３−シアノ−１，ｌ−ジメチルエチル等のエステル
残基、シリル基などが用いられる。ヒドロキシル基の保
護基としては、β−ラクタムおよび有機化学の分野で通
常ヒドロキシル基の保護基として使用し得るものはすべ
て利用でき、たとえばアセチル、クロロアセチルなどの
エステル残基、β、β、β−トリクロロエトキシカルボ
ニル、β−トリメチルシリジルトキシ力ルボニルｔｋト
のエステル化され九カルボキシル基、ｔｅｒｔ−ブチル
、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、トリチル、メチルチ
オメチル、β−メトキシエトキシメチルなどのエーテル
残基、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルなどのシリルエーテル残基、３−テトラヒｆａピラ
ニル、番−メトキシ一番−テトラヒドロピラニルなどの
アセタール残基などが用いられる。前記保護基の選択は
、本発明においてはアミノ基、カルボキシル基の保護基
と同様、特に限定されるものてはない。

式ＣＩ）、（ＩＩ）Ｋおける記号Ｒは、水素原子または
エステル残基を示す。Ｒで示されるエステｓｅ− ル挾基としては、たとえばメトキシメチル、エトキシメ
チル、インプロポキシメチル、ａ−メトキシエチル、−
一エトキシエチル等のアルコキシメチル、α−１ルコキ
シエチル等のａ−アルコキシ−ａ−置換メチル基、メチ
ルチオメチル、エチルチオメチル、イソプロピルチオメ
チル等のアルキルチオメチル基、を九ピパロイルオキど
メチル、−一ア竜トキシプチル等のアルキルメチル基ま
九はα−アシルオキシ−ａ−置換メチル基、エトキシカ
ルボニルオキシメチル、ａ−エトキシカルボニルオキシ
エチル等の一一アルコキシ員酸−−−置換メチル基等が
用いられる。

式ＣＩ）における記＠Ｒ４は、求核性化合物の残基を示
す。ここにおいて求核性化合物としては、たとえば求核
性の窒素、炭素、まえは硫黄を有することＫよって特徴
付けられる求核性物質でセファロスポリン化学に関する
従来の報文に広く記載されている物質が用いられる。か
かる求核性化合物としては、九とえは硫黄求核性化合物
、窒素求核性化合物、炭素求核性化合物などが用いられ
る。

されていてもよい豐素原子１個ないし暴個を含有するか
、窒素以外の九とえは酸素硫黄などの原子を含有してい
てもよい含窒素複素環チオールなどが用いられ、これら
のその棟上に置換基を有するものも含まれる。このよう
な含窒素複素環基としては、たとえばピリジル、Ｎ−オ
キグビリジル、ピリミジル、ピリダジニル、Ｎ−オキシ
ドピリダジニル、トリアジニルなどの６員含窒素複素環
基、イミダゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、オキ
ナシアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの暴員
含窒素複素環基が用いられる。また、これら含窒素複素
環基上の置換分としては九とえば水酸基、アミノ基、カ
ルボキシル基、カルバモイル基、低級アルキル基（たと
えばメチル、エチル、トリフロロメチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソメチルなど）、低級アルコキ
シ基（たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシなど）、ハロゲン原子（たとえば塩素、臭素など）
、あるいは低級アルキレン基、−５−、−Ｎ−基などの
多価基を介して種々の置換基を有するものが用いられる
。多価基が低級アルキレン基である場合には、この置換
分はモノまたけジ低級アＩレキルアミノ基、モルホリノ
基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、低級アルキルカルバモイル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、
アシロキシ基、モルホリノカルボニル基などであっても
よく、又多価基が−５−、−Ｎ−基である場合には、置
換分は低級アルキル基および上記置換分を有する低級ア
ルキレン基などであってもよい。多価基が−Ｎ−である
場合には、さらにアルコキシカルボニル基、アシル基、
カル／櫂モイル基、低級アルキルカルバモイル基などが
直結していてもよツ具体的には、たとえばピリジンチオ
ール、ピリジンチオール、メチルピリダジンチオ−１し
、４．　　！ｉ−ミージヒドロ−６−ヒワキシー４−メ
チル−１゜８．４−トリアジン−３−チオール、３−メ
チル−１，６−シオキンー１．！、５．６−チトラヒド
ロー１．ｆｉ、４−トリアジン−＄−・チオ−１し、ｓ
３− イミダゾールチオール、１，８．４−チアジアゾールチ
オール、１，２．３−チアジアゾ−ノド］−チオーノへ
２−メチル−１，８，４−チアジアゾールチオール、チ
アゾールチオール、５−メチル−１，３，４−オキサジ
アゾールチオール、ｌ。

２．３−トリアゾール−５−チオール、ｌ−メチル−テ
トラゾールチオール、ｌ−（３ｍ−ジメチルアミノエチ
ル）−テトラゾールチオール、１−（Ｓ−スルホエチル
）−テトラゾールチオール、１−スルホメチルテトラゾ
ールチオールガどの複素環チオールが用いられる。その
他、メタンチオール、エタンチオール、チオフェノール
などの脂肪族、芳香族チオール、チオ尿Ｌ　Ｎ−メチル
チオ尿素などのチオ尿素誘導体、−チオアセトアミド、
チオベンズアミドなどの、チオアミド誘導体などが用い
られる。これらの硫黄東線性化合物は遊離形のｆｔＳ或
いはそれらの酸性基における塩基との塩又は塩基性基に
おける酸との塩などの形で反応に用いることができる。

窒素末枳性化合物としては、九とえば三級脂肪族１、芳
香族、芳香脂肪族及−３← び環式のアミン類例えばトリアルキルアミン類（トリエ
チルアミンなど）、ピリジン塩基ｌ［（ピリジン及びア
ルキルピリジン類など）、１個より多い異種原子を有す
る複素環式アミンでヂなくとも１個の異種原子が窒素で
あるもの、たとえばピリミジン類、プリン類、ピリダジ
ン類、ピラジン類、ピラゾール類、イミダゾール類、ト
リアゾール類及びチアゾール類などがある。好ましい窒
素求核性化合物としては、式 〔式中、ｎｌは・であるか又は１〜５の整数であ抄また
ｉｎ　（これはｎ、がＳ−Ｓの場合には同じであっても
異なってもよい〕は脂肪族基、例えば低級アルキル（メ
チル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓ。

−プロピルなど）など、アリール基、例えばフェニル麿
と、芳香脂肪族基、例えばフェニル低級アルキル（ベン
ジル、フェニルエチル＆と）ｅ、！’、又はアルコキシ
メチル例えばメトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プ
ロポキシメチル、ｔＷＯ−プロポキシメチルなど、又は
アシルオキシメチル例えばアルカノイルオキシメチル例
えばアセトキシメチル牟ど、ホルミル、カルバモイル、
アシルオキシ例えばアルカノイルオキシ例えばアセトキ
シなど、エステル化カルボキシ、アルコキシ例えばメト
キシ、エトキシ、鳳−プロポキシ、１ｓｏ−プロポキシ
など、アリールオキシ例えばフェノキシなど、アルアル
コキシ伺えばベンジルオキシナト、アルキルチオ例えば
メチルチオ、エチルチオなど、アリールチオ、アルアル
キルチオ、シアノ、ヒドロキシ、Ｎ−モノ低級アルキル
カルバモイル、例、ｔばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−
エチルカルバモイルなど、Ｎ−Ｎ−ジ低級アルキルカル
バモイル例えばＮ−Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−Ｎ
−ジエチルカルバモイルなど、Ｎ−Ｃヒドロキシ低級ア
ルキル）カルバモイル、例えばＮ−（ヒドロキシメチル
）カルバそイル、Ｎ−（ヒドロキシエチル）カルバモイ
ルナト、又はカルバモイル低級アルキル、例えばカルバ
モイルメチル、カルバモイルエチルなどの基である〕で
表わされる化合物などが用いられる。具体的には、たと
禾げピリジン、ピコリン、ニコチン酸、ニコチン酸アミ
ド、インニコチン酸アミド、ピリジンスルホン酸、ピラ
ジン、３−カルバモイルピラジン、ピリダジン、ピリミ
ジンイミダゾール、ｌ−メチルイミダゾールなどの含窒
素複素環化合物などが用いられる。

炭素求棟性化合物としては、たとえば無機シアニド類、
ビロール類及び置゛換ビロール類（例えばインドール類
）、及び安定化され丸カルブアニオンを与える化合物、
例えばアセチレン類及びβ−ジケトン基を有する化合物
、例えばアセト酢酸エステル及び實ロン陵エステル類及
びシクロヘキサン−１−ｌ−ジオン類又はエナミン類、
エナミン類又はエノール類などが用いられる。たとえば
、式〔式中、Ｒ“及びＲ″は同一であるか又は相異な染
、水素、シアノ、低級アルキル（例えばメチル３７− 又はエチルなど）、フェニル、置換フェニル（例えばハ
ロ、低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、アミノ又
は低級アルキルアミノフェニルなど）、低級アルコキシ
カルボニル、七ノー又はジーアリール低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルキル力　、ルボニル、アリール低級
アルキル又はＣ５又けＣ。

シクロアルキルから選択され、またＲ″は、水素、低級
アルキル（メチル又はエチルなど）、フェニル、’置換
フェニル（例１Ｍハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロ、アミノ又は低級アルキルアミノフェニルなど
）、アリール低級アルキル又はＣ５又Ｆｉｃ、シクロア
ルキルを示す〕で表わされる基などをセファロスポリン
棟の３位置換分に導入し得る化合物ガどが用いられる。

また、式ＣＩ）および〔田〕Ｋおける点線（を示してい
る。

本発明において用いられる三価または三価の環状リン化
合物としては、式〔璽〕で表わされる部分構造を化学構
造式の基本部ま九は一部として有する三価ま九は三価の
環状リン化合物が用いられる。したかつ七、式（１）中
のｐは三価または三価のリン原子を示す。また、式〔璽
〕中のｗ＃ｉ、酸素原子、イオク原子またはＮＲ”を示
し、ｗｌけ酸素原子、イオク原子または取８を示す。ｗ
、ｗ’＃ｉ同一のものを示してもよ＜、１九相異なるも
のを示してもよいが、通常Ｗとｗｌが同一の場合有利に
用いられる。Ｒ１、Ｒ１は同一または相異なって水素原
子または炭化水素基を示す。Ｒ１、Ｒ１で示される炭化
水素基としては、たとえばアルキル、シクロ本 キニル、アリール、アラルキルなどが用いられる。

＊ ここにおいて、アルキル、シクロアルキル、アル本　　
　　　　　　　　　　　　　　　本　１クニル、シクロ
アルケニル、アリール、アラルキル嘔としては、たとえ
ば記号１１．、．１１＠の説明で述べたものなどが繁用
される。アルキニル基とじては、直鎖状ｆ九は分枝状の
炭素数２〜−の低級アルキニル基がよく、たとえばエチ
ニル、１−プロピニル、３−プロピニルなどが繁用され
る。これらのアルキニル基は、置換基を有していてもよ
く、たとえば前記Ｒ１〜Ｒ誇で述べたアルキル、アルク
ニ′に悩置換基などで置換されていてもよい。

このような呈価または三価の環状リン化合物としては、
たとえば式 まえは式 〔式中、Ｑ’、Ｑ”は同一または相異なって炭化水素基
または複素＾を、またはＱｌ、Ｑ！が相互に結Ｖは酸素
原子、イオク原□子、ＮＲ″（Ｒ−水素原４または炭化
水素基）ｔたは゛結合手を、Ｑ”はハロゲン原子、炭化
水素基または複素ｉ−を、但しＱ３がハロゲン原子の時
ハＷ３は結合手を示す）で表わされる基を、またはｘ＝
ｙ、ｚのいずれか二者が結合してオキソ基または式、Ｗ
”−Ｑ’−Ｗ’−（Ｑ’は炭化水素基ま良は複素−一を
、ｗ”、ｗ’Ｆ１同一まえは相異なって酸素原子、イオ
ク原子、ＮＲ’（Ｒ″け水り原子またはＮＲ”　（Ｒ”
は水素原子またＦ１巌化水素基）を、他は前記と同意義
を示す）で表わされる基を、他の記号ｗ、ｗ”は前記と
同意義を示す〕で表わされる環状リン化合物などが用い
られる。式〔！璽〕、０１〕中、Ｑｌ、ｑヒ同一またけ
相異なって炭化水素基または複素轟を示す　Ｑｌ、Ｑ８
で示される炭化水素基としては、たとえば前記Ｒ１、Ｈ
ａで述べたごときものなどが用いられ、複素−電として
は、たとえげ前記Ｒ１〜Ｒ′で述べ丸ごときものが用い
られる。また、”Ｑ’、Ｑ”は相互に結合して　Ｑｌ、
４１− 化水素基としては、たとえばシクロアルケニル、アリー
ル基などが用いられる。これらシクロアルケニル、アリ
ール基としては、たとえば前記Ｒ３、Ｒ′で述べたもの
などが用いられる。通常、Ｑ’、Ｑ”が同一である場合
、または相互に結合して環状炭化水素基を示す場合が有
利に用いられる。！、　Ｘ２は同一または相異なって式
−Ｗ”−ＱＩＣＷ”は酸素原子、イオク厚子、ＮＲ″（
Ｒ１１１は水素原子または炭化水素基を示す）まえは結
合手を　Ｑａはハロゲン原子、炭化水素基または複素ｊ
基を、似しＱｓがハロゲン原子の時はＶは結合手を示す
〕で表わされる基を示す。Ｖで示される織１のＲ″は、
水素原子゛または炭化水素基を示す。Ｒ−示される炭化
水素基　Ｑｌで示される炭化水素基、複素−一としては
、九とえは前記Ｑ”、　Ｑ”で述べた４のなどが用いら
れる。ＷＳｉ、前記のｗ、ｗ”と同一であっても□まえ
は相異なっていてもよい、ＱＩで示されるハロゲン原子
としては、九とえは前記Ｒ″〜Ｒ１９で述べたものなど
が用いられる。また、Ｘ、Ｙ、Ｚは、いずれか二者九七
えばＸとＹＳＹと２などが結合してオキ４１− ソ基を九は式−ｗｌ　　ｑ４−ｖｖ４−で表わされる基
を示し得る。Ｑ・は炭化水素基、複素＾を票し、このよ
うな炭化水素基、複素環基としてはたとえば前記Ｑ”、
Ｑ”で述べたごときものなどが用いられる。

Ｗｌ、Ｗｌは同一１えは相異なつ九ものでもよく、酸素
原子、イオク厚子、ＮＲ″まえは結合手を示す、。

ここにおいてＲＷは、水素原子を九は炭化水素基を示す
。Ｒ−示される炭化水素基としては、たとえば前記１１
、Ｒ１で述べたごときものなどが用いられる。ｗ”、ｖ
’は、前記のｗ、　ｗ”と同一のものあるいってもよい
。Ｖは、酸素原子、イオク原子またはＲ”を示し、ｒは
水素原子ｆ九は炭化水素基を示す、Ｒ−示される炭化水
素基としては、前記Ｒ３、ＲＷで述べたごときものなど
が用いられる。このような三価または五個の環状リン化
合物のなかで、〔式中、人はベンゼン環の置換基を　１
１けハロ＊ ゲン原子、アルキルオキシ、アリールオキシ、ア本　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　本ツルキルオキシ、アルキルアミノ、アリー
ルアミ水率 ）、アラルキルアミノまたはアリールを示す〕、〔式中
のＡＳＸ’ｔｆ前記と同意義〕、または式〔式中、ムｄ
前記と同意義を、ｘｏ、ｙ”、　ｚ＠は同一または相異
なってｘｌと同意義を示す〕で表わされる環状リン化合
物が用いられる。式〔！マλ［ｎ）、（ｎｌ）Ｋおける
Ａは、ベンゼン環の置換基を示し、反１５Ｋｌｌｌ）し
表いものであれば如何なるものでもよい。たとえばアル
キル、アルキルオキシ、アル率 キルチオ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、アル率 キルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、カルバモ
イル、アルキルカルバモイル、脂肪族アシル（アセチル
、プロピオニルなど）、芳香族アシル（ベンゾイル、ｐ
−クロロペンソイルナト）すどが用いられる。さらに、
ＡＦｉたとえばメチレンジオキシ、　Ｃ，００、などで
あってもよく、これらはたとえば塩素、臭素などのノ・
ロゲン原子、ニトロ、シアノ基などで置換されていても
よい。ムおよびｘｌ　　１＠ＸＹ！、　ｚ＠において、
ハロゲン原子、アルキル、アリール、アラルキル基とし
ては、記号Ｒ１〜Ｒ１１で述べ九ごときものが用いられ
る。　ｘ”Ｘｘ”、ｙ”、　ｚ”　　の好ましい例とし
ては、九とえば塩素、臭素、弗素などのＩ・ロゲン原子
、メトキシ、エトキシ、亀＆露−トリクロロエトキシ、
１−シアノエトキシ、怠−メチルスルホニルエトキシな
どの置換されていてもよいＣ１〜Ｃ。

