JPS5842143A - 金属イオン源 - Google Patents

金属イオン源

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Publication number
JPS5842143A
JPS5842143A JP13926281A JP13926281A JPS5842143A JP S5842143 A JPS5842143 A JP S5842143A JP 13926281 A JP13926281 A JP 13926281A JP 13926281 A JP13926281 A JP 13926281A JP S5842143 A JPS5842143 A JP S5842143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
reservoir
gallium
ion source
needle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13926281A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuzo Aihara
相原 龍三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP13926281A priority Critical patent/JPS5842143A/ja
Publication of JPS5842143A publication Critical patent/JPS5842143A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液体金属イオン源に関し、特に長寿命で安定な
イオンビームを発生することができるイオン源5ζ関す
る。
ガリウム等の金属イオンによるイオンビーム露光が、レ
ジスト内でのイオンの拡欽が電子ビームによる露光に比
較して小さいことから、サブミクロン以下の#(ターン
製作用の露光として注目されており、その為各方面にお
いて金属イオン源の研究が進められている0Jl1図は
液体金属イオン源の一同を示しており、1は底部に細孔
2が設けられたタンタル、タングステン等の金属で形成
されたリザーバであり、該リザーバ1内部には液体金属
、例えばガリウム3が入れられている。該リザーバ底部
の細孔2を貫通してタングステン製の針状部材4が配置
され該針状部材の一端は該リザーバ側面腎例えばスポッ
ト溶接によって固着されており1電解研磨により針状に
された他端は接地電位の陰極5に対向して配置される。
該リザーバ1にはタングステン製のフィラメント6がス
ポット溶接されており、鋏フィラメント6には電源7か
ら加熱電流が供給される・更に該リザーバ1.針状部材
4#cは電源8から正の高電圧が印加されているO と述したイオン源に゛おいて針状部材4の先端部6Cは
強電界が印加され、その結果リザーバ内部のガリウムは
該強電解によって底部の細孔2を通り、針状部材4先端
部にまで引出される◎該先端部のガリウムは強電界−ζ
よってテーラ−の円錐(TaylorCone )と称
される円錐突起を形成する。この円錐突起の先端部には
電界が集中し、先端部のガリウムは電界蒸発イオン化し
、ガリウムイオンとなって引出される◎このようなイオ
ン源は非常に輝度が高いがガリウムの温直がある温直に
保持されていないと安定なイオンビームの発生が困−と
なる〇すなわら、ガリウムの温度が低いと、針状部材4
の表面を先端部に向けて移送される通路の移送抵抗が轟
くなり、先端部より電界蒸発に供されるガリウムの流れ
が不安定、不連続となり、結果としてイオンビームの不
安定性を招(こと6ζなる◎このためフィラメント6に
電流を供給して加熱し、鎮フィラメント6からの伝導熱
によってリザーバ1、針状部材4.ガリウムを加熱し、
安定に連続してリザーバ内のガリウムが針状部材の先端
部に移送されるようにしている・ さて一般にガリウム等の液体金属は熱拡欽によって物質
表−を移動するが、この拡敵速度は温度によって変化し
、高温度では速く、温度が低(なるに従って遅くなり、
ある温度以下では拡敵が生じない◎このため、上述した
従来のイオン源においてはリザーバ1内のガリウムは熱
拡欽によってリザーバの外Ill画面にじみ出し、更に
はフィラメント6表面を移動する・該フィラメント5は
支持体9#c一端が固迫されているが、該支持体9に接
近したフィラメント部分は温度が低(なっており、この
部分でガリウムの拡敵速度は着しく低下し、そのため、
ガリウム金属が停留し、塊り10を形成する◎このフィ
ラメント#!函のガリウム特に塊り10はフィラメント
の実効的な電気抵抗を低下させ、結果としてリザーバ内
のガリウムの加熱温度が低(なり、安定にリザーバ内の
ガリウムが針状部材4先端に移送されなくなり1安定な
イオンビームが得られなくなる。更にフィラメント表面
を熱拡歇によって移動するガリウムは、リザーバ内のガ
リウムの消費を早め、イオン源の寿命を短くする〇 本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、イオン化
すべき金属を貯蔵するリザーバ部と、該リザーバ部から
液状金属が供給される針状先端部を有した針状部材と、
該針状先端部に強電界を形成するための手段と、該リザ
ーバ部あるいは該針状部材に熱的に接続されイオン化さ
れる金属を加熱するためのフィラメントとを備え、該フ
ィラメントはその一部に高温度領域が生じるような形状
となし、長寿命で安定なイオンビームを発生することが
できる金属イオン源を提供する。
以下本発明の実施岡を添付図面に基づき詳述rるO 第2図は本発明の一夾IIIA例を示しているが、この
央總例で第1図と同一部分は同一番号を付してその説明
