JPS5842143A - 金属イオン源 - Google Patents
金属イオン源Info
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- JPS5842143A JPS5842143A JP13926281A JP13926281A JPS5842143A JP S5842143 A JPS5842143 A JP S5842143A JP 13926281 A JP13926281 A JP 13926281A JP 13926281 A JP13926281 A JP 13926281A JP S5842143 A JPS5842143 A JP S5842143A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/26—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液体金属イオン源に関し、特に長寿命で安定な
イオンビームを発生することができるイオン源5ζ関す
る。
イオンビームを発生することができるイオン源5ζ関す
る。
ガリウム等の金属イオンによるイオンビーム露光が、レ
ジスト内でのイオンの拡欽が電子ビームによる露光に比
較して小さいことから、サブミクロン以下の#(ターン
製作用の露光として注目されており、その為各方面にお
いて金属イオン源の研究が進められている0Jl1図は
液体金属イオン源の一同を示しており、1は底部に細孔
2が設けられたタンタル、タングステン等の金属で形成
されたリザーバであり、該リザーバ1内部には液体金属
、例えばガリウム3が入れられている。該リザーバ底部
の細孔2を貫通してタングステン製の針状部材4が配置
され該針状部材の一端は該リザーバ側面腎例えばスポッ
ト溶接によって固着されており1電解研磨により針状に
された他端は接地電位の陰極5に対向して配置される。
ジスト内でのイオンの拡欽が電子ビームによる露光に比
較して小さいことから、サブミクロン以下の#(ターン
製作用の露光として注目されており、その為各方面にお
いて金属イオン源の研究が進められている0Jl1図は
液体金属イオン源の一同を示しており、1は底部に細孔
2が設けられたタンタル、タングステン等の金属で形成
されたリザーバであり、該リザーバ1内部には液体金属
、例えばガリウム3が入れられている。該リザーバ底部
の細孔2を貫通してタングステン製の針状部材4が配置
され該針状部材の一端は該リザーバ側面腎例えばスポッ
ト溶接によって固着されており1電解研磨により針状に
された他端は接地電位の陰極5に対向して配置される。
該リザーバ1にはタングステン製のフィラメント6がス
ポット溶接されており、鋏フィラメント6には電源7か
ら加熱電流が供給される・更に該リザーバ1.針状部材
4#cは電源8から正の高電圧が印加されているO と述したイオン源に゛おいて針状部材4の先端部6Cは
強電界が印加され、その結果リザーバ内部のガリウムは
該強電解によって底部の細孔2を通り、針状部材4先端
部にまで引出される◎該先端部のガリウムは強電界−ζ
よってテーラ−の円錐(TaylorCone )と称
される円錐突起を形成する。この円錐突起の先端部には
電界が集中し、先端部のガリウムは電界蒸発イオン化し
、ガリウムイオンとなって引出される◎このようなイオ
ン源は非常に輝度が高いがガリウムの温直がある温直に
保持されていないと安定なイオンビームの発生が困−と
なる〇すなわら、ガリウムの温度が低いと、針状部材4
の表面を先端部に向けて移送される通路の移送抵抗が轟
くなり、先端部より電界蒸発に供されるガリウムの流れ
が不安定、不連続となり、結果としてイオンビームの不
安定性を招(こと6ζなる◎このためフィラメント6に
電流を供給して加熱し、鎮フィラメント6からの伝導熱
によってリザーバ1、針状部材4.ガリウムを加熱し、
安定に連続してリザーバ内のガリウムが針状部材の先端
部に移送されるようにしている・ さて一般にガリウム等の液体金属は熱拡欽によって物質
表−を移動するが、この拡敵速度は温度によって変化し
、高温度では速く、温度が低(なるに従って遅くなり、
ある温度以下では拡敵が生じない◎このため、上述した
従来のイオン源においてはリザーバ1内のガリウムは熱
拡欽によってリザーバの外Ill画面にじみ出し、更に
はフィラメント6表面を移動する・該フィラメント5は
支持体9#c一端が固迫されているが、該支持体9に接
近したフィラメント部分は温度が低(なっており、この
部分でガリウムの拡敵速度は着しく低下し、そのため、
ガリウム金属が停留し、塊り10を形成する◎このフィ
ラメント#!函のガリウム特に塊り10はフィラメント
の実効的な電気抵抗を低下させ、結果としてリザーバ内
のガリウムの加熱温度が低(なり、安定にリザーバ内の