の低級アルキルオキシ基、フェノキシ、番−クロロツエ
ノキシ、番−ニトロフェノキシなどの置換されていて−
よいアリールオキシ基、ベンジルオキシ、アリ−７レオ
キシ、ｐ−ニトロベンジルオキシ、１．１−ジメチルア
リールオキシなどの置換されていてもよいアラルキルオ
キシ基　／％イドロキシ基などが用いられる。また　Ｘ
Ｉ、Ｙ＠、Ｚ＠　　のうちの二者九とえばｘｏとｒ１ψ
と２＠はが互に連４５− 結してたとえばＯ−フェニレンジオキシ、エチレンジオ
キシなどを示していてもよい。式〔Ｉマ〕又は式〔！■
〕で貴わされる環状リン化合物の場合にはｘｌが一〇−
の連結基を示し互にダイマーとなっていてもよい。環状
リン化合物の具体倒を示せば、例エバ・−フェニレンホ
スホロクロリゾエイト、・−フェニレンホスホロ７０リ
ゾエイト、メチルＯ−フェニレンホスフェイト、エチル
・−フェニレンホスフェイト、１−プロピル０−フェニ
レンホス７エイト、１ｓｏ−プロピルａ　−フェニレン
ホスフェイト、−−グチル０−フェニレンホス７エイト
、イソブチル・−フェニレンホス７エイト、Ｉｅｃ−ブ
チル・−フェニレンホスフェイト、シクロへキシル・−
フェニレンホス７エイト、７エ二／ ル・−フェニレンホス７エイト、ｐ−９０ロフエニル・
−フェニレンホスフェイト、−一アセチルフェニル・−
フェニレンホス７エイト、Ｓ−クロロエチル・−フェニ
レンホス７エイ）、＆＆！−′トリク四ロエチル・−フ
ェニレンホス７エイト、エトキシカルボニルメチルＯ−
フェニレンホス７４６− エイト、カルバモイルメチルＯ−フェニレンホスフェ４
）、１１−シアノエチル・−フェニレンホスフェ４）、
ｌ−メチルスルホニルエチルＯ−フェニレンホス７エイ
ト、ベンジル・−フェニレンホスフェ４）、Ｌｌ−ジメ
チル−３−プロペニルＯ−フェニレンホスフエイ）、！
−／ロペニル０−フェニレンホスツエイト、３−メチル
−怠−フチニル・−フェニレンホスフェイト、２−チェ
ニルメチル・−フェニレンホスフェイト、ｚ−フルスリ
ルメチル０−フェニレンホスフェイト、ビス−・−フェ
ニレンピロホスファイト、！−フェニルーＬ＆３−ベン
ゾジオキサホスホ−ルー２−オキシド、ｚ−（デークロ
ロフェニル）−ｔ＆ｇ−ベンゾジオキナホスホ−ルー３
−オキシド、Ｓ−（烏−ブチル）−ＬｌｌＬｌ−ベンゾ
ジオキサホスホ−ルー怠−オキシド、３−アニリノ−Ｌ
　ａ　ｓ　−ペンゾジオキテホスホールー２−オキシド
、２−フェニルチオ−Ｌｌｌ−ベンゾジオキサホスホ−
ルー禽−オキシド、クーメトキシ−５−メチル−１，＆
畠−ペンゾジオキサホスホールー２−オキシド、２−ク
ロロ−器−エトキシ力ルボニル−ＬＬｆｆｉ−ベンゾジ
オキナホスホ−ルー２−オキシド、２−メトキシ−２−
エトキシカルボニル−１，ｌ！Ｌ！−ベンゾジオキサホ
スホール２−オキシド、ｉ−エトキシカルボニル−２−
フェニル−Ｌｌ−ベンゾジオキナホスホ−ルー２−オキ
シド、亀５−ジクロローＬ１１−ベンゾジオキサホスホ
−ルー２−オキシド、４−クロロ−２−メトキシ−ＬＬ
ｆｆｉ−ベンゾジオキナホスホールクーオキシド、２−
メトキシ一番−メチル−Ｌｌｌ−ベンゾジオキナホスホ
−ルー怠−オキシド、亀８−ナフタレンメチルホスフェ
イト、４・−ジメチル２−メトキシ−Ｌｌｌ−ベンゾジ
オキナホスホ−ルー２−オキシド、＆２−ジヒドロー４
翫へ７−チトラクロロー＆＆１−）リメトキシーＬ＆ｌ
−ベンゾジ、オキサホスホール、亀露−ジヒドロー４＆
ａ７−チトラクロロー＆＆ｊ−）リフエノキシ−Ｕｌ−
ベンゾジオキナホスホール、＆２−ジヒドロー亀ｚ−エ
チレンジオキシ−露−メトキシロ口−ベンゾジオキサホ
スホール、亀３−ジヒドロ！−ベンジル−ａ２−ジメト
キシ−１，＆２−ベンゾジオキサホスホール、＆２−ジ
ヒドロー４５−ベンゾー区亀！−トリメトキシ−１，＆
露−ペンゾジオキサホスホール、３ｇ−ジヒドＯ＆Ｌｆ
ｉ−）リフエノキシ−１，Ｂ、　＠−ベンゾジオキサホ
スホール、亀３−ジヒドロー・＆！−（０−７エニレン
ジオキシ）−２−フェノキシ−ＵＵ−ベンゾジオキサホ
スホール、２−クロロ−＆２−ジヒドローａｇ−（ｅ−
フェニレンジオキシ）−Ｌ＆ｆｉ−ベンゾオキサアスホ
ール、＆ｚ−ジヒドロー２−メトキシーＩＬＩ−（０−
フェニレンジオキシ）　−Ｌ　ｓ、　ｔ−ベンゾジオキ
サホスホ−１へ　＆２−ジヒドロー＆スト→リクロロ−
Ｕｄ−ベンゾジオキサホスホール、ｌｉｉ、１０’−７
エナンスレンジオキシトリメトキシホスホラス、Ｏ−フ
ェニレンホスホロクロロダイト、Ｏ−フェニレンホスホ
ログロミダイト、〇−フエニレンホスホロフロリダイト
、メチルローフェニレンホスファイト、ｎ−ブチル０−
フェニレンホスファイト、メトキシカルボニルメチル０
−７二二レンホスフアイト、フェニル０’−７エ二４９
− レンホスファイト、ｐ−クロロ（またＦｉ、ｐ−ニトロ
）フェニル０−フェニレンホスファイト、！−７Ｘニル
ーＬ＆ｌ−ベンソシ、オキサホスホール、ビス・−フェ
ニレンピロホスファイト、邸−メトキシ−５−メチル−
Ｌ！Ｌ！！−ベンゾジオキサホスホール、ｉ−アセチル
−１−フェノキシ−Ｕｌ−ベンゾジオキサホスホール、
＆１Ｇ−７エナンスレンホスホロクロリダイト、３−ク
ロロ一番−メチル−１４−ベンゾジオキナホスホール、
１−エトキシカルボニル−ｓ−フェニル−Ｌｌｌ−ベン
ゾジオキナホスホール、露−クロロー２−チーオキソ−
Ｌｌｌ−ベンゾジオキサホスホール、ｚ−フェノキシ−
８−オキソ−Ｌ＆２−ベンゾジアザホスホール、ｚ−フ
ェノキシ−Ｌｌｌ−ベンゾオキサアゾホスホール、＆８
−ジヒドロー３−オキソー　き−メトキシ−ｔｉ−ジメ
チル゛−ＬＬ！・＝ジオキナホスホール、＆８−ジヒド
ロー８−オキソーｌ−クロロ−４１−ジメチル−■」−
ジオキナホスホール、亀２−ジヒドロー２−オキソ−３
−（１−イミダゾリル）−４６−シメチルーＬ＆５０− ２−ジオキサホスホール、亀２−ジヒドロー＆２−エチ
レンジオキシー２−メトキシ−４６−シメチルーＬ＆ｊ
ｌ〜ジオキサホスホール、＆３−ジヒドロー＆３−ジメ
トキシ−禽−７エノキシ−４５−ジメチル−１４−ジオ
キナホスホール、ｌ−ジヒドロ九九１−トリメトキシ−
４ｓ−ジメチル−Ｌａｌ−ジオキナホスホール、亀３−
ジヒドｔ７亀＆１−トリフエノキシ−４５−ジメチル−
丸亀１−ジオキナホスホール、亀１−ジヒドロー亀３ｍ
−）リエトキシー４５−ジフェニル−Ｌ＆！−ジオキナ
ホスホール、１ｆｉ−ジヒＦＯ＆＆ｌ−トリメトキシ−
＆ｓ−ジフェニル−いｄ−ジオキサホスホール、亀３−
ジヒドロー雪−オキソー３−メトキシ−４ｉ−ジフェニ
ルＬａｌ−ジオキナホスホール、亀雲−ジヒドローａ亀
ｚ−トリメトキシ−ＬＩＬＩ−ジオキサホスホール、＆
雪−ジヒドローし１−トリメトキシ−４−フェニル−Ｌ
ａｌ−ジオキサホスホール、＆８−ジヒドロー１１−ト
リメトキシ−４−メチル−ＬＩＬＩ−ジオキサホスホー
ル、＆３−ジヒドロー＆＋１−）リメトキシ一番−メチ
ルー５−フェニルカルバモイル−ｔ＆雪−ジオキナホス
ホール、電電４＆ＩＬｆ−ヘキナヒドロー亀＆３−トリ
メトキシ−Ｌａｌ−ベンゾジオキナホスホール、亀ｆ′
−オキシビス（４ｓ−ジメチルー亀！−ジヒドロ−Ｌａ
ｌ−ジオキサホスホール）、ａｍ’−オキシビス（４ｓ
−ジメチル−亀２−ジヒドローＬ＆２−ジオキサホスホ
−ルー怠−オキシド）表どが用いられる。これらの環状
リン化合物は市販されているかあるいは自体公知の化合
物である（　Ｒ，Ｓ、　Ｅｄｍｕｎｄｓｏｍ等Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙＢｄ　Ｉｎｄｕｓｔｒｙ　１デテ・〜１テア
１１頁、ＨＩ＃ｆｆｉ年；にＤａｒｅｌｌ　ＩＩＢｅｒ
ｌＩｍ等Ｔｅｔｒｍｅｄｒ＊ｎ　］　９　ｓ　４　牛ｘ
・巻　３テ・―〜３テ１６頁ｓ　Ｆ、　Ｒａｍ１　ｒａ
ｇ　９７　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　１１１６８年ｓ４
巻　ｓ　Ｏ４１−１ｅ　ｓ　ｌＨｓ　ｔ、、　Ａｎｓｃ
ｈｕｔｚ等Ａｎｎａｌｅｎ１１１！？年４５４巻１０９
〜１８・頁＋　Ｔ、　Ｋｏｉｚｕｍｉ等Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｍ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　１１１　？　８年４テロ１
１〜４７６６頁；Ｐ、　Ｃ，Ｃｒｏｆｔｓ　４７　Ｊ、
　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、、　１１１５８年４２５０〜４
２！４頁；　Ｍａｒｉａａｎｅ　Ｍ、　Ｃ，Ｆ、　Ｃａ
５ｔｅｉｉｊｉｎｓ等１゜ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　１９
１１１年４６巻４チ一５３頁〕か、又は公知の方法に準
じて製造することができ、精製したもの或いは反応によ
り生成した屯のをそのまま木灰ｔ）Ｋ用いることができ
る。

本発明においては、前記のごとき三価または五個の環状
リン化合物の代わシに、部分構造口１を有する化合物と
オキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンまたは五ハロ
ゲン化リンとの反応物を用いて４よい。部分構造（Ｗ）
を有する化合物としては、九とえは式 ｃ式中の記号は前記り同意義〕で表わされる化合物など
が用いられる。軒ましい例としては、九とえば式 〔式中の記号は前記と同意義〕で表わされる化５３− 合物などが用いられる。具体例としては、たとえばカテ
コール、＆番−ジヒＦロキシ安息香駿エチルエステル、
＆３−ジヒド′ロキシナ７タレン、へ４−ジヒドリキシ
トルエン、＆３−ジＬドロキシトルエン、＆番−ジヒド
ロキシクロルベンゼン、・−アミノフェノールなどが用
いられる。オキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リン、
五ハロゲン化リンのハロゲンとしては、九とえば塩素、
臭素などが用いられる。具体的には、九とえばオキシ塩
化リン、三塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、オキシ
臭化リンなどが用いられる。部分構造（Ｗ）を有する化
合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化すンｉ九は
五ハロゲン化リンとの反応物としては、九とえは両者を
反応させて得られる反応混合物などが用いられる。通常
、部分構造（Ｉｆ）を有する化合物１モルに対しオキシ
ハロゲン化リン、を九は三ハロゲン化リンを約当モル量
、また社五ハロゲン化リンを約騒〜ＬＯ当量モルを反応
させる。反ｔ５は溶媒中で行なうのがよく、このよう表
溶媒としてはた六えば、塩化メチレン、Ｌｇ−Ｓ番− −ジクロロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル、ベンゼン、プ
ａモベンゼンなどが用いられる。特に、たとえば塩化メ
チレン、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどが繁
用される。反応は、塩基の存在下に行なうと好結果が得
られる場合がある。

用いられる塩基は、たとえばトリエチルアミン、トリグ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジイソグチルア
ミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどであり、好ましくは九
とえばトリエチルアミン、トリー論−プチルアミン、ジ
−ｎ−ブチルアミンなどである。通常、−５０−１４１
０’ｃ好ましくけ−１０−１・℃で反応を行なう０反応
時間＃−１５〜１１０分間好ましく＃ｉｌ　０〜６０分
間であるが、目的の反応物が得られる限シ反応温度、時
間は限定されない。得られる反応物は、通常単離するこ
となくその１１本反応の原料として用いられる。

しかしながら、必要に応じて未反応の原料即ち部分構造
（Ｗ）を有する化合物、オキシハロゲン”化リン、三ハ
ロゲン化リンま九は五ハロゲーン化リンまたは反応で生
ずるハロゲン化水素又はその塩基との塩を反応混合物よ
シ除去した後に１本発明の原料として供給することもで
きる なお、部分構造（Ｎ）を有する化合物は市販のものであ
るか、あるいは公知の方法あるｈはそれに準する方決に
よって製造されることができる。

本発明方法においては、化合物（ＩＩ）と求核性化合物
と（１）部分構造〔厘〕を有する三価または三価の環状
リン化合物、またｉｔ　（２３部分構造Ｃｌ）を有する
化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンまた
は五ハロゲン化リンとの反応物（単Ｋ“反応物１と称す
る場合もある）を有機溶媒中で反応させることＫより、
目的物ＣＩ）を製造することができる。

化合物（ＩＩ）は、ＲＸＲ’に含まれているカルボキシ
ル基、スルホ基などの酸性基を遊離のままで用いてもで
いが、たとえばナトリウム、□カリクム等の無毒性カチ
オン、トリエチルアミン、トリー１−ブチルアミン、ジ
−ｎ−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジ
ン、コリジン、＆６−ルチジンなどの有機アミン婢との
塩を形成させて用いて龜よい。また、Ｒ，Ｒ’に塩基性
基が含まれている場合には、たとえば酢酸、酒石峻、メ
タンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、リン酸など無機駿との塩などを形成さ
せて用いてもよい。求核性化合物は、種類に応じ塩基性
塩の形あるいは酸性塩の形をとることができ、その塩基
性塩および酸性塩のいずれも本発明の原料に含まれる。

このような塩基性塩、酸性塩としては、たとえば化合物
（Ｕ）において述べた様な塩基性における塩、酸性基に
おける塩などが用いられる。

化合物（ＩＩ）と求核性化合物と（１）部分構造（１）
を有する三価または三価の環状リン化合物または（２）
部分構造（Ｗ）を有する化合物とオキシ・・ロゲン化リ
ン、三ハロゲン化リンまたは五ノ・ロゲン化リンとのス
応物と有機溶媒はどのような順序で混合してもよい。化
合物（ＩＩ）と求核性化合物と環状リン化合物と有機溶
媒を混合する場合には、通常化合物（ＩＩ）と求核性化
合物を有機溶媒中混合＝５７− しついで環状リン化合物又はその有機溶媒溶液を添加す
るか、環状リン化合物と求核性化合物を肴機溶媒中−合
しついで化合物（ｎ）又はその有機溶媒溶液を添加して
行なわれる。また、部分構造〔。

Ｗ〕を有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲ
ン化リンを九社五ハロゲン化リンの反応物を用いる場合
も、環状リン化合物の場合と一様にして行なわれる。混
合比率としては、化合物（ｕ）Ｋ対し求核性化合物のモ
ル比がｘｉ　ｏ倍以上がよく、より好ましくＦｉｔ・〜
ｌａＯ倍であに環状リン化合物のモル比はｔ・倍以上が
よく、より好ましくはｔｏ−ｔ。

倍である。部分構造〔Ｗ〕を有する化合物とオキシハロ
ゲン化リン、三ハロゲン化リンまたは五ハロゲン化リン
の反応物を用いる場合の混合比率としては、化合物（Ｉ
Ｉ）Ｋ対し求核性化合物のモル比がＬ・倍以上がよく、
より好ましくはＬＱ−１ａＯ倍であり、部分構造〔１〕
を有する化合物ｔｏ−ｍｓ倍、オキシハロゲン化リンま
たＦｉ三ハロゲン化リすＬ（）〜亀・倍、五ハロゲン化
すン楯〜１０倍がよい。

