JPS5841896A - 保護されたヌクレオチドを脱シアノエチル化する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、規定された配列のオリゴヌクレオチドの合成
に有用である。炭素数が３から５までの第１アミンまた
はジエチルアミンで処理することによりヌクレオチドま
たはポリヌクレオチドのすン酸基部分から保護基である
β−シアノエチル基を選択的に除去する方法に関する。

組み替えＤＮＡ技術の出現に伴なってまた特にその商業
上の適応性が明らかである点を考えたとき、規定された
配列のオリゴチオキシリボヌクレオチドを合成する能力
はますます重要になってきている。

今や非常に良く知られているように、ＲＮＡおよびＤＮ
Ａは核酸と称されるポリヌクレオチドである。そしてそ
のポリヌクレオチドは単量体（ヌクレオチド）から成っ
ている。７つのヌクレオチドは窒素含有塩基のＮ−グリ
コシド体のリン酸エステルであり、プリンまたはピリミ
ジン塩基、ペントース（ＲＮＡにおいてはＤ−リボース
、またＤＮＡにおいては２′−デオキシ−Ｄ−リボース
）およびリン酸基から成る。

を種の窒素含有塩基がＤＮＡとＲＮＡのどちらにも存在
する。ＤＮＡに存在するｔ種とは・（以下余白） １′″ である。

ＲＮＡにおける窒素含有塩基はＤＮＡのそれとはチミン
がウラシル（Ｕ）に置き代わっている点が異なっている
。

１″′ 窒素含量塩基が上記の式中の星印（りの位置でリボース
の／′の位置と結合したものをリボヌクレオシド（Ｄ−
リボース）またはデオキシリボヌクレオシド（２′−デ
オキシ−Ｄ−リボース）と称する。リボースの３′の位
置にリン酸基が付加すると対応するりボヌクレオチドま
たはデオキシリボヌクレオチドが生成する。

かくの如く適切に規定されたように保護されたりボヌク
レオチドまたはデオキシリボヌクレオチは し斉々ＤＮＡまたはＲＮＡを合成する際の基礎となる小
単位を表わす。ＲＮＡまたは１）ＮＡを合成するための
標準的な非常に有用な方法は文献公知の１トリエステル
法」である。ポリデオキシリボヌクレオチドの合成を例
にとると、その方法とは３′−リン酸ジエステルを有す
るモノヌクレオチドまたはオリゴヌクレオチドと、利用
できるｊ−水酸基を有する。モノヌクレオシド、３′−
水酸基の保護されたオリゴヌクレオチド、モノヌクレオ
チドまたはオリゴヌクレオチドをカップリングさせるこ
とである。この反応の概要は以下の様に表わすことがで
きる。

（Ｉ）　　　　　　　　　（ＩＩ） 截 （■） ［式中・Ｂはアテニン、シトシン、グアニンおよびチミ
ン（このうち最初の３つは各々その反応部位が適当な保
護基で保護されている）がら選ばれた窒素含有塩基を示
す。Ｒはｊ′−水酸基の保護基ヲ示ス。Ｉｌｉアルカリ
性の条件下で切り離せる３′−水酸基の保護基または式 で表わされる基を示す。Ｒ′およびＲ（よ反応性のリン
酸基部分を保護する選択的に除去できる基を示す。］ トリエステル法は種々の文献で更に論じられてイル。例
えハ、「遺伝子フラグメントの合成ニ関する改良された
フォスフオトリエステル法」　［Ｎａｒａｎｇ　＋　Ｓ
、人＋　Ｈｓｉｕｎｇ　、　Ｈ，Ｍ、　、ａｎｄ　Ｂｒ
ｏｕｓｓｅａｕ　、　Ｒ。

；　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｉｎ　Ｅｎｚｙｍｏ　ｌｏｇｙ　
、　Ｖｏｌ　乙１　＋　Ａｃａｄｅ＋ｎ　ｉｃ　Ｐｒｅ
ｓｓ　。

Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ＋　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ　＋　（／９７
９　）　＋　ｐＰ、９０〜９むおよび「修飾されたトリ
エステル法によるデオキシオリゴヌクレオチドの化学的
合成Ｊ　　［Ｎａｒａｎｇ。

Ｓ、Ａ、　　、Ｂｒｏｕｓｓｅａｕ、　　Ｒ，、Ｈｓｉ
ｕｎｇ＋　　Ｈ，Ｍ、　　、ａｎｄ　　Ｍｉｃｈｎｉｅ
ｗｉｃｚ。

Ｊ、　Ｊ、　；　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｉｎ　Ｅｎｚｙｍｏ
ｌｏｇｙ、　Ｖｏｌ　、　６３　＋　Ａｃａｄｅｍｉｃ
Ｐｒｅｓｓ、　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ
、　（／９ざ。）、ＰＰ、ｇ＃７〜．ｇ　２０３　など
がある。

上述のトリエステル法は勿論２つのオリゴヌクレオチド
を、オリゴヌクレオチドとモノヌクレオチドを・または
特に上に例示したように２つのモノヌクレオチドをカッ
プリングするのに適用される。本反応は、実際の形態に
かがゎりなく、利用できるｓ′−水酸基の３′−リン酸
ジエステル基とのカップリングを包含する。また・利用
できる５′−水酸基を含む反応物質は保護されたリン酸
末端を溶媒（ピリジンが典型的）の存在下で、またカッ
プリング試薬（例えば−ｉ！、１Ａｊ−）リンチルベン
ゼンスルホニルテトラゾリド）の存在下でカップリング
する。