ガリウムが針状部材4先端に移送されなくなり1安定な
イオンビームが得られなくなる。更にフィラメント表面
を熱拡歇によって移動するガリウムは、リザーバ内のガ
リウムの消費を早め、イオン源の寿命を短くする〇 本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、イオン化
すべき金属を貯蔵するリザーバ部と、該リザーバ部から
液状金属が供給される針状先端部を有した針状部材と、
該針状先端部に強電界を形成するための手段と、該リザ
ーバ部あるいは該針状部材に熱的に接続されイオン化さ
れる金属を加熱するためのフィラメントとを備え、該フ
ィラメントはその一部に高温度領域が生じるような形状
となし、長寿命で安定なイオンビームを発生することが
できる金属イオン源を提供する。
ポット溶接されており、鋏フィラメント6には電源7か
ら加熱電流が供給される・更に該リザーバ1.針状部材
4#cは電源8から正の高電圧が印加されているO と述したイオン源に゛おいて針状部材4の先端部6Cは
強電界が印加され、その結果リザーバ内部のガリウムは
該強電解によって底部の細孔2を通り、針状部材4先端
部にまで引出される◎該先端部のガリウムは強電界−ζ
よってテーラ−の円錐(TaylorCone )と称
される円錐突起を形成する。この円錐突起の先端部には
電界が集中し、先端部のガリウムは電界蒸発イオン化し
、ガリウムイオンとなって引出される◎このようなイオ
ン源は非常に輝度が高いがガリウムの温直がある温直に
保持されていないと安定なイオンビームの発生が困−と
なる〇すなわら、ガリウムの温度が低いと、針状部材4
の表面を先端部に向けて移送される通路の移送抵抗が轟
くなり、先端部より電界蒸発に供されるガリウムの流れ
が不安定、不連続となり、結果としてイオンビームの不
安定性を招(こと6ζなる◎このためフィラメント6に
電流を供給して加熱し、鎮フィラメント6からの伝導熱
によってリザーバ1、針状部材4.ガリウムを加熱し、
安定に連続してリザーバ内のガリウムが針状部材の先端
部に移送されるようにしている・ さて一般にガリウム等の液体金属は熱拡欽によって物質
表−を移動するが、この拡敵速度は温度によって変化し
、高温度では速く、温度が低(なるに従って遅くなり、
ある温度以下では拡敵が生じない◎このため、上述した
従来のイオン源においてはリザーバ1内のガリウムは熱
拡欽によってリザーバの外Ill画面にじみ出し、更に
はフィラメント6表面を移動する・該フィラメント5は
支持体9#c一端が固迫されているが、該支持体9に接
近したフィラメント部分は温度が低(なっており、この
部分でガリウムの拡敵速度は着しく低下し、そのため、
ガリウム金属が停留し、塊り10を形成する◎このフィ
ラメント#!函のガリウム特に塊り10はフィラメント
の実効的な電気抵抗を低下させ、結果としてリザーバ内
のガリウムの加熱温度が低(なり、安定にリザーバ内の
ガリウムが針状部材4先端に移送されなくなり1安定な
イオンビームが得られなくなる。更にフィラメント表面
を熱拡歇によって移動するガリウムは、リザーバ内のガ
リウムの消費を早め、イオン源の寿命を短くする〇 本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、イオン化
すべき金属を貯蔵するリザーバ部と、該リザーバ部から
液状金属が供給される針状先端部を有した針状部材と、
該針状先端部に強電界を形成するための手段と、該リザ
ーバ部あるいは該針状部材に熱的に接続されイオン化さ
れる金属を加熱するためのフィラメントとを備え、該フ
ィラメントはその一部に高温度領域が生じるような形状
となし、長寿命で安定なイオンビームを発生することが
できる金属イオン源を提供する。
以下本発明の実施岡を添付図面に基づき詳述rるO
第2図は本発明の一夾IIIA例を示しているが、この
央總例で第1図と同一部分は同一番号を付してその説明
を省略する◎ガリウム6が内部に入れられたリザーバ1
1(スポット溶接されたフィラメント11暑、11bの
一部はへ1−ピン形状#C折り返されている口鋏折り返
し部12鳳、12bK:おいてはフィラメント自体の通
電加熱の他に折り返し接近したフィラメント部分からの
極の輻射熱の影響擾ζより折り返し部以外のフィラメン
ト部−ζ比べて高い温度、Iζ加熱される@この結果リ
ザーバ1と支持体9との間のフィラメントの温度分布は
第31に示す如く、折り返し部においてピークを有し、
リザーバ1に近づく1ζつれて温度は低(なる。ここで
ガリウム等の液状金属の熱拡欽について考察すると、拡
散(移動)の状態は温度の高い部分では拡散し易く、逆
に温度の低い部分では拡赦しlこくくなり、更4C拡款
の方向は温度の高い部分から低い部分の方向となる。こ
の結果l5211Jの実施例においてリザーバ1の外側
表面ににじみ出たガリウムはフイラメン) 11 m、