本反応に用いられる有機溶媒は、反ｊ６［関与しｓ８− ない溶媒であればよく、たとえばホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類
、クロロエタン、イングチルクロリＦ１メチレンクロリ
ド、クロロホルム、Ｕ゛−ジクーロロエタン、四塩化炭
素、１．１．’１−’）リク゛ロロエタン、ＬＬ’ｇ−
）リクロロエタン、ＬＬ亀２−テトラクロロエタン、フ
ルオロベンゼン、°ジクロロベンゼンなどのハロゲン止
置化水素類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テ
トラヒ“ドロ７ラン°、ジオキサンなどのエーテル類、
酢ｉ−メチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピオ
ン駿メチ′ル、炭酸エチレンなどのエステル類、アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニ
トリル類、ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化
合物類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類
、ベンゼン、トルエン、メシチンンなどの炭化水素類な
どが用いられ、これらは混合して用いてもよい。と抄わ
け、たとえば塩化メチレン、アセトニトリル、ホルムア
ミド、ホルムアミドとアセト・ニトリルめ混合溶媒、塩
化メチレンとアセトニトリルの混合溝・液などの有機溶
媒中で反応させると好結果が得られる。部分構造〔Ｗ〕
を有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化
リンまたは五ハロゲン化リンとの反応物を用いる場合に
は、その物自体に有機溶媒を兼ねさせることもで−きる
。、用いら゛れる原料、有機溶媒の種類によっては、塩
基の添加により反応を有利に進めることができる。この
ような塩基は、原料と有機溶媒の混合時に適宜添加する
ことができるが、通常化合物（ｎ）またＦｉ求核性化合
物と共に有機溶媒に混合する。塩基の添加量は、通常化
合物〔１１）Ｋ対してｏ　−ｉ倍モル量が好ましい。こ
のような塩基としては、反応を促進するかあるいは反応
で生成する酸を中和するかあるいは原料を溶解し中すく
する等のもので反応に、影響を与えないものであれば何
でもよく、例えばトリエチルアミン、トリー論−プチル
アミン、ジー鳳−プチルアミン、ジイソブチルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、ピリジン、亀６−ルチジンな
どが繁用される。反応の温度、時間は用いられる化合物
〔■〕、環状リン化合物または反応物、求核性化合物、
有機溶媒、塩基などの量、種類などによって異なるが、
−ｇｏ℃の低温で瞬時反応が終了する場合もあるが、通
常−８０−５ＩＴ：で数秒から十数時間の緩和な条件下
で反応が終了する。とりわけ、−１−０〜４０℃で５−
１８０分間反応させるのが好ましい。但し、一般には、
反応温度を上げれば反応時間は短かくてすむが、副反応
等を抑えるために低温で行なわれる。かくして得られた
セファロスポリン化合物（Ｉ）は、公知の手段、たとえ
ば溶媒抽出、液性変換、転溶、塩析、晶出、再結晶、ク
ロマトグツフィーなどによって単離精製することができ
る。また　１ｇで示されるアシル基の種類によっては、
ＣＩ）、を反応混合液より単離することなく、反応混合
液にジメチルアニリン、トリメチルシリ、ルクロリド１
、五塩化リン、メタノール、水を順次加え公知の方法で
γ位アシｌし基の切断を行い抗菌物質製造の有用な中間
体であるチーアミノセフェム化合物（化合物ＣＩ）にお
いてＲ”ｄＥ水水素原子来示もの）に導くこともできる
・ｉられたー・ｌ− 目的物（１）が遊離のものである場合にｄ１常法に従っ
て塩にしてもよく、このような塩も式（１）の目的物に
包含される。目的物〔■〕の塩としては、原料化合物（
ＩＩ）で述べた様なものであって、たとえばリチウム、
ナトリクム、カリウム、マグネシクムなどのアルカリ金
属、カルシクムなどのアルカリ土類金層、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、ジシクロへキシルアミン、ジイソブチ２レア
ミン、ジーｔｅｒｔ−ブチルアミン、トリエチルアミン
、ピリジン、亀６−ルチジン、トリブチルアミンなどの
アミン類と酸性基における塩、塩酸、硫酸などの拡酸、
シュク酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフーレオロ酢酸
などの有機酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸
、ナフタレンスルホン酸、カンファースルホン酸などの
スルホン酸、メチルリン駿、ジメ、チル燐酸、ジ７工二
ル燐酸などの憐駿、フェニルホスホン酸などのホスホン
酸と塩基性基における塩などが用い−４れる。かくして
得られる目的物〔Ｉ）は、それ自体抗菌性物質として用
いるものもあるが、よ抄優れ九抗菌性物”質を製造する
ための原料化合一・怠− 物としても有用なものもある。例えばＲ１として５−７
タルイミドー５−カルボキシバレル基を有するセファロ
スポリ“シ化合゛物〔Ｉ〕をそれ自体公知の方法で１位
アシル基を切断し、（雪−アミノチアゾール−４−イル
）酢酸又はその反応性誘導体と反応させγ−（ｍ＝（ｇ
−アミノチアゾール−４−イル）アセタミド３体に導び
くことかでキ、りとえば抗生物質チー（＊−（ｇ−アミ
ノチアゾール一番−イル）アセタミド）−ｓ−（ｘ−（
ｇ　−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノヱチル）−ＩＩ−テトラ
ゾール−５−イル〕ヂオメチルー３−セフェム一番−カ
ルボン駿を製造することもできる。

実施例１ 暴−メルカプト−ｌ−メチル−ＩＨ−テトラゾール・１
丁・Ｉに塩化メチレンｌ０ＩＩＩＩとトリエヂ″ルアｉ
＞０６１ｇを加え、室温でＯ−フェニレン本スホロクロ
リデエイトＬ１４ｇを加える。この溶液を−６・℃にま
で冷却してから、７−（Ｄ−に−カルボキシ−墨−フタ
ルイミドバレルアミド）−８−ヒドロキシメチル−８−
セエフエムー４−カルボン酸のジトリ−エチルアミン塩
１１！、を塩化メチレンｌ・−に溶かした溶液を一度に
加える。その後一旦！５℃にまで昇温してから再び冷却
し、テトラヒト”ロフラン（ＴＨＦ）ｚｙ−と水２０−
を加えて分液する。水層をＴＨＦ５１ｄと塩化メチレン
１０ｍ１で抽出し、′有機層を合せ、無水硫酸マグネシ
ウームで乾燥する゛。減圧にて約ｔ′・ｍｌ＋とまで濃
縮してからエーテＡｆｌＯｉ、ｓＩに加え、析出する゛
沈殿を枦取する。エーテルで洗ってから、″真空軛燥し
て、マβ−（Ｄ−ｉ−カルボキシ−６−７タルイミドバ
レルア【Ｆ″）−’ｍ−（’１−メチルー１ｍ１−テト
ラゾール−６−イル）チオメチル−８′−セを得た。

ＮＭＲ（ＤＭｌｌｏ−ｄａ　）　；δ１．４　ト４４　
ｆｊ　（＠　Ｈ、ｍ　、　−（ＣＬ）ｉ−）、ＩＩＪＩ
（！Ｈ，ｂｒ、ｆｌ−ＣＨｓ）１１３４　（畠Ｈ、Ｂ　
、））Ｊ　−Ｃ’ｌ１ｍ）−９也畠・（！■、ムＢｑ、
Ｊ−１ｉＨｇ、ｌ−ＣＨ鵞）、４ＪＩ（ＩＨ。

ｔ、Ｊ＝ＩＨＩ、−ＣＨ）、５．０１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
６Ｈｇ、６−薯 Ｈ−） 実施例！　　　　　　　　− １−（！二、、□アエ１．工ｆ＃）　−５−７にカプト
ＬＩＨ−テトラゾール１１４１に塩化メチ室−で・−フ
エニレンホスホロクロリテエイト１．１４−を加える。

乙の溶液を一′６０℃にまで冷ｉ掲、、６．　”Ｉ　−
’（Ｄ−ｓ”−′、、に、、を秒−、−。

タルイミ′ド”パルルアミド）ニド”ヒドロキシメチル
ーーーセエフエム−４−カルー゛シーのジードリエチノ
げミン塩１１！＃を塩化メチレン１１＠ｍｌに溶−２− かした溶液を一度に加える。その後１６℃にまで碑渥し
てから、析出した沈殿を枦取し、塩化メチレンで洗う。

得られた固形物゛を塩化メチレン１・。

ｍｌに懸濁し゛、氷冷゛下′ド砂エチルアミンＯ，マｌ
＃を加えてＳＯ分攪拌し、不溶物を濾過して除く。炉液
にＩＮのエタノール塩酸１０ｄおよび工・−・チル意・
ｍｌを０℃以下で滴下する。析出した沈殿を枦取し、°
塩化メチレンで洗ってから真′垂乾燥して、７β−（Ｄ
−″器−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）
−ＩＩ−’［１−（２−ジメチルアミノエチ）し）−Ｉ
ＩＩ−テトラゾール−６−イル〕チオメチールＬｌ　’
＝　ｓ　＝″↓工□′フエ″ムー４−カルボン酸の塩酸
塩１．６１＃’（収＄ｙｔｎ−）を得た。

ＩＲ（Ｋｌｒ）Ｈ１丁マ暴”、１ｒｔｊ、ｔｅ４・　・
ＮＭ翼（ＤＭＩＯ−−・）：ａ１ａ＠−ロ・’（＠Ｈ，
鵬、−（゛Ｃ鍾曾）ト）”、１１１（＠ＩＩ、ｌｌ、Ｎ
＜：　　）、ｌトＬ１１（４’Ｈ、’ｗａ　、ｇ−ＣＨ
ｍＩｋ−ＣＭＡＭ；）、４８　＠　（２１１、ｂｙ。

トＣ””）、”４ト４．１　（ＩＨ、ｍ　、−Ｃ１ｌ（
Ｊｋ　−＞−ＣＨｍ−）　＊’　ｔ’・（１１１，ｄ、
Ｊ−５Ｈｘ、１ｌ−Ｈ）、６．８０（ＩＨ、ｑ　　、Ｊ
−６ａ！　　１１７１ｇ　　、’Ｉ−Ｈ）、　　７．１
１（４１１，１１゜−−一 実施Ｈｓ ７−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フタルイミド）＜　Ｌ
／　ＪＬＴアミド−）−８−ヒドロキシメチル−８−セ
エフエムー４−カルボン酸のジトリエチルアミン塩１１
２Ｉと６−メルカブトー１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル仮６１！−に塩化メチレンｓｏｍｌとトリエチルアミ
ン４ＬＩ８１．を加えて溶かし一１６℃番ζ冷却する。

この溶液にメチル０−フェニレンホスフェイトＬ６７−
を加え、−１５″’−１４１”（で（至）分間反応する
０反応液にＴｍＦ３（Ｊｄと水２ｏｍｌを加え、塩酸で
一意とし分液する。水層をＴｍＦ６−と塩−化メチレン
１・−で抽出し、有機層を合せ無水硫酸マグネムで乾燥
する。

以下実施例１と同様に処理して、目的物１．・匂（収率
−ａ、ｓｌ）を得た０本品のＩｌおよびＮＭＲ値鑓実ｊ
ｌｌ＃１１で得たものと一致した。

実施例４ 実施例−でメチル・−フェニレンホスフェイト１．６７
−を使用するのに代えて、Ｏ−フェニレンホスホロクロ
リゾエイト１．７１ｊの塩化メチレン１！！ｍの溶液に
トリエチルアミン＠、１１ｙｌＤえ、これにメタノール
０．２９ｔｔを室温で加え、室温で１０分間反応して製
造したメチル０−７二二レンホスフエイトの溶液を使用
して同様に反応および後処理し目的物１．６意ＩＩ（収
率８１１．８チ）を得た。

本品のＩＨ値は実施例１で得たものと一致した。

実施ｆ！４！Ｓ マー（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミドバレルア
ミド）−１−ヒドロキシメチル−１−セエフエムー、４
−カルボン酸のジトリ−」−ブチルアミンｊＪ［１，？
ｌｓｉと６−メルカブトー１−メチル−１Ｍ−テトラゾ
ールｏｓｉｇの塩化メチレン意。

ｍｌの溶液を−！６℃に冷却し、メチル０−フェニレン
ホスフェイト０．７４　、を加えて、−！６〜−宏。

℃で８時間反応する。反応液に’ｒＨＦ１１１１１Ｅと
水　　　□ＩＪ＄ｓＪを加えてよく攪拌してから分液す
ゐ。水層を？ＨＦｇ−とＣ１ｈＣ１冨！・−で抽出し、
有機層を合せ水１０ｍ１で洗ってから、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧！溶媒を留去してから、少量の
７セトンに溶かし、エーテル１ｅ・ｍｌに加える。析出
した沈殿を炉層し、エーテルで洗ってから真空乾燥して
、目的物１．１４　＃　（収率９４１丁１ｊ）を得た。

本品のＩＨ値は実施例１で得たものと一歌した。

実施例６ １−（！−ジメチルアミノエチル）−６−メルカブトー
Ｉｎ−テトラゾール０．５２　ｇに塩化メチレン４・−
とトリエチル、アミン０４０＃ｌを加え、さらにマー（
Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）
−８−ヒドロキシメチル−８−セエフエムー４−カルボ
ン酸のジトリエチルアミンＩ［１，４１＃を加える。こ
の溶液にメチルＯ−フェニレンホスフェイト１．！　ｐ
、、　＃を加えて！！Ｏ〜雪墨℃で１・分間反応する。

反応液を冷却し、０℃以下でＩＮのエーテル塩酸Ｊｉｍ
、を滴下し、析出した沈殿を炉層し、塩化メチレンで洗
う、得られた固形物を塩化メチレン雪・ｍｌに懸濁し、
水冷２下トリエチルアミン・、４７＃を加えて＄・分攪
拌し、不溶物を濾過して除く。炉液に！Ｎのアルコール
−＠Ｉ−− 塩酸龜）−およびエーテル１０−を・℃以下で滴下する
。析出した沈殿をＦＩｌし、塩化メチレンで洗ってから
真空乾燥して、目的物ｌ］・＃（収率７Ｌ１１を得た０
本品のＩｌおよびＮＭＩ値は実施何重で得たものと一致
した。

実施例マ Ｏ−フェニレンホスホロクロリゾエイト・、マｅ−を塩
化メチレンｌ、・ｍｌに溶かし、トリエチルてミン叡４
・−１を加えてから、？−二ト、ロフｉノール４Ｌ［１
を室温で少しずつ加え、室−で１・分間反応する。この
反応液を一意・℃に冷却した。

１−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタ廠イミドバレルア
ミド）−畠一七ドロキシメチルー８−セエフエム−４−
カルボン酸のジトリエチルアミン塩Ｌ４１＃、トメルカ
プトー１−メチル−１，ｌ［−テトラゾール東■＃【ト
リエチルアミン叡意争Ｉの塩化メチレン意・−の溶液に
加′え、−意・、±ｆ℃で意・分間反応する。以下実施
例−と同様１こ後処理して、目的物Ｏ］ｔｔｔ（収率ｙ
ｔチー）を得た０本品のＩｌｌ値は実施例１で得たもの
と一＝７・− 敢した。

実施例８ ！、！、１．）ジクロロ−１，１，！−ベンゾジオキサ
ホスホール０．テ４ｇを塩化メチレンｌ。

−に溶かし、トリエチルアミンｏ、ｓｅｔ＋加えてから
室温でメタノール０１＠９を加え、室温で１・分間反応
する。この反応液を水冷し、トリメチルア１）（Ｌ！６
ｙ％５−メルカプト−１−メチル−ＩＨ−テトラゾール
０．１７ｊおよび７−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタ
ルイミドパレルアミト）−畠一ヒドロキ゛ジメチルー８
−セエフエム−４−カルボン酸のジトリエテルアミン塩
０．７１１を順次加え、水冷下ｇｏ分間反応る。以下実
施何重と同様に後処理して、同一目的物ｏ、４ｏ４ｙ（
収率・ｔｓｌ）を得た。氷晶のＩＲ値は実施例１で得た
ものと一致した。

実施例９ ２、！、！−トリクロローｉ、ａ、＊−ベンゾジオキサ
ホスホ−ＡＩ＆７４ｇ塩化メチレン１ｇ）ａ（に溶かし
、トリメチルアＥ？６４ｇを加えてから室温でｐ−クロ
ロフェノール９．５１ｇを少しずつ加える。この溶液に
トリエチルアミンｏｘ＠、６−メルカブトー１−メチル
−ＩＨ−テトラゾールｅＬ１’１１１およびマー（Ｄ−
５−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８
−ヒドロキシメチル−８−士エフェムー４−カルボン酸
のジトリエチルアミン塩０．１１１を順次加え、室温で
４０分間反応る。以下実施例８と同様に後処理して、目
的物０．４１１ｇ（収率７１０１）を得た。氷晶のＩ′
ＩＬ値は実施例１で得たものと一致した。