を省略する◎ガリウム6が内部に入れられたリザーバ1
1(スポット溶接されたフィラメント11暑、11bの
一部はへ1−ピン形状#C折り返されている口鋏折り返
し部12鳳、12bK:おいてはフィラメント自体の通
電加熱の他に折り返し接近したフィラメント部分からの
極の輻射熱の影響擾ζより折り返し部以外のフィラメン
ト部−ζ比べて高い温度、Iζ加熱される@この結果リ
ザーバ1と支持体9との間のフィラメントの温度分布は
第31に示す如く、折り返し部においてピークを有し、
リザーバ1に近づく1ζつれて温度は低(なる。ここで
ガリウム等の液状金属の熱拡欽について考察すると、拡
散(移動)の状態は温度の高い部分では拡散し易く、逆
に温度の低い部分では拡赦しlこくくなり、更4C拡款
の方向は温度の高い部分から低い部分の方向となる。こ
の結果l5211Jの実施例においてリザーバ1の外側
表面ににじみ出たガリウムはフイラメン) 11 m、
11 bの折り返し部12m、12bが該リザーバ1よ
り高い温Rに維持されているため該フィラメント表面を
支持体V方向には拡散しない0従ってフィラメントには
液状金属の擁りは生ぜず、フィラメントの実効的な電気
抵抗が大きく低下することがないため、リザーバ1内の
ガリウム6を所値温rtに加熱でき、安定にリザーバ内
のガリウムを針状部材4の先端に移送することができる
◎又液状金属がフィラメント表面を拡散せず又、金属の
塊りも生じないため金属の無駄な消費が無(なり、長寿
命のイオン源が提供される〇[4図は本発明の他の実施
ガを示しており、一方の端部が針状にされた部材21の
中間部分はコイル状とされ、この部分が液状金属のリザ
ーバ部22となる0該針状部材21の他端はフィラメン
ト25にスポット溶接されており、該フィラメント26
には加熱電流が供給される◎該フィラメントの加熱に伴
い、針状部材21及び該コイル状のリザーバ部22に蓄
えられた液状金属は所望温度−こ加熱され、従って部#
21の針状先端部lζは安定に液状金属が供給される0
該フイラメント26は針状部材21との溶接部を中心と
した対照的な2ケ所においてコイル状の捻回し部24m
、24bを有している。該捻回し部24m、24bは、
第2図の実施例におけるフィラメントの折り起し部12
a。
12bと同様に輻射熱の影響によって高温度領域となり
、針状部#21からの液状金属の拡散を阻止する◎ 以上本発明を詳述したが、本発明に基づくイオン源はフ
ィラメント低温部への液状金属の拡散を防止することが
できるため、長寿命で安定なイオンビームを発生するこ
とができる0内本発明はと述した実施Hに限定されるこ
とな(幾多の変形が可能である。例えばイオン化する金
属としてガリウムを用いたが、セシウム等他の金属をイ
オン化金属とする場合にも本発明を適用し得る。又リヂ
ーパ部kcflL状金属を入れる型のイオン源のみなら
ず同えばセシウム化合物の如き粉末状の物質をリザーバ
部暑ζ入れ該物質を加熱することによって液状として針
状先端部#C供給するよう着こした臘のイオン源にも本
発明を適用し得るoj!にフィラメントの形状は、へ1
−ピン状あるいはコイル状4c@定されず、実質的に高
温11を領域が形成されれば、いかなる形状のものも使
用し得る0
【図面の簡単な説明】
第161は従来の金4イオン源を示す図、第2図は本発
明の一実施岡を示す図、tit s @はフィラメント
の温度分布を示す図、第4図は本発明の池の実fI例を
示す図である。 1:リザーバ、2:#l孔、6:ガリウム、4:針状部
材、5:陰極、6:フィラメント、7:JxJ熱蝋源、
8:高圧電源、9:支持体、1u:塊り、11s、ll
b :フイラメン)、12m、12b :折り返し部0 特許出願人 日本区子株式会社 代衆者加勢忠雄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L イオン化すべ合金属を貯蔵するリザーバ部と、該リ
    ザーバ部から液状4金属が供給される針状先端部を有し
    た。針状部材と、該針状先端部に強鑞界を形成するため
    の手段と、該リザーバ部あるいは鋏針状部材に熱的に接
    続されイオン化される金属を加熱するためのフィラメン
    トとを備え、該フィラメントはその一部に高温度領域が
    生じるような形状にされている金属イオン源◎& 該リ
    ザーバ部は底部iζ細孔を有した容器であり%該細孔を
    貫通して鎖針状部材が配置されている特許請求の範8J
    11項起載の金属イオン源■a 該針状部材の一部がイ
    オン化すべ合金属を保持するリザーバ部となっている特
    許請求の範囲J111[記載の金属イオン源◎ 4h  該フィラメントはその一部にへ1−ピン形状の
    折り返し部を有している特許請求の範囲第1項、第2項
    及びJ13項のいずれかtζ記載の金属イオン源O Amフィラメントはその一部に捻回し部を何している特
    許請求の範S第1項、第2項及び第3項のいずれかに記
    載の金属イオン源。
JP13926281A 1981-09-04 1981-09-04 金属イオン源 Pending JPS5842143A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216130A (ja) * 1987-03-13 1987-09-22 Hitachi Ltd 液体金属イオン源

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216130A (ja) * 1987-03-13 1987-09-22 Hitachi Ltd 液体金属イオン源

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