11 bの折り返し部12m、12bが該リザーバ1よ
り高い温Rに維持されているため該フィラメント表面を
支持体V方向には拡散しない0従ってフィラメントには
液状金属の擁りは生ぜず、フィラメントの実効的な電気
抵抗が大きく低下することがないため、リザーバ1内の
ガリウム6を所値温rtに加熱でき、安定にリザーバ内
のガリウムを針状部材4の先端に移送することができる
◎又液状金属がフィラメント表面を拡散せず又、金属の
塊りも生じないため金属の無駄な消費が無(なり、長寿
命のイオン源が提供される〇[4図は本発明の他の実施
ガを示しており、一方の端部が針状にされた部材21の
中間部分はコイル状とされ、この部分が液状金属のリザ
ーバ部22となる0該針状部材21の他端はフィラメン
ト25にスポット溶接されており、該フィラメント26
には加熱電流が供給される◎該フィラメントの加熱に伴
い、針状部材21及び該コイル状のリザーバ部22に蓄
えられた液状金属は所望温度−こ加熱され、従って部#
21の針状先端部lζは安定に液状金属が供給される0
該フイラメント26は針状部材21との溶接部を中心と
した対照的な2ケ所においてコイル状の捻回し部24m
、24bを有している。該捻回し部24m、24bは、
第2図の実施例におけるフィラメントの折り起し部12
a。
央總例で第1図と同一部分は同一番号を付してその説明
を省略する◎ガリウム6が内部に入れられたリザーバ1
1(スポット溶接されたフィラメント11暑、11bの
一部はへ1−ピン形状#C折り返されている口鋏折り返
し部12鳳、12bK:おいてはフィラメント自体の通
電加熱の他に折り返し接近したフィラメント部分からの
極の輻射熱の影響擾ζより折り返し部以外のフィラメン
ト部−ζ比べて高い温度、Iζ加熱される@この結果リ
ザーバ1と支持体9との間のフィラメントの温度分布は
第31に示す如く、折り返し部においてピークを有し、
リザーバ1に近づく1ζつれて温度は低(なる。ここで
ガリウム等の液状金属の熱拡欽について考察すると、拡
散(移動)の状態は温度の高い部分では拡散し易く、逆
に温度の低い部分では拡赦しlこくくなり、更4C拡款
の方向は温度の高い部分から低い部分の方向となる。こ
の結果l5211Jの実施例においてリザーバ1の外側
表面ににじみ出たガリウムはフイラメン) 11 m、
11 bの折り返し部12m、12bが該リザーバ1よ
り高い温Rに維持されているため該フィラメント表面を
支持体V方向には拡散しない0従ってフィラメントには
液状金属の擁りは生ぜず、フィラメントの実効的な電気
抵抗が大きく低下することがないため、リザーバ1内の
ガリウム6を所値温rtに加熱でき、安定にリザーバ内
のガリウムを針状部材4の先端に移送することができる
◎又液状金属がフィラメント表面を拡散せず又、金属の
塊りも生じないため金属の無駄な消費が無(なり、長寿
命のイオン源が提供される〇[4図は本発明の他の実施
ガを示しており、一方の端部が針状にされた部材21の
中間部分はコイル状とされ、この部分が液状金属のリザ
ーバ部22となる0該針状部材21の他端はフィラメン
ト25にスポット溶接されており、該フィラメント26
には加熱電流が供給される◎該フィラメントの加熱に伴
い、針状部材21及び該コイル状のリザーバ部22に蓄
えられた液状金属は所望温度−こ加熱され、従って部#
21の針状先端部lζは安定に液状金属が供給される0
該フイラメント26は針状部材21との溶接部を中心と
した対照的な2ケ所においてコイル状の捻回し部24m
、24bを有している。該捻回し部24m、24bは、
第2図の実施例におけるフィラメントの折り起し部12
a。
12bと同様に輻射熱の影響によって高温度領域となり
、針状部#21からの液状金属の拡散を阻止する◎ 以上本発明を詳述したが、本発明に基づくイオン源はフ
ィラメント低温部への液状金属の拡散を防止することが
できるため、長寿命で安定なイオンビームを発生するこ
とができる0内本発明はと述した実施Hに限定されるこ
とな(幾多の変形が可能である。例えばイオン化する金
属としてガリウムを用いたが、セシウム等他の金属をイ
オン化金属とする場合にも本発明を適用し得る。又リヂ
ーパ部kcflL状金属を入れる型のイオン源のみなら
ず同えばセシウム化合物の如き粉末状の物質をリザーバ
部暑ζ入れ該物質を加熱することによって液状として針
状先端部#C供給するよう着こした臘のイオン源にも本
発明を適用し得るoj!にフィラメントの形状は、へ1
−ピン状あるいはコイル状4c@定されず、実質的に高
温11を領域が形成されれば、いかなる形状のものも使
用し得る0
、針状部#21からの液状金属の拡散を阻止する◎ 以上本発明を詳述したが、本発明に基づくイオン源はフ
ィラメント低温部への液状金属の拡散を防止することが
できるため、長寿命で安定なイオンビームを発生するこ