実施例１０ ビス（ｅ−フェニレンジオキソ）クロロホスホラスＬｉ
ｍｇを塩化メチレン１０−に溶かし、これに水冷下トリ
エチルアミン＠、２ｇ、５−メルカプト−１−メチル−
１’Ｈ−テトラゾール０．１７ｇおよび？−（Ｄ−５−
カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８−ヒ
ドロキシメチル−８−セヱフエムー４−力□ルボン酸の
ジトリエチルアミン塩Ｏ１γ１１を順次加え、水冷下８
０分間反応する。以下実施例８と同様に後処理して、目
的物１し１を得た。氷晶のＩＲ値は実施例１で得々もの
と一致した。

実施例、１１ ？−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フタルイミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セエフエムー４−
カルボン酸のジトリエチ省アミン４０．７１ｇとトメル
カプトー１ニメチル、−ＩＨ−Ｏ−フ、エニレンホスフ
ァ一トＯ９，５１ｔを加え、室粋珊して、同一目的物Ｑ
、４１．（収率１　？、、？　−）を得な。氷晶、の！
ＲおよびＮν値は実施町で得たものと一致シた。　　　
　　、 実施例１ｇ　　、　　　７ ？−（Ｄ−に−カルボキシ−６−フタルイミドバレルア
ミド）−ｓ−ｈドロ＊’、メチに−８−童フエムー４−
カルボン酸のジトリ−ｎ　−ｊチルアミン塩８７４．と
トクレカプトベンゾチテ弘ル２６ｉ岬の塩化メチレンｌ
Ｏ−の溶液を一１０７ｓ− ℃に冷却し、エテルＯ−フェニレンホスフェイト４０６
ｍを加え−１０〜−６℃で２時間かきまぜた。反応液に
ＴＨＦ８４４と水８ｍｌを加えかきまぜてから分液する
。水層をＴ　ＨＦ　！Ｉ　＊Ｌと塩化メチレン６ｍｌで
抽出し一有機層を合せ水１０ｓｊを加え分液し有機層に
硫酸マ□グネシウムを加え乾燥し゛た。

減圧で溶媒を留去し：少量のアセト−ｌトリル゛・水・
蟻酸１ｅ：！：０．１）の混合溶蝿にとかし一シ゛リー
ゲルカラムクロマトグラフイーに付した。

目的物を′含有する区画を集め、減圧で濃縮し残留油分
にニー”チルを加えそ生した粉末を１取し、ニー、′続
−一するとヤー（Ｄ−６−品・ポキウー６−フタルイミ
ドバレルア゛ミド）−８−（（ベンゾチアゾール−２−
イル）チオメチ、ル）−１−セフェム−４−カルボン酸
６５　ｇ’＠　（収率１１６　Ｇ　％）を得た。

１、Ｒ（Ｋ！Ｉｒ）：　＊ｗａ−’　８１１２０．１７
７５．１丁ｓｉｎ”ＮＭＩ　（ＤＭ！１Ｏ−ｄｓ）　：
　ａ　１．８０＝２．４０　（１ｉＨ、ｍ　。

−）、８．６２（意Ｈ９Ａ帳、Ｊ−１１１１冨。

２−ＣＨ＊）、４．１１８（２Ｈ−ムＢｑ、　’Ｊ＝　
１４　Ｈｚ、１−ＣＨ寞）。

Ｔ４− ４．７３１　（ｉＨ、ｔ　、　Ｊ＝　７Ｈｇ、　′：；
ｃＨ）　、　６．０４’　（１）１．ｄ、Ｊ−５Ｈ菖、
Ｃ＠−Ｈ）、［４１８（ＩＨ，ｑ　、Ｊ墓５　　＆　　
８　　Ｈｚ　　、　　Ｃｖ−Ｈ）　　１．８６（４Ｈ，
Ｂ、　　ζ：口／、）　　、　　ａ、ｇ。

（ＩＨ，ｄ、Ｊ−、ＩＩＨ冨、−ＣＯＮＨ−）実ｊ１絢
Ｉｍ ？−（Ｄ−５−カルボキシ−５−フタルイミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−畠−士フエムー４−カ
ルボン酸のジトリ−カーブチルアミン塩８マ４即と６−
メルカブトー２−メチル−１，１，４−チアジアゾール
１９８■の塩化メチレン１０ｄのＩｎ波を−２０〜−１
６℃に冷却しメチルロ−７し二レンホスフェイトａ７２
ｕを加え水冷下に１．５時間かきまぜた。反応液を実施
例１２と同様に処理し、７−（Ｄ−５−カルボキシ−６
−フタルイミドバレルアミド）−８−［（２−メチル−
１，８，４−チアジアゾール−６−イル）チオメチルゴ
ー８−士フエムー４−カルボン酸５０１Ｎ（収率Ｓ１１
．ＪＩＬｓ）を得た。

ＩＲ（Ｋｌｒ）：ａｍ−’　　＄８００．１７？５．１
丁１６ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄｇ）　：　ａ　Ｌ、Ｓ　Ｏ
〜！４　＠　（＠Ｈ，ｍ。

−Ｃ’ｆｈＣＨ＊ＣＨ＊−）　、　１２１　（ｉｌｌ、
ｇ　、　−Ｃｕ５　）　、　８．６１！（！■、ムＢｑ
　、　Ｊ−１１Ｈｇ　、　２−ＣＨｍ　）　、　４．８
１　（２１，ＡＢｑ。

Ｊ−１＠Ｈｚ　、　８−ｃａｏ、　４．７６　（ＩＨ、
Ｌ　、　Ｊ　−７Ｈｚｓ′／ＣＨ−）。

６、・−（ｌＨ，ｄ、Ｊ−６Ｈ冨　、Ｏｓ　　　Ｈ）、
５．６５　　（ＩＨｓ　Ｑ　　−’−５４に８Ｈｚ　、
Ｃｔ　−Ｈ） 実施例１４ ０−フェニレンホス本ロクロリデエイト４７７匈の塩化
メチレン５ｓ［溶液を−２０〜−１０℃に冷却し、トリ
ー１−ブチルアミン４６８即、フェノール２８５即を加
え６分間同温でかきまぜて）工二ルＯ−フェニレン示ス
フエイトのｓ＊＋ｉｗ＊した。？−（Ｄ−５−カルボキ
シ−５−フタルイミドバレルアミド）−８−ヒドロキシ
メチル−８−セフェム−４−カルボン酸のジトリ−―−
ブチルアミン塩８７４■、２−カルボキシメチルチオ−
墨−メ身カプトー１．８．４−チアジアゾール１１　ｇ
萼を塩化メチレン６１中でかきまぜながら水冷下にトリ
ー鳳−プチルアミン２７８曙を加え、−１６〜一番”Ｃ
１ζ冷却し上記のフェニルミーフェニレンホスフェイト
の溶液を加え同温で２時間がきまぜた。反応液を実施例
１２に準じて処理し、７−（Ｄ−６−カルボキシ−６−
フタルイミドパレリルアミド）−８−［（２−カルボキ
シメチルチオ−１ｊ８．４−チアジアゾール−６−イル
）チオメチル〕−畠−±フエ五−４−カルボン酸６０１
ｗＩ（収率７Ｌ２１１Ｇ）を′得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）：　ｅｌｌｌ−”　　８１１００．１７
Ｔ＆、１４１８ＮＭＲ（ＤＭ８０−ａｇ）　：　Ｊ　１
．ｉｌＯ〜Ｌ４０（４ＨＭ、ｍ。

−ＣＨｍＣＨ＊ＣＨト→、Ｌ５９　（２Ｈ、ｂ　ｒ、、
　ｔ−Ｃｕ意）、４．１８（ＩＭ、８、−８Ｃ礒Ｃ００
−）、４．１ｌｌｌ（、ｔ！Ｈ，ムＢｑ、Ｊ−１１Ｈｇ
　、畠−ＣＨｍ）、４．７３１（ＩＨ，＊、Ｊ−４Ｈｍ
、　　εＣＭ）。

ａ、（１４（ＩＨ，ｄ、Ｊ−６Ｈ露、Ｃｍ−Ｈ）、１４
０〜５．８０（ＩＨ。

ｂｅ、Ｃ１−１ｆ）、？、９１）（４Ｈ，Ｓ、　ｆＪｃ
）、８．７８（１）４゜ｄ　、　Ｊ　−＠　ｋｈ　、　
−Ｃ０ＮＨ−）実施例１６ ？−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルざミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−カ
ルボン酸のジトリ−烏−ブチルア之ン塩８丁４都、！−
カルボキシメチルー６−メルカブトーＩＨ−テトラゾー
ル８１２．を混合７７− し、塩化メチレン１Ｇ−を加え氷冷しトリーｎ−ブチル
アミン２’１８ｗ５を加えた。１０分絢かきまぜてから
、メチルＯ−フェニレンホスフェイト８７２■を−２５
〜−２０℃で加え２時間同温でかきまぜた。反応波を実
施例１２と同捧（方法で処理し、？−（Ｄ−６−カルポ
キシー６−〕〉ルイミドバレルアミド）−ａ−［（１−
カルボキシメチル−ＩＨ−テトラゾール−６−イル）チ
オメチル〕−８−セフェムードカルボン酸礁°７６■（
収率７１１．７１Ｇ）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）：　＠ｍ−’　　ＪＩＪ１０＠、１ｆ丁
Ｊｌ、１７１８Ｎ’ＭＲ（ＤＭ８０−４ａ）：Ｊ　　１
．４９−１４０（ＩＩＩＨ，ｍ、−Ｃ’１ｈＣＩｈＣ出
−）　、　＠、＠２　（１Ｈ，ｂｒ　、　Ｒ−Ｃｕｔ）
、　ｔｉｌｌ（ｇｋｌ、ムＢ　ｑ　＊　Ｊ−１４Ｈｍ　
−８０Ｈ”　）　ｅ　４−１１　（Ｉ　Ｍ−ｅＪ−６’
ｋ１ｍ　、　　、ｃ　Ｈ）　＊　４−ｓ＠　（ｌ　Ｈｅ
　ｄ　＊　’　”　６　”　ｅ　Ｃ＠−Ｈ）ｅＬ２　Ｂ
　（２Ｍ　、　８　、　＞ＮＣ出Ｃｏ−）、６．８意（
１”＊ｑｅ””６暴魯Ｈｓ＋、Ｃ管−Ｈ）、７Ｊ９（４
１１，Ｓ、α　、）、１１丁　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４１Ｈ
冨　、−〇〇ＮＩＩ−）実ＪＩｉ＃１・ 実施Ｎ１ｇにおいて２−メルカプトベンゾチア７ｓ− ゾールの代すに２−エトキシカルボニルメチルチオ−５
−メルカプト−１，８，４−チアジアゾールＪ１４■を
用いて同様蕃こ行い？−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フ
タルイミドバレルアミド）−８−（（２−エトキシカル
ボニルメチルチオ−１゜８．４−チアジアゾール−５−
イル）チオメチル〕−８−セフェムー４−カルボン酸６
００ｍ（収率８１Ｌ！−）を得た。

ＩＲ（Ｋｌｒ　）：　ａｎ−’　　８ｇ！０．１丁７６
．１７１６ＮＭＲ（０Ｍ８０−ｄａ）；δ　１．０　Ｇ
−１４（Ｊ　（９Ｈ、ｍ　、　−ＣＨａ＆−Ｃ石ＣＨ雪
ＣＨｔ−）、１．８０Ａ−４，Ｉ＠（６Ｈ，ｍ、　　２
−Ｃｕ愈、　−８−ＣＨｗ　ＣＯ−Ｊｋ　−ＣＯｔ　Ｃ
Ｈｚ−→、４．２２（４Ｈ。

８　、　ｆｌ−ＣＨａ　＆ＩｊＣＨｘ　＆　−Ｂ−Ｃシ
Ｃ０−）、４７６（ＩＨ。

＆、Ｊ纏ｇ、ｋｎ）、墨、０６（ＩＨ，＋！、Ｊ−６Ｈ
ｇ、Ｃ・−五）１４０−６．１ＩＯ（ＩＨ，ｂｒ　　、
Ｃｙ−Ｈ）、’１．ｆＮＪ（４Ｈ，８，α）。

８、・Ｏ〜ｉ１．１０　（Ｉ　Ｈ、ｈｒ　、　−Ｃ０Ｎ
Ｈ−）実施例１７ ７−（Ｄ−ミーカルボキシ−６−（ベンズアミド）バレ
ルアミド〕−畠−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４
−カルボン酸のジトリ−鳳−ブチルアミン塩８７４＠ｇ
を塩化メチレン１０−に溶かし、−６０〜−４０℃でピ
リジン１１１１１１＃ついでメチルＯ−フェニレンホス
フェイト１丁意萼の塩化メチレン１ｌａＥ溶液を加えて
から−１・〜Ｏ℃に昇温させ同温で２時間かきまぜた０
反応液に水１５ｍ１を加え声を？、Ｏに合せ、分液し水
層を塩化メチレン６ｍｌで２回洗い、再び−６０とし、
減圧で濃縮後残留物をアンバーライトＸＡＤ−２カラム
クロマトグラフィーに付し、水、水−メタノール混液に
て順に溶出し目的物を含む区画を濃縮し、Ｎ−〔マー（
Ｄ−８−（ベンズアミド）アジピンアミド）−畠一セフ
エムーローイルメチル〕ピリジニウム−４−カルボン酸
モノナトリウム塩４１・Ｈ（収率マ１１％）を得た。

１１（ｌｃｌｉｒ）　：　＠ｍ−’　ＩＩ＠＠、ＩＮ！
墨０，１７６１５゜１＠４１，１＠８０，１・・尋 ＮＭ翼（Ｄ會０）：ＪＬ！１０〜！４Ｇ（６Ｈ，騰、−
（Ｃシ）ト）。

＆１４（！Ｉｉ、ムＢｑ　　、Ｊ＝１１１Ｈｇ　　ｊｌ
−ＣＨｍ）、４．１６（ＩＨ。

鵬、　　うＣ１１）、５．０！（ＩＨ，ｄ、Ｊ−１！Ｉ
Ｉ厘、Ｃｍ−Ｈ）　　、５．１！　　（１１ム１１．Ｊ
麿１ｇｔｌ１ｍ、畠−Ｃｕ雪）、６．＠＠（ＩＨ，ａ、
Ｊｍｉｌｌｓ　、Ｃｙ−Ｈ）　、　７．０−９．０　（
ｔ　ＯＨ，ｍ　、−１０＆　Ｏ−）実施例１＠ ・−・フェニレンホスホロクロリゾエイト２８６■の塩
化メチレン８ｍｌ溶液に６−メルカブトー１−メチル−
ＩＨ−テトラゾール１丁４即を加え一意・〜−１・＠Ｃ
に冷却し、トリエチルアミン１６１１萼の塩化メチレン
１ｍｌ溶液をかきまぜながら加えた。仁の溶液を室温に
戻してから、？−ＣＤ−５−カルボキレ−６−（ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）バレルアミドツー８−ヒド
ロキシメチル−８−セフェム−４−カルボン酸ジトリエ
チルアミン塩ｔｔ＠−の塩化メチレン７ｍｌ溶液液中に
−８・〜−鵞・０Ｃに冷却しかきまぜながら加えた。

暴分間同温でかきまぜてから！Ｎ−ＨＣ／１５ｍテトラ
ヒドロフラン１・−を加え分液し有機層を飽和食塩水ｌ
Ｓｍ１で量目洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮した後エーテ〃中に加え生じた粉末を１取した。

この粉末をアセトニトリルー水の混液に溶かし、シリカ
ゲルクロマトグラフィーに付し、アセトニトリル−水−
蟻酸（ｆ・：２８１− ：０．１）で溶出し、目的物を含む区画を濃縮しエーテ
ルを加えて生じた粉末を１取乾燥すると７−（Ｄ−ｓ−
カルボキシ−６−（ペンジルオキシカルボニルア主〕）
バレルアミド）−ｓ−（（，１−メチル−ＩＨ−テトラ
ゾール−６−イル）チオメチル−８−セフェム−４−カ
ルボン酸１フＯ■（収率６１９口口を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ　）ａｍ−”　：　８８０＠、１丁７６．
１〒１６ＮＭＲ（０Ｍ８０−ｄ＠）　：ａ　１．８０〜
１．９０（４Ｈ，ｍ。

ＣＨ嘗Ｘ２）、２．０Ｏ−１８０（２Ｈ，ｍ、Ｃｕｔ）
、８．６７（２Ｈ９ｂｒ、！−ＣＨｍ）、８．９８（８
Ｈ，８，Ｎ−Ｃｕ５）、４．８０（！Ｈ，ｂｒ　、　８
　Ｃｕ寥）　、　ｔｓｏ〜ｓ、ｇｏ　（４１（６ＮＨＣ
Ｍ”　＋（ＩＨ，ｄ、Ｊｓ＋＋１ｌＨｓ、−ＣＯＮＨ−
）実施例１ｓ 実施例６で７−（Ｄ−６−カルボキシ−５−フタルイミ
ドバレルアミド）−８−ヒドロキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸のジトリ−ｌ−ブチルア主ン塩１．
７５ｇの代りをと７−〔Ｄ−暴一＄Ｓ− −（’ｐ　−＊−ブチルベンズ、アミド）−す−カルボ
キシバレリルアミドツー８−ヒドロキシメチル−８−セ
フェム−４−カルボン酸のシトツー鳳−ブチルアミン塩
１．８１１を用いて同様に行い、７−ＣＤ−５−（ｐ−
亀一プチルベンズアミド＞−ｈ−カルボキシバレリルア
ミド）−１−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸ｔｔ
ｓ＊（収率９１．４チ）を得た。

夏Ｒ（Ｋｌｒ　）ａｍ−’　　：　１７７６．１７！７
，１６４（ＩＮＭＲ（ｄｓ−８Ｍ８０）：ａ　１．宏８
（ｆｌＭ、８．ＣＨｓＸ８）。

１．７・＆ｌ意１　（ｉｎ　、ＣＨｔ　Ｘｌｌ　）、１
６４ｊｋ８．７マＢｎ、ムＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｍ、！−ＣＨ怠）、８．９１（Ｉｎ、Ｊｌ、
−Ｎ−Ｃ１ｉ＠）　。

４、！・＆４．１丁（！■、ムＢｑ　、　Ｊ−１８Ｈｚ
　、　ｌ−ＣＨｔ　）、４．１９（ＩＨ，）Ｈ）　、　
６．０！（ＩＨ，４、Ｊ−６Ｈ１、Ｃａ−Ｈ）　。

５．１１４（ＩＨ，ｑ、Ｊ−６１ｇＨｚ、Ｃｖ−Ｈ）、
マ、４１＆？、Ｊ１１（４Ｈ，Ｑ　）　、８．４１１（
ＩＨ，ｄ　、Ｊ−８Ｈ冨、　）−ＣＯＮＨ）。

８．７９　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ−８Ｈｚ　、−ＣＯＮＭ
−）実施例！Ｏ Ｏ−フェニレンホスホロクロリゾエイト０．４６０ｇを
塩化メチレン２ｍｌに溶解し、０〜５℃でトリー１−ブ
チルアミン０．４ａＴｇの塩化メチレン１ｍｌ溶液を加
えついでメタノール７ａ、Ｑｗの基部メチレン２Ｗｊ溶
液を加え室温で２０分間かきまぜてメチル０−フェニレ
ンホスフェイトの溶液を製造した。？−（Ｄ−５−カル
ボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８−ヒドロ
キシメチル−８−セフェム−４−カルボン酸のジトリ−
ｎ−ブチルアミン塩１．０８２　ｇと２−メルカプトベ
ンズオキサゾール０１６７ｇの塩化メチレン５ｍＬ溶液
を一！０〜−２５℃に冷却しかきまぜながら上記のメチ
ル０−フェニレンホスフェイト溶成を加え、−２０〜−
１０℃で８０分間反応させ、反応液に水１ｉｍを加え分
歇し、有機層に水１５ｍＡを加えＮ−ＮａＯＨでＰＪｉ
ｓ、・とし分液した。有機層より更に２回抽出し水層を
合せて塩化メチレン６ｍｌで洗い、水層を２Ｎ−ＨＣ４
’　で−２とし塩化メチレン−ＴＨＦ（１：１）混液で
抽出し有機層を飽和食塩水で２回洗い、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去してからエーテルを加え生じた
粉末を戸数、乾燥すると７−（Ｄ−５−カルボキシ、−
５−’フタルイミドバレルアミド）−８−（ベンズオキ
サ゛ｌ−ルー２−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸５８８ｕ（収率７Ｂ、Ｌｌ）が得られた。

ＩＲ（ＫＢｒ　）ａｍ””　：　８ｇ１０．！１１８０
．１？７５゜１７１５．１５８０．１５０Ｏ ＮＭＲ（ｄｓ−ＤＭＳＯ）：δ１．８０〜！４０　（＠
　ｋｌ　、　ｔｍ　、　−ＣＨａ　Ｃ）ｂ　ＣＨａ−→
、１１．６８（２Ｈ，ＡＢｑ、２−ＣＨｔ）。

４．２８＆４．’６６（２Ｈ，ムＢｑ　、Ｊ−１４１ｂ
、１ｌ−ＣＨｔ　）、４．７ＪＩ（ＩＨ山Ｊ−７Ｈｚ、
−＋Ｉｉ）、５．’０４（１１（、ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ。

Ｃ・−Ｈ）　＝　６−６８　（ｉ　Ｈ−ｑ　ａ　Ｊ−６
”　８）ｉｚ　ｍ　Ｃマーｔ（）、？、２０８．７８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ−８七・−ＣＯＮＨ−）。

実施例２１ Ｏ−フェニレンホスホロクロリゾエイト８７６萼の塩化
メチレン６　ｍｌ溶［にメタノール６７．０萼とトリー
１−ブチルアミンｓ６６萼の塩化メチレン６−溶液を−
！！Ｏ〜−１０℃でかきまぜな力鴨加えてから室温に戻
し１時間かきまぜメチルＯ−８１ｉ− フェニレンホスフェイトの溶液を１［した。７−（Ｄ−
５−カルボキノ アミド）−３−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−
カルボン酸のジトリ−１−ブチルアミン塩魯？４ｖを塩
化メチレン６ｍｌに溶解させ、ピリジン１６８■の塩化
メチレン２−溶液を５〜Ｏ℃で加えてから−４０〜−ｍ
０℃に竺却しかきまぜながら上記のメチルＯ−フェニレ
ンホスフェイト竺液を加え、−ｓｏ〜−ｉｓ℃で４ｂ分
間Ｏ〜１０℃で８０分間かきまぜ析出した粉末をＦ取し
塩化メチレンで洗い乾燥すると、？−（Ｄ−６−カルボ
キシ−５−７タルイミドバレルアミド）−１−セフエム
ー８−ピリジニウムメチル−４−カルボキビレート４６
＠ｗｃ収率８！４１Ｇ）が−得られた。

１Ｂ（ＫＢｒ　）ａｍｎ−’　：ＩＩＴ＆、１ｌ１１！
・、！９意・、１丁丁＝。

−５“　　　　　　　　　　　　　　　　、１７１０．
１８９・ ＣＨｔＣＨｍＣＨｔ−）　、ｚＩｌｅ＆Ｌｉ１（２Ｈ，
ムＢｑ、Ｊ−１８）ｉｚ、１−ＣＨ富）　、Ｌｉｅ（Ｉ
Ｈ，ｄ　、Ｊ−５七、Ｃ・−Ｈ）。

賑ｌ峠ｅｓ（ｇｎ、ム”ｑ、Ｊ−１７ｔｈ、１ｌ−Ｃ艷
）。

８６一 ６．６１（ｌＨ，ｄ、Ｊ−４出、Ｃｖ−Ｈ）　、　７．
７１１　（４Ｈ，８。

実施例！雪 Ｏ−フエニレンネスホロクロリダイトｓ２１■の塩化メ
チレン暑−溶液にλ６−ルチシン６４６暉とメタノール
混液即の塩化メチレン７ｍｌ溶液をかきまぜながら水冷
下魯ζ加え、６公開反応させて、メチル・−フェニレン
ホスファイトの溶液を製造した。仁の溶液にイソニコチ
ン酸アミド８７１１萼を加え１・分開かきまぜてから？
−（Ｄ−５−カルボキシ−器−フタルイミドバレルアミ
ド）−８−とドロキシメチル−８−セフェム−４−カル
ボン酸の亀６−ルチジン塩−！Ｉｗを加え氷冷下意時間
ついで室温で６時間かきまぜ反応させた後−意Ｏ〜−１
・℃に一夜おいた。反応液に水１６−を加えＮ　−Ｎａ
　ＯＨで−ｙ、　ｅにし、水層を塩化メチレンで洗った
後、ｐＨ６，６にし減圧で濃縮し、濃縮液をアンバーラ
イトＸＡＤ−１のカラムクロマトグラフィーに付し、水
、水−メタノール混液で溶出した。目的物を主に含む区
画を集め濃縮し凍結乾燥すると７−（Ｄ−５−カルボキ
シ−６−フタルイミドバレルアミド）−３−セフェム−
８−（４−カルバモイルピリジニウム）メチル−４−カ
ルボキシレートナトリウム塩５６０ｓ（収率６８．１％
）が得られた。

ＩＲ’（ＫＢｒ）ａｍ”　：ａ８５０，１７７８，１７
０８，１６１１１゜４６８ ＮＭＲ（Ｄ鵞０　）　：δ　１．８０〜２．６０　（６
Ｈ、ｍ　、　−ＣＨ＊　ＣＨ意ＣＨｔ−→、２．９０４
Ｌ５Ｂ（２Ｈ，ＡＢｃｌ、Ｊ＝１８陽、！−ＣＨり、５
．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５比、Ｃ５−Ｈ）　、　５．８
４　＆５．６８（２）１．ＡＢｑ　、Ｊ−１４七、　ｌ
　−Ｃ１ｈ　）　、　５．６０　（ＩＭ。

実施例２８ ０−フェニレンホスホロクロリゾエイ）　０．４６９Ｉ
の塩化メチレン５ｍｊ溶液を−５０〜−４０’（：に冷
却し１、トリーｎ−ブチルアミン０．４５５ｇとメタノ
ール？Ｉ１．８Ｍの塩化メチレン５ｍｊ溶液をかきまぜ
ながら加え、室温ｄζ戻し２０分間反応させメチルロー
フェニレンホスフェイトの溶液を製造し、た。７−（Ｄ
−’６−カルポキシー６−フタルイミ・ドバレルアミド
）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−カルボ
ン酸のジトリ−鳳−ブチルアミン塩ｔ、ｅ＊ｓ＃と４．
６−シメチルー意−メルカプトピ９電ジン塩酸塩０１冨
意ｌの塩化メチレン５１ａ１懸濁液にトリーｎ−ブチル
アミン０１０９−を加えて溶解させ、−８０〜−８ｈ℃
に冷却しかきまぜながら上記のメチルＯ−フェニレンホ
スフェイト溶液を加えてから０−６℃番ζ戻し１時間反
応させた。反応液に水１５ｍ１を加え分液し、有機層に
水１５ｍ１を加え−６，−０にして再び分液し、有機層
に水５ＩＯ１ａｌを加えＮ　−Ｎａ　ＯＨでｙ！ｉ　９
９．　＠にして分液し水層を塩化メチレン、６耐で２回
洗った。

水層に塩化メチレン−テトラヒドロフラン（ｌ：１）４
６ｓｊを加え、ｆｉＮ−ＨＣ／で−１０にして分液し有
機層を飽和食塩水で洗も１硫酸マグネシウムで乾燥し溶
媒を留去した残留物にエーテルを加えて生じた粉末を炉
層し乾燥すると７−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタル
イミド／＜レルアミド）−８−（４，８−’ジメチルピ
リミジンー２−イル）−８・− チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸ｔ、８Ｉ＠
ｇ’（収率＠ｔｉｅ）が得られた。

ＩＲ（Ｋｌ　ｒ　）　ｍｙｔｈ−’　：　８１９＠　、
ｊ！９８０．１１１Ｓ０　。

１７７易、１７１０，１６８０．１６８ＯＮＭＲ（ｄ・
−ＤＭ８０）：Ｊｌ、ＩＧ〜１４０（１ｉＨ，鵬、−Ｃ
ｋｈＣＨ＊ＣＨｍ−→、１ＪＩ６（・Ｈ，８，ＣＨｓｘ
り、１ｊｌＳ（！ａ、ｇ−ｃｕｔ）、ａ、５ｓａｔｓ＠
（＊ｉＬ−ムＢ略、Ｊ−１４ｔｈ。

２−ＯＨ怠）、を讐８（ＩＨ山Ｊ−７七−＋Ｈ）、４．
９９（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝ｌｌ＋＆ｅＣ・−Ｈ）　、６．
６６（ＩＨ，ａ　、Ｊ−６Ｘ　＠ｔｈｅＣ嘗−Ｈ）、１
９８（ｉｌｌ、Ｓ　　、）−１１＞　、７．８７（４Ｈ
，８゜α）、８４！（ＩＨ，ｄ、Ｊ−８出、−ＣＯＮＨ
，−）実施例！４ １）　　ｉ−メルカプト−１−メチル−Ｉｍ−テトラゾ
ール０．１１　＆　＃を塩化メチレン１１−に溶かし、
−１９℃に冷Ｌ、Ｏ−フェニレンホスホロクロリゾエイ
ト０１１の塩化メチレン１ｓｌｌｌ液ヲ加え、’−ｔｏ
〜−！６℃に冷しジフェニルメチル？−（６−ジフニニ
ルメチルオキシカルボニルー ゛　　　　　　エム−４−カル 一ヒドロキシメチルー８ーセフ −９・− ボキシレート１．１７０＃の塩化メチレン８−溶液を滴
下し同温で２００分間きまぜ反応させた。

反応液に水１０ｍを加え室温に戻し、分液し有機層を水
洗し芒硝で乾燥、濃縮しエーテル８０ｍ１中に加え生じ
た粉末をＰ取した。本島をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し酢酸エチル二°−”キ！：ｚ（４：１）の混合
溶媒で溶出し・目的物を含む区画を集応濃縮しエーテル
を加えるとジフェニルメチル？−（ｉ−ジフェニルメチ
ルオキシカルボニル−ｂ−フタルイミド）バレリルアミ
ド１−（ｌ−メチル−Ｉｎ−テトラゾール４−イル）チ
オメチル−８−考フエムー４−カルボキシレートが得ら
れた。

ＩＲ（ＫＢ　ｒ　）　ａｍ−’　：　８８５０．１１０
８０　、！ＨＩ０　。

１７８＠、１丁１丁 ＮＭＲ（ｄｓ−ＤＭ８０　）　：δＩＪ　Ｏ〜１４　Ｇ
　（６Ｈ、ｍ　。

−ＣＨａ　Ｃ’Ｈｍ　ＣＨａ−→、　Ｊｌ、６　ｇ　（
２Ｈ、ｂｒｅａｄ　Ｓ　、　ｆ！−ＣＨ＊λ！、７１（
ＩＨ，ｑ、Ｊ−６＆８Ｈｘ）、＆８ｇ＆１９０（ＩＨ。

８、−Ｃ００ＣＨ，Ｃｘｉり、７．１０〜７．６０（２
０Ｈ，ｍ。

（◎−云−Ｘ２）、７．９１（４Ｈ，８，σ）、８．８
７（ＩＨ，ｄ、Ｊ寓８翫、−ＣＯＮＨ−）り５−メルカ
プト−１−メチル−１・Ｈ−テトラゾール０．１８２　
Ｎ、トリーｎ−ブチルアミン６４８５ｇを塩化メチレン
５　＊Ｌに溶かし、−１０℃に冷し、Ｏ−フェニレンホ
スホロクロリゾエイト０．２５０ｇの塩化メチレン５ａ
Ｅ溶波を加え−２・〜−２６”Ｃに冷し、ジフェニルメ
チル＝７−（５−ジフェニルメチルオキシカルボニル−
６−フタルイミド）バレリルアミド−８−ヒドロキシメ
チル−８−セフェム−４−カルボキシレート１．０９　
ｊを加え１）と同様に反応及び後゛処゛理すると１）と
ＩＲ，ＮＭＩＥ値が同じ目的物が得られた。

実施例！！６ １）？−（！−チェニルアセータミド）−８−ヒドロキ
シメチル−８−セフェム−４−カルボンーールカブトー
１−メチル−ＩＨ−テトラゾール０．１７暴−を酢酸エ
チルｌ　、ＯｍＫ加え針きまぜナカら−。２０℃に冷却
し、メチルＯ−フェニレンホスホリゾエイト０．８マＯ
＃の酢酸工、チル６ｍｌ溶液を加えた。水冷下に１．６
時間かきまず反応させた後、水１０ｍを加え分液し、有
機−に水層Ｏｍｌを加えｐＨ１１，ｏにして分液し、水
層を酢酸エチル６ｍｌで洗った。水層に酢酸エチ、ル２
０、ｍｌを加え−Ｌ・にして分液し有機層を飽和食塩水
で洗い、芒硝で乾燥し、酢、酸エチルを減圧で留去後工
、−チルを加え生じた粉末、を炉取すると７−（！−チ
ェニルアセタミド）−１７（１−メチル−ＩＨ−テトラ
ゾール−５−イル）チ、オメチを一１Ｓ−セフェ、ム、
−１４−力、ルボン酸ｏ、ｓｓ。

＃（収率１４１１１が得られた。本島のＩＲ。

ＮＭＲは標品に一緯した。

鴬）上記１）で７−フェニルアセタミド−８−ヒドロキ
シメチル−畠−セフエム−４−カルボン酸ジー鳳−グチ
ルアｉン塩０．４７７　ｆを用いて、上記１）に準じて
反応後処理すると７−フェニルアセタミド−１−（１−
メチル−ＩＨ−テトラ−８− ゾール−５−イル）チオメチル−８−セフェム−４−カ
ルボン酸（１，＠　６１”＃　（収率８０１１ｇＩＩ）
が得られた。本島のＩ’Ｒ，ＮＭＲＩよ標品薔こ一致し
た。