とができる0内本発明はと述した実施Hに限定されるこ
とな(幾多の変形が可能である。例えばイオン化する金
属としてガリウムを用いたが、セシウム等他の金属をイ
オン化金属とする場合にも本発明を適用し得る。又リヂ
ーパ部kcflL状金属を入れる型のイオン源のみなら
ず同えばセシウム化合物の如き粉末状の物質をリザーバ
部暑ζ入れ該物質を加熱することによって液状として針
状先端部#C供給するよう着こした臘のイオン源にも本
発明を適用し得るoj!にフィラメントの形状は、へ1
−ピン状あるいはコイル状4c@定されず、実質的に高
温11を領域が形成されれば、いかなる形状のものも使
用し得る0
第161は従来の金4イオン源を示す図、第2図は本発
明の一実施岡を示す図、tit s @はフィラメント
の温度分布を示す図、第4図は本発明の池の実fI例を
示す図である。 1:リザーバ、2:#l孔、6:ガリウム、4:針状部
材、5:陰極、6:フィラメント、7:JxJ熱蝋源、
8:高圧電源、9:支持体、1u:塊り、11s、ll
b :フイラメン)、12m、12b :折り返し部0 特許出願人 日本区子株式会社 代衆者加勢忠雄
明の一実施岡を示す図、tit s @はフィラメント
の温度分布を示す図、第4図は本発明の池の実fI例を
示す図である。 1:リザーバ、2:#l孔、6:ガリウム、4:針状部
材、5:陰極、6:フィラメント、7:JxJ熱蝋源、
8:高圧電源、9:支持体、1u:塊り、11s、ll
b :フイラメン)、12m、12b :折り返し部0 特許出願人 日本区子株式会社 代衆者加勢忠雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L イオン化すべ合金属を貯蔵するリザーバ部と、該リ
ザーバ部から液状4金属が供給される針状先端部を有し
た。針状部材と、該針状先端部に強鑞界を形成するため
の手段と、該リザーバ部あるいは鋏針状部材に熱的に接
続されイオン化される金属を加熱するためのフィラメン
トとを備え、該フィラメントはその一部に高温度領域が
生じるような形状にされている金属イオン源◎& 該リ
ザーバ部は底部iζ細孔を有した容器であり%該細孔を
貫通して鎖針状部材が配置されている特許請求の範8J
11項起載の金属イオン源■a 該針状部材の一部がイ
オン化すべ合金属を保持するリザーバ部となっている特
許請求の範囲J111[記載の金属イオン源◎ 4h 該フィラメントはその一部にへ1−ピン形状の
折り返し部を有している特許請求の範囲第1項、第2項
及びJ13項のいずれかtζ記載の金属イオン源O Amフィラメントはその一部に捻回し部を何している特
許請求の範S第1項、第2項及び第3項のいずれかに記
載の金属イオン源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13926281A JPS5842143A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 金属イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13926281A JPS5842143A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 金属イオン源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5842143A true JPS5842143A (ja) | 1983-03-11 |
Family
ID=15241186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13926281A Pending JPS5842143A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 金属イオン源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5842143A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62216130A (ja) * | 1987-03-13 | 1987-09-22 | Hitachi Ltd | 液体金属イオン源 |
-
1981
- 1981-09-04 JP JP13926281A patent/JPS5842143A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62216130A (ja) * | 1987-03-13 | 1987-09-22 | Hitachi Ltd | 液体金属イオン源 |
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