″″０”　　　　　Ｈ’−ｙｒ　Ｆ　５　”１−ル１８
Ｇ■にＯ−フェニレンホスホロクロリダイト２７１■の
塩化メチレン４ｓＥ溶液を加え、次゛゛　６マ萼の塩化
メチレン８　＊Ｌ −液を加え一５℃に冷却しかき門ぜな力；ら７−（””
　　　　　　　′−ｍ−フタルイミド７＜レノ１゛ンミ
ド）Ｌトーヒ“ドロキシメチル−８−セフ゛エム―４−
カルボン酸のジトリエチル゛アミン［７８２５ｗを加え
同温で６分間かきまぜ反応さ讐た゛。反Ｍに水１０ｍＬ
、、テトラヒト？）ラン′ＴＢｔを加え、−りにして分
液し、有機層に水２０−を加えＰＨ７，０にし、減圧で
塩化メチレン、テ、トラヒドロフランを留去し新に塩化
メチレン１０１を加え、Ｎ−）ｂＯＨでＰＨ９，０とし
分液し水層を塩化エチル″ＡＯｍｌで洗った後、塩化メ
チレン−テトラヒドロフラー９番− ン（１＝１）２０ＩＩＩｊを加えた。２Ｎ−ＨＣＩで−
１０にし分散し有機層を飽和食塩水で洗い、芒硝乾燥後
濃縮し残留物にエーテルを加えて生じた粉末をＶ取し乾
燥すると７−（’Ｄ−６−カルポキシー６−フタルイミ
ドバレルアミド）−ｍ−’（１’−メチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イル）チオメチル−１−セフェム−４−
カルボン酸４１０Ｂ（収率６Ｇ、丁Ｓ）が得られた。氷
晶のＩＲおよびＮＭＲスペクトラムは実施例１で得たも
のと一致した。

実施例２マ　　　　゛ （１）　　０−フェニレンホスホロクロリゾエイト７６
２ｓｌ＃（４ｍＭ）の塩花メチレン１０ｍ溶液にトリー
１−ブチルアミン７４ｔｅ（４ｘｍＭ）を加え、次にメ
タノール１１８ｍ（４鵬Ｍ）の塩化メ′チレンｉｍ溶Ｒ
＆滴下しメチルＯ−フェニレンホスフェイトの溶液を調
製した。？−（Ｄ−６−カルポキシー６−フタ；イ゛ミ
″ドバレルアミド）−８−ヒドロキシメチルー１−セフ
ェム°−４−カルボン酸ジトリ−ｍ−？ブチルアミン８
７′４■と６−メルカブトー１−メチル−ＩＨ−テトラ
ゾール、１７４ｍ＆Ｉを塩化メチレン５鳳りに溶かし、
上記の溶液中に−１５〜−１０℃で滴下した。

同温で４０分間かき混ぜ反応させた後塩化メチレンを減
圧下に留去し、残留物を水ニアセトニトリル（８：２Ｖ
／’Ｖ）の混故に溶かした。この溶液中の７−（Ｄ−６
−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８−
（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメ
チル−クロマトグラフィーによって定置したところ５８
７■（収率８９．８チ）であった。

（り〜（１８） （１）の反応で、メタノール１２８■の４（りに表−１
に記載の各種のハイドロキシ化合物４ｍＭを用い（１１
１Ｃ準じて０−フエニレンホ、ス、ホロクロリ溶液を用
いて、反応温度−１５〜−１０℃で（１）の方法に準じ
て反応および定置を行った。反応２　　時間および７−
（Ｄ＝ｉ−カルボキシ−ｂ−フタルイミドバレルアミド
）−１−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル
）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸の収電に
つ（１′で得られた結果を表−１に示し゛た。　　　　
゛表−１ （１）　　　ＣＨｓＯＨ−８５４９８８２，０１１１１
、ＣＨｓＯＨ４Ｇ　　、　ｂｇ　　Ｊ３４．９（４）　
　ＣａＨｓＯＨ６０５０５８４Ｇ（６）　　　　Ｃ處■
曝ＯＨ１２０５０７８４，８（６）　　　Ｃ＃５ＣＣＨ
ｔＯＨ５４９Ｂ　　８４．９（７）　　ＢｔＣＨＩＣＨ
ＩＯ２（２０６０９８４，６（８）　　　ｍ−Ｃ５Ｈｖ
ＯＨ、、，１４６５８１８８，８（１）　　　ｉ−Ｃ１
Ｈ＊ＯＨ１，１８０，４８４７１１（１０）　　ＢｒＣ
Ｈ禦ＣＨ（Ｂｒ）ＣＨｔＯＨ２０４７５７９，０（１１
）　　ｎ−Ｃ１Ｈ＊ＯＨ１５０４９８８２，０（１３７
）　　１−Ｃ４Ｈ＊ＯＨ１５０５Ｇ２　８８Ｊ（１８）
　　ｓ＠ａ−ＣａＨｓＯＨ！１０　　６１８　８５．８
（１４）　　（）ｏｎ　　　　　　　２７０　　　ＳＯ
５８１，９９７− （１５）　　ｏ噛’　　”１０　４９５８１Ｊ実施例２
８ ０−フ二二しン本スホロクロリデエイト７６！曙の塩化
メチレン１８ｍ１＃ｌ液にトリー烏−ブチルアミン７４
１−を−１０−１℃で加え、次にｎ−プ０ビに７ゝ：ｚ
！ａＬ＋＠を室温で加え・竺渥で１０分間反応させ、２
−オキソ−２−プロピルアミ“ノー１，１．Ｉ！−ベン
ゾジオキサホスホールのｌ１ｉＩＩＬを製造した。この
＃ｌ液に’？−（Ｄ−６−カルボキシ−暴−フタルイミ
ドバレルアミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェ
ム−４−カルボン酸のジトリ−鳳−ブチルアミン塩８７
４萼と５−メルカプト−１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル１マ４萼の塩化メチレン暴−溶液を−１６〜−１・℃
で滴下し同温で目］分調反応させた後、塩化メチレンを
減圧下に留表し、得られた残留物について実施例意マ（
１）と同様に処理し定置したところ、マ９８− −（Ｄ−Ｉｔ−カルボキシ−６−フタルイミドバレルア
ミド）−１−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−６−
イル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸の含
ｋＩｋ４５４■（収率７６．５チ）であった。

実施例２９ （１）　　ピロカテコール５．５＃に塩化メチレン１１
０ｍ１およびトリエチルアミン１５．２１を加えて溶か
した。１０〜２０℃でかき混ぜながらオキシ塩化リンフ
、　１９　ｇを約１０分間で滴下した。この反応液を窒
素気流下に濾過し、少量の塩化メチレンで洗うとほぼ澄
明な炉液１２４ｍ１が得られた。

伐）？−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フタルイミドバレ
ルアミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩１１４９−と６−
メルカプト−ｌ−メチル−ＩＩＩ−１）ウシー＃１’４
！８ユ。塩化、ｆ、。

・６ｍｌ溶液をかき混ぜ、Ｌ−ｔｏ〜Ｏ℃に冷却しなが
ら（１）で得られたろ波９．４ｍｌを滴下しｉ温で２時
間反応させた後−夜ｏ−ｉ℃においた。水冷下意Ｎ−Ｈ
Ｃ／１０−を加えＰＨ２にし、テトラヒドロフランと水
の混液（１：ｔ、Ｖ／Ｖ）。

１８−を加え不溶物を枦去し同混液２１Ｉｌｊで洗う。

枦洗液を分液し、有機層を水１０ｍで洗い、水層を塩化
メチレン！ｍｌで抽出し先の有機層と合せ硫酸マグネシ
ウムで乾燥し約６ｍｌまで濃縮後工−テルマ・ｍｌ中に
加え析出した粉末を炉層しエーテルで洗い乾燥するとマ
ー（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミ
ド）−畠−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−ｂ−イ
ル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸１１４
ｗ（収率マ１．０％）が得られた。本島の）ｉＭＲ，Ｉ
Ｒ値は標品に一致した。

実施何重・ マー（Ｄ−６−カルボキシ−５−フタルイミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェ１ムー４−
カルボン酸のジトリエチルアミン塩ＳａＳ＠と２−メル
カプトベンゾチアゾールＩ＋１４−を塩化メチレン６ｍ
ｌに溶かし、かｈｍぜながら−１０−４℃で実施例！Ｉ
Ｉ（Ｉ）テ得られた炉液９．４−を滴、）”Ｌ、ＩＩ温
で４０分間反応させた後−夜Ｏ〜６６℃においた０反応
液を実施１例！９（りと同様に処理すると？−（Ｄ−６
−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８−
〔（ベンゾチアゾール−８−イル）チオメチル〕−畠−
セフエムー４−カルボン酸４６丁Ｎ（収率ｆ＋ｌ＠１り
が得られ・た。本島のＩＩおよびＮＭＲ値は実施例１！
で得られたものと一致した。

実施例＄１　　　　　パ １１１１１．４−ジヒドロキシ安息香酸エチルエステル
１１＃に塩化メチレン４４ｍ１〒よび＋リーチルアミン
ｌＬＯ＋Ｉｊを加えて溶かし、１０−２０℃で嗜〜シ塩
化リン＆１１１１を約１０分間で滴下した。反応液を窒
素気流下Ｋ濾過し、１渣を塩４？、７Ｐｌｚ７ｍ。工洗
浄濾過己え、Ｆ液お洗。

を合せると６３ｓｌの溶液が得られた。　　　　・偉）
　６−メルカブトー１−メチル−ＩＨ−テトラゾール１
１８８陣に（１）で得られた溶液１７．６ｍｌを加えて
溶かし、か＆混ぜなからｏ−ｊｓ’ｉ：で７−−１０１
−’パ （Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド
）−畠−・ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−カル
ボン酸のジトリエチルアミン塩８４９、を加え同温で２
時間反応させた。反応液に水１０ｉｄ及び塩化メチレン
１０ｍを加え、Ｆｉｌｍに調整し分渡し有機層を水５−
で洗浄した。

有機層に水２・−を加え−Ｎ　−ＮａＯＨ水で一龜墨に
して分液し、有機層を水１０ｍ１′で洗い、水層を合せ
塩化メチレン６−で１ｉｌｌｌ洗った。水層に塩化メチ
レン１１ｍ１テトラヒドロフラン１墨ｍｌを加え４Ｎ−
ＨＣＩでＰＨ２にして分散し、水層を塩化メチレンとテ
トラヒドロフランの混液（１：１．Ｖ／Ｖ）ｌ＠−で洗
い、有機層を合せて飽和食塩水１０ｍ１で意回洗浄し、
硫酸マグネシウム！乾燥し溶媒を留去した。残留物にエ
ーテルを加え生じた粉末を炉層し゛ニーデルで洗い。

乾燥すると７−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイｔ
ドバレルアミド）−１−（１−メチル−ｉＨ〜テトグゾ
ール４−イル）チオメチル−１−セフェム・−４−カル
ボン酸６１０ｗ（マ１１−１＠ｌ− −）が得られた。氷晶のＩＲ値は標品に一致した。

実施’＄１８１ （１１’ｙｔ、畠−ジピージヒドロキシナフタレン８Ｉ
に塩化メチレン４４ｍ１とトリエチルアミン６．０６ｇ
を加えて溶かし、かき混ぜ１Ｇ−１１０℃に冷却しなが
ら、オキシ塩化リン！、１１を滴下した０反応液を窒素
気流下に濾過し、ＦａＩを塩化メチレン意Ｏｍｌで洗浄
濾過じ、炉液洗液を合せると５ａｓＪの溶液が得られた
。

（２）６−メルカブトー１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル１６８　ｍＫ（１１で得た溶液１５９ｗ１を加えて溶
かし、かき混ぜ０−５℃に冷却しながら７−（Ｄ−６−
カルボキシ−６−フタルイミドバレルアミド）−８−ヒ
ドロキシメチル−８−ヤフエムー４−カルボン酸のジト
リエチルアミン塩８４９＃を加え同温で２時間、室温で
、６時間反応８ｔた後・〜６℃に゛二夜おき実施例５ｌ
（２））と同様に処理すると丁−（Ｄ−６−カルボキシ
−ｉ−フタルイミドバレルアミド）−ＩＩ　−（１−メ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−８
−セフェム−４−カルボン酸カ得られた。氷晶のＮＭＲ
値は標品に一致した。

実施例８８ （１）　　ヒｏ　カテ：７−ルｔｇｏ、に塩化メチレン
４４ｍ１とトリエチルアミン６．０ｇ、を加えて溶がし
、三塩化リンＬ６１＃を氷冷下に滴下して実施例Ｉ　Ｈ
ｌ）と同様に処理し、６２ｍ１の溶液を得た。

（２）（１）で得られた溶液１４８４を用いて実施例８
２（２）に準じて８０分間反応させてから同様に処理し
？−（Ｄ−５−カルボキシ−５−フタルイミドバレルア
ミド）−１−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−６−
イル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸４８
８■（６０，０１が得′られた。氷晶のＩＢ、ＮＭＲ値
は標品に一致した。

実施例８４ （１）　　ｋ！ｏ力ｔコールＬ２０　ｔｔを塩化メチレ
ン４４−とトリエチルアミン１０１ｊに溶かし、水冷下
かき混ぜながら五塩−化リン８９６．を少量づつ加え、
実施例！１２！ｆ１）と同様に処理し、４８ｍ１伐１　
　（１１で得られた溶液１１７ｓ！を用いて、実施例龜
１（２）と同様に反応および後処理し、７−（Ｄ−トカ
ルボキシー＝−フタルイミドバＪルアミド）−１１−（
１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメ゛
チルー８−セフェムー４−カルボン酸が得られた。氷晶
のＩＲ値は標品に一致した。

実施例ａ６ 耐およびジイソ−ブチルアミン７．７６＃に溶かし、水
冷下オキシ塩化リンＬｅｔｇをｌＯ分間準εて氷冷下６
０分間ついで室温で２，５時間反応させた。反応液を実
施例８１（Ｌりと同様゛ｉと後処理すると７−（Ｄ−６
−カルボ゛簿シニ６−′フタルイミドバレルアミド）−
８−（１−メチルー−１・１− ＩＨ−テトラゾール−器−イル）チオメチル−８−セフ
ェム−４−カルボン酸４マ１　＠（６Ｌ！Ｓ）が得られ
た０本品の）ＪＭＲ値は標品に一致した。

実施例５６ （１）　“ピロカテジニルＬ！−−を塩化メチレン４０
ｍ１とトリエチルアミン賑・６＃に溶かし、水冷下三−
化リン１・１＃を滴下し塩化□メチレン４−で洗い入れ
た二室温で１０分間かｈｍぜてから再び６℃に冷却しメ
タノールｅｓ４＝を加えると内温が１８℃゛まも上った
。室温で１０分間かｈｆｌＡぜ後窒素気流下に反応液゛
を枦遇し、・１渣を塩化メチレンで洗い枦洗液を合せる
と６５ｍ１の溶液が得られた。　　゛ （２））　５−メにカブ゛）−１−メチル−１ｌｌ−テ
トラゾール”１６８卸に（１）で得゛ら゛れた溶液ＩＬ
６ｍｌを加えて溶かし、水冷下Ｔ−（Ｄ−Ｉ−カルボキ
′シー［］フフタルイミドバレルアミド−８−七ドロ鼻
シメチルートセフエムートカルボン”　酸のジトリエチ
ルアミン塩Ｉｌｌ”４ｇ萼を加え同温−１・・− で１．６時間室温でＬＯ時間かき混ぜ反応させた後ｏ−
ｉ℃で一夜おいた。更に室温で６時間反応させてから、
反応液を実施例ａ　１　（ｊりと同様に後処理すると７
−（Ｄ−６−カルボキシ−暴−フタルイミドバレルアミ
ド）−畠−（ｌ−メチル−ＩＨ−テトラゾール−６−イ
ル）チオメチ４−１１−士フエムー４−カルボン酸４８
２即（１１−）が得られた。本島のＩＨ値は標品に一致
した。

実施例１丁 ６−メルカブトー１−メチル−ＩＨ−テトラゾール４暴
・萼と７−（Ｄ−蕃一カルボキシー６−フタルイミドバ
レルアミド）−８−ヒドロキシメチル−１−セフェム−
４−カルボン酸のシト、リブｆｋ７Ｅ”、ｔｔＭ４８１
曙を塩化メチレン１０ｍ１に溶かし−！６〜−！Ｏ℃に
冷却しなから２．！−ジヒドロー４．暴−ジメチルー！
、！、！−トリメトキシーｊ、Ｉ、！−ジオキサホスホ
−に、ａ、　ｓ　ａｔを約１分−で滴下した。５分間同
温でかき混ぜ後水ｌｓ−を加え分液し水層を塩化メチレ
ンｒ１ｍｌで洗い、有機層を合せ水１６ｓＥを加えＮ　
−ＮａＯＨ水でｐＨ＆ｉにして分液し、水層を塩化メチ
レン５ｍｌで洗った。水層にテトラヒドロフラン１ｏ−
と塩化）％し：ｚｌ　Ｋｍを加え、ＭＮ−ＨＣＩ　でｐ
ｉｉ！１にして分液し、有機層を水５１ａｌ、飽和食塩
水５ｓｊの順に洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去した。残留物に少量のア十トンを加えて溶かしエ
ーテルを加えて生じた粉末を炉層し、エーテルで洗い乾
燥すると７−（Ｄ−５−カルボキシ−５−フタルイミド
バレルアミド）−８−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾー
ル−５−イル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボ
ン酸２１６即（テＩＪＳ）が得られた。本島のＩＲ，Ｎ
ＭＲ値は標品と一致した。

実施例５８ （１）トリフェニルホスファイト１．８・Ｉの塩化メチ
レン＊＊−溶１Ｎに０−クロラニル１．４マロ慶の塩化
メチレン１０２溶液を室温で加え、２゜２−ジヒドロ−
４，５，６，丁−テトラクロロ−１，２，２−）リフエ
ノキシ−１，１，！−ペソゾジオキサホスホールの塩化
メチレン溶液３ｍ−を得た。

（意）　実施例ａｔにおいて、冨、ｌ−ジヒドロ−４゜
６−シメチルー意、！、！−）リメトキシ−１゜８、雪
−ジオキサホスホール０．６−の代りに上記の（１）で
得られた溶液Ｌ＠ｄを用いて同様に反応および後処理を
行い？−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フタルイミドバレ
ルアミド）−８−（１−メチル−ＩＨ−テトラゾール−
６−イル）チオメチル−８−セフェム−４−カルボン酸
！！８・Ｈ（マ畠、１−）が得られた。本島のＩＲ。

ＮＭＩ値は標品と一致した。

実施例１− ｌ−（鵞−ジメチルアミノエチル）−６−メルカブトー
ＩＨ−テトラゾール０．１マＳ＃をアセトニトリルｌｉ
ｄに懸濁し、トリエチルアミンＱ、ＩＨＩを加えて溶か
し、？−（Ｄ−６−カルボキシ−墨−フタルイミドバレ
ルアミド）−１−ヒドロキシメチル−畠−セフエム−４
−カルボン酸のジトリ−１−ブチルアミン塩・、８マ４
＃を加えて溶か−ｌ・参− し−意６℃に冷却し、メチルＯ−フェニレン本スフエイ
トＯ，？　４４　ｔｐの塩化メチレンｓ　ｓＪ溶［を−
鵞６〜−２０℃で滴下した。かき混ぜながら同温で２０
分関度応させ、反応液に水５ｍｌを加え減圧下に濃縮し
て得られた残留物を水とアセトニトリルの混液（１：ｇ
、Ｖ／Ｖ）で正確に５・ｍｌに稀釈し、この溶液中の目
的物７−（Ｄ−５−カルボキシ−６−フタルイミドバレ
ルアミド）−８−（１−（２−ジメチルアミノエチル）
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル〕チオメチル〕−８−
セフェム−４−カルボン酸の含量を高速液体クロマトグ
ラフィーで定量した所ｏｓｓｓｇ（収率９　（１，０１
りが含有されていた。上記の５０１１１ｊの稀釈液のう
ち４Ｇ、Ｏｍをとり、Ｎ−ＭＣＩ　４１ｍを加え濃縮後
凍乾するとアメ状の固形物が得られた。この固形物をエ
タノールに溶かしエーテルを加えて生じた粉末を炉層し
エーテルで洗い乾燥すると上記目的物の塩酸塩＠ｉ４＃
が得られた。本島のＮＭＲ値は実施例２で得られたもの
と一致した。

１１０− 実施例４０ ？−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−カ
ルボン酸のジトリ−ｎ−ブチルアミン塩１．’１６ｇ、
イソニコチン酸アミド０．２９　Ｉ＋　。

をホルムアミド４ｓＪとアセトニトリル６ｍｌに溶かし
、−２０℃に冷却した。かき混ぜながら一２ｅ〜−１６
℃でメチルＯ−フェニレンホスフェイト０、７４　、の
塩化メチレン！ＴｍＬ溶液を滴下した後同温で８０分反
応させた。反応液を１０℃に昇温させ、アセトニトリル
６０ａＥおよびエーテル６０ｍを加え析出した粉末をＦ
取しアセトニトリルで洗い乾燥すると７−（Ｄ−６−カ
ルボキシ−５−フタルイミドバレルアミド）　−ａ−ｔ
フエムー８−（４−カルバモイルビリジ畢つ↓）メチル
−４−力に４ｔ＊シレ−ト１．０４　ｇ　（収率ｇｓ、
６％）が得られた。

）ＪＭＲ（Ｄ翼０−）Ｋ茸ＣＯ拳）：実施例２２で得ら
れたものと同じ値であった。

１１１一 実施例４１ 実施例暴においてメチルＯ−フェニレンホスフェイト・
、τ４１の代りに意−フェニルー１．ｓ。

３−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−オキシド亀−８ｇ
の塩化メチレン４ｍｌ溶液を用いて、１４１分閤反応さ
曽だ後実施例暴と同様に後処理し、目的物ｔ、ｘｚ＊（
収率−Ｌｌ−）を得た０本品のＩＲおよびＮＭＲ値は実
施例１で得られたものと一致した。

実施例４２ マー（Ｄ−６−カルボキシ−５−フタルイミドバレルア
ミド）−８−ヒドロキシメチル−８−セフェム−４−カ
ルボン酸ジカリウム塩６永和物（１，＠’ｌｏｇを水５
ｍｌに溶かし、テトラヒドロフランｉｍｌを加えてから
、６℃以下で４　Ｎ　−１１ｃｊで−１６にし、塩化メ
チレン１０−を加えて分液した。

水層をテトラヒドロフラン１Ｊ）ｍｌと塩化メチレンｉ
ｍｌで抽出し有機層を合曽て硫酸マグネシウムで乾燥し
減圧下に濃縮し再びテトラヒドロフラン１０ｍ１と塩化
メチレンＭＯｓｌを加え濃縮した。残留物をテトラヒド
ロフラン１０−に溶かし、ｂ−メルカプト−１−メチル
−ＩＨ−テトラゾール０．１７４−を加え、−１ｓ〜−
１・℃でメチルＯ−フェニレンホスフェイトＯ１τ４４
ｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かした溶液を加えた
。同温度で６０分かｈ混ぜてから減圧下に濃縮し残留物
を少量のテトラヒドロフランに溶カル、エーテル１０Ｏ
ｓＪ中に加え析出した粉末を炉層しエーテルで洗−１乾
燥すると丁−（Ｄ−６−カルボキシ−６−フタルイミド
バレルアミド）−１−（’１−メチルー１１１−テトラ
ゾール−６−イル）チオメチル−８−セフ：ｃ　Ａ　−
４−ｔＪ　ｋポン酸（１１＠＠＊（１１１１１Ｇ）６５
得られた。本島のＮＭＩ、ＩＩスペクトルＣよ実施例１
で得られたものと一致した。

実施例４ｍ 実１１１ｒ例Ｇにおいてメチル・−フェニレンホスフェ
イト叡マ４＃の代９に２−オキソ−４，６−シメチルー
寓、ＩＩ−ジヒドロー鵞−メトキン−ｌ。

＄、！−ジオキサホスホール＠、＠Ｉｆの塩化メチレン
４１Ｉ＆滴液を用いて■分間反応させた後実施１１８− 例ｉと同様に後処理し、目的物０．９５　ｇ　（７９，
ｏ荀を得た０本品のＩＲおよびＮＭＲ値は実施例１で得
られたものと一致した。

１１４− 手続補正書（自宛） １．・１１件の表示 ＋＋−−帯＃し 昭和５６年９月ＩＯ日提出の特許願 ３、補正をする者 ・ＩＴｆ’ｌとの関係　　特許出願人 ｆｌ　　　所　　人１紋山ｌＡｊ　１×」Ｑ　４％　＋
１１１’　２１’　Ｉｔ　２７　ｉｆ；　地名　称（２
９３）武１［１薬品工業株式会社４、代理人 １１　　　　所　　大阪市淀用区１三ト１町２丁１１１
７ｉ１♀８５号１− ６、補正の内容 （１）明細書第８９頁第６行の“ｐ”を、“Ｐ”Ｋ訂正
する。

（２）同書第４７頁第１８行の“Ｐ”を、“ｐ″に訂正
する。

（３）同書第６５頁第１８行及び第６６頁第１４行の“
（ＫＢｒ）”の後に、　１　”を挿入する。

（４）ｌｊｉ書第６５頁第９行及び第６７頁第１行の１
） （５）同書第１１４頁第４行以下に、次の実施例を追加
する。

「実施例４４ （１）　　デアセチルセファロスポリンＣナトリウム（
純度９０．１％）８．７８９に水２４ｍを加えて溶かし
、テトフヒドロフラン（ＴＨＦ）８ｓ／を加える。４０
％炭酸カリ水溶液とクロＡ／度酸フェニル８．７６ｆを
ｐＨ９，’　５二１０．０．１６〜２０’Ｃで交互に滴
下する。滴下後１０分間かき混ぜてからＴＨＦ４０ｍを
加え８〜５℃に冷却しなからａ塩酸を滴下しｐＨ２，５
にし、塩化メチレン６６１ｔを加え分液し水層を更に’
Ｌ！ＨＦ、１７ｇＪと塩化メチレンａ４ｄの混液で抽出
した。有嬌層を合せて硫酸マグネシウムで乾燥しトリー
ｎ−ブチルアミン８．１６ｆを加え減圧下に乾固し残留
物に塩化メチレンを加え再び乾固した。残留物を塩化メ
チレンに浴かしエーテル中に滴下し析出する粉末を１取
すると７（Ｄ−６−カルボキシ−５−フェノキシカルボ
二μアミノパレ〜アミド〕−８−ヒドロキシメチＡ／−
８−セフェム−４−力〜ボン酸のジトリ−ｎ−ブチルア
ミン塩１６．２ｆが得られた。

工Ｒ（ＫＢｒ）３　　ｉ　８２６０．２９Ｂ０．１７６
０゜１７ａ６．１６６０．１６０Ｏ ＮＭＨ（ｄ５−ＤＭＳＯ月Ｊ　Ｏ，７〜２．９および２
．６−８．１（ｍ　、（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）３
Ｎ　＆　−（ＯＨ２）３ｅＬ）−ン。

８．４５　（ｂｒ　、　２−ＣＨ２）、　ａ、９Ｇ（ｔ
　、Ｊ＝６Ｈｚ　、−ＣＨ）　。

４．１６　（ｂｒ、　；Ｊ−ＣＨ：ｚ　）　、４．９４
（ｄ、Ｊ−５Ｈ２，Ｃ６−１υ。

６．６２（ＣＬ＠　　Ｊ−５Ｘ８Ｈｚ、Ｃ，−Ｈ）、６
．９−７．６（ｍ。

Ｑ−）　、　７．７〜８．９　＜　ｍ　、　−ｏ−ｃｏ
ＮＨ−、ｃ−ＣｏＮｕ　、　−ｅｏｏＨ）（２）　　？
　−（Ｄ　−６−カルボキシ−５−フェノキシカμボニ
ルアミノバレルアミド〕−８−ヒＦロキＶメチｔｖ−ａ
」セフェム−４−カルボン酸のジトリ−ｎ−グチルアミ
ン墳８６４Ｆを塩化メチ゛レン１００耐に溶かし、５−
メルカプト−１−メチル−Ｉ　Ｈ−テトラゾ−Ａ／１．
７４Ｆを加えて溶かし、−２，Ｏ〜−２６℃の冷却下に
メチルＯ“−フェニレンホスフェイトａ、、７２　Ｆの
塩化メチレン１０ｓＪＷ液、を５盆間に滴下した７後０
〜−５℃で６０分間かき混ぜ友。反応液に冷水８０ｓＺ
を加え、Ｎ−、Ｎａ、ＯＨ水でｐＨ８・５にし分液し水
層を塩化メチ′″′２．０　ｍで２回洗い・水層にＴ、
　ＨＦ、　５　Ｇ＆と塩化メチ′１７５０ｓ？ｌ加え濃
塩酸を滴下ＬｐＨ１・６とし分液し有４Ｉ′＆層をとヤ
・水層を斐に’１’Ｈ１７１６′４樵逓″レン１５ｍの
混液で抽出し有磯層を合せてｉＩｌ綾マグネシウムで乾
燥後＃縄を少量になるまで濃縮し友。残留液をエーテル
ａｏＯＩｌｔ中に滴下し析出した粉末なｒ取しエーテル
で洗い乾燥すると、７−（Ｄ−５−力μホキシー６−ツ
エノキシ力ルポニルアミノパレルアミド）−８−（１−
メチｆｉ／−１“Ｈ−テ十うゾーＡ／−５−イＡ／）チ
、オノチルーａ−セフェム−４−力〃ポン酸５．４１ｆ
（収率９１．４％）を得た。

工Ｒ（ＫＢｒ）ａ　　；８２７Ｇ、ａｏｚａ、２９２０
゜１７８０．１７２５，１５８Ｏ ＮＭＲ（δ６−ＤＭＳＯ）、δ１．４〜２．４　＜　ｍ
　、　−＜ｃｕｐｙ−＞。

ａ、６９　（ｂｒ　、　２−ＣＨｚ）、８．９４　（ｓ
　、　Ｎ−ＣＨ５）、４．ａＯ（’ｂｒ、１−ＣＨ２）
、６．０６（ｄ、Ｊ−５Ｈ２，Ｃ６−Ｍ）。

６．６５　（（１−Ｊ＝６ｘｇＨｚ、　　Ｃ７−Ｅｌ）
−６，９−７，６（ｍ、　ＣＪｐ）　、８．０ａ（ｄ　
、Ｊ−ｇＨｚ、−０ＣＯＮＨ−）。

８．８ａ（ｄ、Ｊ−ｇＨｚ、　−〇〇ＮＨ−）実施例４
５ （１）　　ｆアセチルセファ１０スポリンＣす上リウム
（純度９０．１襲）１０．９５ｆに水２５Ｉｄを加えて
溶かしアセト−トリＮＴｄを加える。１６〜２０’ＣＫ
冷却しながら４０％次酸カリ水浴液とダロル１１１酸工
ｆｆ１ｙａ、ａＢＩ’ｋｐＨ９，６〜１　Ｇ−ｔ”交互
に―下しかき混ぜ反応させる。反応液を減圧下に濃縮し
アセトニトリルを留去し、０−５″ｃＫ冷却し濃塩酸て
ｐＨ１６にし析出物を炉層し冷水で洗ってから水２００
−に懸濁しかき混ぜながらトリエチルアミンＳａｔを加
えて溶かし減圧下に濃縮し凍結乾燥後無水リン酸を入れ
たデシケータ中で真空乾燥すると、７−ＣＤ−６−カμ
ポキン−５−エトキシカルボニルアミノバレルアミド）
−８−ヒドロキシメチ＃−８−セフェム−４−力〜ボン
酸ジトリエチルアミン樵１６．２１を得た。

工Ｒ（ＫＢｒ　）ａｓ　　；　ａ５５０−ａ１５０，２
９ａＯ。

２８４０．２６７０．２４８０．　１７６２．　１７１
０〜１６６０、　１６００．１６８５ ＮＭＲ（ＤｇＯ）ｓ　Ｉ　　１．１４（ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ
。

−ＣＨ５）、＋１．２６（ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、ＣＨ３ｘ６
）−１，５−１，９（ｍ、−ＣＨ２ＣＨ２−）　、２．
２−２．５　（ｍ　、　−’ＣＨ２ＧＯ−）。

ａ、　１９　（ｑ　＝　Ｊ−７ＨＺ　＊　ＣＨ２Ｘ　６
　）　、３．５４　（Ａ　Ｂ　（１。

２−ＣＨ２）　；　４．０８　（（１、Ｊ　＝　７　）
ｉＺ　、　−００２０％−）　。

４．２６（ｓ、ａ−ＣＨｚＬ６．０８（ｄ＊Ｊ−６Ｈｚ
＊Ｃ６−Ｈ）。

６−６９　（ｄ＋　Ｊ　δ６　Ｈｚ　、Ｃ１−Ｈ）（２
）７−（１）−５−カルボキシ−５−エトキシカルボニ
ルアミノバレルアミド）−８−ヒドロキＶメチＡ／−３
−セフェム−４−力〜ボン峻ジトリエチ〃アミン樵１．
ａＯｆＦＣ塩化メチ塩化メチレフ１プ ＊−　ｔ’ａ−テトラゾ−Ａ１０。８５ｇおよびトリ・
−ｎ−ブチルアミン０．　２　ｍを加えて溶かした。溶
液を−１６〜−１Ｏ℃に冷却しかき混ぜながらメチル０
−フェニレンホスフェイト０．　７　４　１の％化ｆｉ
＋レン２ｍ溶液を６分間かけて滴下した後Ｏ〜６℃で８
０分間かき混ぜた。反応液を減圧下にａｌ１ＭＬ残−一
に一化メｊレン２０―と水１５−を加え０〜６℃に冷却
しＮ　−　ＮａＯＨ水でｐｕｓ．ｏにし分液し水層をと
門゛、有礪層を水８ばて洗い水層を合せて塩化メチレン
６−で洗った。水層にテトフヒドロフラン１０ｍ−と塩
化メチレン２０−を加え０〜５℃に冷却し、２Ｎ−ＨＣ
ｌ水でｐＨ２とし分液した。

有機層をとり、水層にテトフヒドロフフン６ｗｔと塩化
メチレン１０ｓＪを加え分液し有慣層を合せて硫酸マグ
ネシウムで乾燥し濃縮後エーテルを加えて生じた粉末を
炉取し乾燥すると、７−（１）−５−カμボキｓ／ー６
ーニトキシカルポニ〃アミノバレルアミド）〒８−（ｌ
−メチＡ／ー１１ー１ーテトフゾー〜−５−イｆｉ／）
チオメチル−ａ−セフェム−４−カルボン酸０．９７ｆ
（収率８９．２％）を得た。

工Ｒ（ＫＢｒ）ｔｘ＋”　ｓ　ａ２８０，２９５０，１
７７６。

１７１０、１６８Ｇ ＮＭＲ（δ６−ＤＭＳＯ　）　Ｈ　Ｊ　１．Ｏｊｌ　（
　Ｃ　、Ｊ−７Ｈｚ　、　７ＣＨ３）。

１、４〜２．４（ｍ．−０Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２−）、Ｌ６
ｇ（Ｓ−Ｎ−ＣＨｓ　）　、ａ．６ａ（ＡＢ（１　、　
２−ＣＨ２　）−８．９７（ｑ　、Ｊ　−７Ｈ２＝　−
０−ＣＨ２−）、４．８６（ＡＢｑ−ａ−ＣＨ２）。

６、０６（（１，Ｊ−６Ｈ２，Ｃ６−Ｈ）、５．６６（
ｄ（１，Ｊ−５ｘ８Ｈｚ．　　（、ｙ−Ｈ）、　　７．
２５（ｄ，Ｊ＝ＢＨｚ，−〇〇〇ＮＨ−）。

８、７９　（　ｄ　、Ｊ−８Ｈｚ，　　−〇〇ＮＨ−）
Ｊ以　傳 手　　続　　補　　正　　書　（自余）特許庁長官　　
　殿 １、事件の表示 昭和５６　年特許願第１４３３０２　　号２、発明の名
称 セファロスポリン化合物の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住　　所　　大阪市東区道修町２丁目′２７番地名　称
（２９３）武ｍ１Ｉｉ品工業株式会社代表者　　倉　林
　宥　四　部 ４、代理人 住　　所　　大阪市淀用区十三本町２丁目１７番８５号
６、補正の内容 明細書第１１４頁第３行の次（昭和５６年１０月５日付
手続補正書第８頁第１０行の次）に、以下の記載を追加
する。

「！ｌ！施＃ｖ４６ ５−メμカプトー１−メチｌｖ−１ｍ−テトフゾ−７％
／８ＴｑとＴｐ−［２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−４
−イル）−２−（シン）−メトキシイミノアセタミドシ
ー３−ヒドロキシメチｌ＃／−３−セフェム−４−カル
ボン酸ナトリウム塩２１６ｖヲ１ぜホルふアミド１Ｍ／
、アセトニトリＩｋ／Ｉｄヲ加え攪拌して溶かし皮。こ
の溶液にメチ＊　　０−７エ二−Ｖ７ホスフエイト２８
０ダの権化メチレン０゜Ｔ５ｄｌｌｊ液を攪拌下、氷浴
で冷却しながら加え０．５時間氷浴で冷却しながら攪拌
した。冷水１ｄを加え、反応液を減圧下に濃縮した。残
渣に水２ｄを加え、ｐＭ′を４１７　ＨＣｌで２．５に
調整し１生じた沈澱な炉取り冷水０．５１１ｔで洗い真
空乾燥すると７β−〔２−（２−アミノチアゾ−Ａ／−
４−イル＞＝２＝＜シン）−メトキシイミノアセタミド
−）−８−（１−メチＡ／−ＩＨ−”テトラゾ−１ｖ−
５−４１４／）チ“オメチ＊　−３−１７Ｚ　ム−４−
力、１％／　）Ｎ　ン酸２１０４置（収率８２．６修）
が得られた。　　　　　　　１ＭＲ（ＤＭ８０−ｄ６　
）　’　：　３．６７　（２Ｈ、ｂｒ　、　２−ＣＭ　
２）　。

３．８３，３．９３（６Ｈ，２本のａ　、　Ｍ−Ｃ■ｓ
　、　０−ＣＨ３）Ｃ４，２７（２Ｈ−ｂｒ　−３−Ｃ
Ｈｇ）Ｌ　５．０９　（Ｉ　Ｈ−ｄ　、　Ｊ　−５Ｈｚ
、Ｃ６−Ｈ）、５．７６（１１，ｑ、Ｊ−５＆８Ｈｚｓ
Ｃ７−１１）、［７３（ＩＨ山、ｓ、、、、９．５５’
（ＩＨ。

ａ　、　Ｊ＝ｌＩＨｇ　、　Ｃ０１ｊＨ）実施例４Ｔ ７β−アミノ−３−ヒドロキシメチル−３−セフェふ−
４−カルボン酸２３０ＴＩＩＩＩ、５−メルカプト−・
１−メチｐｙ−Ｉ　Ｈ−テトラゾ−／＆１７４１Ｆ。

ネル五アミド４ｍｇ、アセトニトリ／Ｉ／１ｄの混合物
に攪拌上水浴で冷却しながらトリエチルアミン２５３１
ｑｌＦを加え次５４られた溶液にメチＡ／　　０−フェ
ニレンホスフェイト６５Ｇ”ｆの環化メチＶン２ｍｌ溶
液とアセトニトリ＊５Ｉ１１を攪拌下−１０℃〜Ｏ′Ｃ
に冷却しながら加え次に０−５℃で０．５時間攪拌した
。生じた沈澱を炉層し、アセトニトリ１４１５ｄで洗い
、水６ｗｔとアセトニドす、４／２６ｇの混液に懸濁さ
せ７ｃ、懸濁−に約０．１ｄの３５％塩酸を加えて溶か
した。２５囁１、ンモニア５水で氷冷下にｐＨ４にし、
生じ次結晶を炉層し冷水２ｄで洗い真空、乾燥するとＴ
ｐ−アミノ−３−（１、ニメチ〃−１１−テＦフシール
ー５−イア１＆／）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸２８０ｑ（９率８５４３憾）が得られた。

Ｉ　Ｒ（］［Ｂｇ）ｃｍ　、、：１７．９０　、１６．
ｊ５．１５３５．１４．、．１　ＯＮＭＢ（Ｄ、０＋Ｃ
Ｆ３ＣＯ０Ｄ）＃、：　３，７　Ｉ　Ｃ２Ｅ、　ｓ　、
、２−ＣＨ２）、　＠、９，６Ｃ３Ｈ，ａ　、、　Ｈ−
ＣＨ３）、　４．２２（２Ｈ。

ａ　、　ａ−ｃａ、）、　５．０１ｊ　（１１、ｄ　、
　Ｊ＝５Ｈｚ　、’、Ｃ６−旧、。

５−１７　（１１−ｄ　ｅ　Ｊ−、５Ｈｚ　−Ｃ−ｔ７
Ｈ）　Ｊ　　　、。、４、。

゛　　以キ 、り 手　　続　　補　　正　　書　四′４光）昭和５７年　
９、月／夕日 特許庁長官　　　　殿 １、事件の表示 昭和５６　年特許願第１４３３０２　　号２、発明の名
称 セファロスポリン化合物の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住　　所　　大阪市東区道修町２丁目２７番地名　称（
２９３）武田薬品工業株式会社代表者　　　倉　　林　
　育　　四　　部４、代理人 住　　所　　大阪市淀用区十三本町２丁目１７番８５号
１− ６、補正の内容 明細書１ｇ１１＋頁第３行の次（昭和５７年９り／３日
付手続補正書第４頁１３行の次）Ｋ、以下の記載を追加
する。

「実施例４８ （１）塩化メチレン２０ｍ／中に７β−（Ｄ−５−力μ
ホキシー５−フタμイミドパレμアミド）−３−ヒドロ
キシメチｆｉ／−３−セフェム−４−カルボン酸のジト
リエチルアミン樵３．５３　Ｆと５−メルカプト−１−
メチμｍＩＨ−テトフゾー、Ａ’０．８７ｆを溶かした
。この溶液に攪拌下−２５℃〜−２０℃に冷却しながら
、エチｆｉ１０−フェニレンホスフェイト１．５　Ｑ　
ｌの権化メチレン３．８ＩＩｔＭ液を滴下し、混液を一
５℃〜０℃で１時間攪拌した。この反応混液に水５０ｗ
ｔ、テトフヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｗｔ、ｊｎ化メ
チレン２０ｍを加え、４Ｍ−塩酸でｐＨ２に調整した。

分液後、水層を塩化メチレン２０−とＴＨＦ２Ｇ＠ｔの
混液で抽出した。有機層と抽出液を合せ無水硫酸マグネ
Ｖウムで乾燥、減圧濃縮し残渣をアセトン２０５ｇに溶
、かじ、エーテル３００ｄ中に滴下して生じた沈澱を炉
層、エーテル洗浄し真空弊燥すると７β−（Ｄ−５−カ
μボキ￥−５−フタμイミドパレ〃アミド）−３−（１
−メチＡｚ−ＩＨ−４１１ゾール−５−イμ）チオメチ
Ａ／−３−七フエムー４−カルボン酸２．８６１（収率
９５，１　％　）が得られた。氷晶のＸＢ及びＩＭＰス
ベク）〜は！１ｌｌＩＩ施例１で得た亀のと一致した。

＜２）　　上Ｅの゛（１）テ、エチ、Ａ１０−フェニレ
ンホスフェイトの塩化メチレン溶液を２３−２７Ｃで滴
下し、混液を約３９℃で５分間攪拌後、０℃に冷却した
徒、上記の（１）と同様に後処理すると白色粉末２．７
１（収率９０．４％）が得られた。氷晶の工Ｒスペクト
〃は上記（１）で得られたものと一致した。

実施例４９ １−力μボキＶメチ／Ｉ／−５−メμカグト−ＩＨ−テ
トラゾ−μ０．２８８ｆとｔリエチμアミン０．３６３
ｆＫ填化メチレン６１１ｔを加える。この溶液に７β−
（Ｄ−５−カルボキシ−５−フタμイミドパＶｐアミド
）−３−ヒドロキシメチ〃−３−セフェム−４−カルボ
ン酸のジトリエチルアミン塩０．８４７　Ｆを加える。

この溶液に攪拌しながら−２０〜−１５℃でメチ／Ｌ１
０−フェニレンフォスフエイト０．４５Ｏｆの塩化メチ
レン１．２　ｗｔの溶液を加える。この溶液を一５〜０
℃で１時間攪拌してから、得られた反応液を実施例４８
−　（１）と同様に処理して７β−（Ｄ−５−カルボキ
シ−５−フタルイミドバレルアミド）−３−（１−力〜
ボキＶメチＡ／−ＩＨ−テトラゾ−Ａ／−５−イル）チ
オメチル−３−セフニムー４−カルボン酸０．７１１ｆ
（収率９１，８囁）が得られた。

１Ｒ（ＫＢｒ）ｃｆｌ：１７７Ｇ、１７１０．１５３０
ＭＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）Ｉ：１．３〜２．４（６Ｒ９
ｍ、−（ＣＨ２）３−）。

１＠２　（２Ｈ、ｂｒ　１．２−Ｃａ２）　−４゜１７
＆４．４７（２Ｈ。

ムＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ＊３−ＣＨ２□）−４，７１（Ｉ
Ｈ，ｔ。

Ｊ＝５Ｈｚ、＞ＣＨ−）、４．９９（１）１．ｄ、Ｊ−
５■２゜Ｃ６−Ｈ）　−５−２８（２Ｈ−ｓ　−ＮＣＨ
２ＣＯ）　−５，６２（Ｉ　Ｈ＊ｑ　、Ｊ−５４８Ｈｚ
、Ｃ７−Ｈ）　、？、８９（４Ｈ，’ｓ　、α）。

ＳＬ？　？　（Ｉ　Ｈ−ｄ　＃　Ｊ−”　８　Ｈｚ　−
Ｃｏｉｎ　）　Ｊ以　上− 手　　続　　補　　正　　書　（自宅）昭和５７年、９
　月ｌり１１ 特許庁長官　　　殿 １、事件の表示 昭和５６　年特許願第１４３３０２　　号２、発明の名
称 セファロスポリン化合物の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　　ｔ、ｔｉ許出願人 住　　所　　大阪市東区道峰町２丁目２７番地名　称（
２９３）武田薬品工業株式会社代表゛者　　　倉　　林
　　育　　四　　部４、代理人 住　　所　　大阪市淀川区十三本町２丁目１７番８５号
武田薬品工業株式会社大阪工場内 氏　　　名　　　弁理士（５８４４）松　　　居　　　
祥　　　二東京連絡先（拌許法規課）電話２７８−２２
１９６、補正の内容 明細書第１１４頁第３行の次（昭和５Ｔ年９月／≠日付
手続補正書第１頁第１デ行の次）に、以下の記載を追加
する。

「実施例５０ （１）　　ピロガロ−μｍ、　１０１とメチルホスホロ
ジクｕ９ｆｘイＮ、３（ｌを混ぜ、塩化メチレン８−を
加えた。この混合物に攪拌下、−３５℃〜−３０′ＣＫ
冷却しながらトリエチルアミン１．８６ｆを滴下し、０
〜５℃で２時間攪拌すると４−ヒドロキシ−２−メトキ
シ−２−オキソ−１，３゜２−ベンゾジオキサホスホー
ルを含有する反応混合物が得られ次。

（２）　　塩化メチレン２０−にＴβ−（Ｄ−５−カ〃
ボキＶ−５−フタ〜イミドバレルアミ＜）−ａ−ヒドロ
キ￥−３−セフェムー４−力〃ボン酸　ジトリエチルア
ミ７ｍ１５３Ｆと５−メルカプト−１−メｆｖ−ｌ　Ｈ
−ｙ−）　ッソ−Ａ１０．８７　ｆを溶カした。この溶
液に攪拌下、−２５℃〜−２Ｑ℃に冷却しながら上記（
１）で帰られｆｃ反応混合物の全量を加え、反応器に付
着している反応混合物を塩化メチレン６ｄで洗って加え
た。この懸濁液を一５〜０℃で１時間攪拌し反応混合物
を実施例４８−（１）と同様Ｋｆｉ埋すると、７β−（
Ｄ−５−力μホキ１７−５−フタルイミドパレμアミド
）−３−（１−メチＡ’−ｌ　Ｈ−テトフゾーＡ／−５
−イ〜）チオメチＡ／−３−セフェムー４−カルボン酸
２．７６　Ｆ（収率９１．８％）が得られた。水晶の同
定は工Ｒスペクトルにより行った。

（３）　　ピロガロールの代シに３，４−ジヒドロキシ
安息香酸エチルエステ々１．５９１を用いて上記（１）
と同じ方法で行って得られた５−エトキシカμボ二Ａ／
−２−メトキ５／−２−オキソ−１，３，２−ベンゾジ
オキサホスホ−〜の反応混合物を用いて、上記（２）と
同じ方法で口うと上記（２）と同じ生成物２．８５ｆ（
収率９４．７％）が得られた。水晶の同定はＩＲスペク
トμで行った。

（４）　　ピロガロ−μの代ＩＫ３．４−ジヒドロキシ
トμエン１．０９　ｆを用いて、上記（１）と同じ方法
で行って得られた２−メトキｙ　−５−メチル−２−オ
キソ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ−μの反応混
合物を用いて、上記（２）と同じ方法で行うと生成物１
８３Ｆ（収率９４．１　％　＞が得られた。

水晶のＩＲスペクトルは上記（２）でｉたものに一致し
た。」 以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式 〔式中　Ｒ１は水素原子またはアシル基を、Ｒは水素原
   子またはエステル残基を、点線はセフェム環の３位また
   は３位二重結合を示す〕で表わされる化合物と求梳性化
   合物と（０式 Ｃ式中、ＷＦｉ駿素原素原子オク原子または皿１を、Ｗ
   ｌは酸素原子、イオク原子またはＮＲ”を、Ｒ′、Ｒ１
   は同一まだは相異なって水素原子まえは綬化水゛素基を
   示す〕で表わされる部分構造を有する三価または三価の
   環状リン化金物、または（２）式〔式中の記号は前記と
   同意義〕で表わされる部分構造を有する化合物とオキシ
   ノ・ロゲン化リン、三ハロゲン化リンまたは五ハロゲン
   化リンとの反応物を有機溶媒中で反応させることを特徴
   とする、式 〔式中、Ｒ１、Ｒおよび点線は前記と同意義を、Ｒ４は
   求核性化合物の残基を示す〕で表わされるセファロスポ
   リン化合物の製造法。