特定のヌクレオチド反応物質の構造がどのようであろう
とも、利用できる３′−水酸基を有する反応物質は３′
−リン酸基末端がある場合はそれが充分に保護されてい
る必要がある。前式中のＲ２基は３′−リン酸基末端を
完全に保護する基を表わす。

もしも生成物であるポリヌクレオチドを３′−リン酸基
部位で更にカップリングさせようとするならば、Ｒ基は
分子中の他の保護基を損うことな・く除去し得るもので
あることが重要である。

通常好んで使われるＲ２基は穏やかなアルカリ性条件下
で選択的に除去できる基、β−シアノエチル基である。

β−シアンエチル基をヌクレオチドまたはオリゴヌクレ
オチドから選択的に除去するには無水のトリエチルアミ
ン−ピリジンを用いる方法が非常に好適である。この方
法はヌクレイツク・アシッズ・リサーチ（ＮＩ＋ｃｌｅ
ｉｃ　Ａｃ１ｄＳＲｃｓｅａｒｃｌ＋　）の３巻［Ａｄ
ａｒｎｉａｋ、　Ｒ，Ｗ、　、　Ｂａｒｃｉｓｚｅｙｓ
ｋａ、　Ｍ、　Ｚ、　＊ＢｉａＪａ、　Ｅ、　、　Ｇｒ
ｚｅｓｋｏｗｉａｋ、　Ｋ、　、　Ｋｉｅｒｚｅｋ、　
Ｒ，、Ｋｒａｓｚｅｖ−ｓｋｉ、　Ａ、　＋　Ｍａｒｋ
ｉｅｗｉｃｚ　、　Ｗ、　Ｔ、　、　ａｎｄＷｉｅｗｉ
ｏｒｏｗｓｋｉ。

Ｍ、　、　３３９７〜３１１０！（／９７ｇ）］および
７１巻５ｏｏｄ。

Ａ、　Ｋ、　、　ａｒｄ　Ｎａｒａｎｇ　、　Ｓ、Ａ、
　、　２７！；７〜２７１ｓ！；　（／ヲ７７）］に報
告されている。この方法は保護基β−シアノエチル基を
選択的に除去することに成功したが完了するのにｌｌ〜
６時間もかがり時間の浪費を避けられないｒ　５ｏｏｄ
　ｅｔ　３４．　、５ｕｐｒａ、　ｐ、　２７！；１ｇ
照］。

今回、ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドを炭素数が
３から５までの第１アミンまたはジエチルアミンで処理
することから成るヌクレオチドまたはポリヌクレオチド
のリン酸基部分から保護基であるβ−シアノエチル基を
選択的に除去する方法を茜見した。

前述したように５本発明はヌクレオチドまたはポリヌク
レオチドのリン酸基部分からの保護基β−シアノエチル
基の選択的除去を容易にする方法に関する。

ポリヌクレオチドを合成する際には、リン酸基以外の反
応部位を適宜保護することも必要である。

かくして、ある特定の窒素含有塩基の反応性アミノ基を
保護することが必要である。典型的にはアデニンおよび
シトシンはベンゾイル化してその遊離型のアミノ基を保
護し、グアニンは通常はイソ基を有しないので保護する
必要はない。勿論、恢した基は適当な保護基の例を挙げ
たに過ぎず、広範囲に亘る他の保護基も用いることがで
きる。

前式中、Ｒ基はｊ′−水酸基部分の保護基を表わす。こ
の基は穏やかな酸性の条件下で不安定である方が好まし
い。この基の例としては、テトラヒドロピレニル、グー
メトキシトリチル、久り′−ジメトキシトリチル（ＤＭ
Ｔｒ）などが挙げられる。

ｌＡ＋’−ジメトキシトリチルは穏やかな酸１例えば２
チベンゼンスルホン酸中で容易に除去されるのでＳ′−
水酸基部分の好適な保護基となる。

「トリエステル法」はカップリングしてできる生成物が
リン酸トリエステルであるところからこの名がある。そ
してこの方法においては９部分的に保護された３′−リ
ン酸基を有するヌクレオチド反応物質を使う必要がある
。ここで用いられるＲ′基は適切な部分的保護を完全に
行なうような基でなければならない。このような基とし
ては、アルカリ性の条件下で除去できるものが好適であ
る。

適切す例トリて、フェニル、０−クロロフェニル。

２ダージクロロフェニル、　ｐ−１０ロフエニル。

−ジニトロフェニル、ｐ−メルカプトフェニルなどが挙
げられる。Ｒ′としてはＰ−クロロフェニルが好適であ
る。

充分に保護されたヌクレオチドまたはトリエステル法で
製造されるポリヌクレオチドの３′−リン酸基含有末端
は１式 り離せる基を表わしており５本発明方法においてはβ−
シアノエチル基である。Ｒ′がｐ−クロロフェニルでＲ
２がβ−シアノエチルである保護されたリン酸は簡便に
ｏｐｃ　ｇと表わされる。

ＲＪが前述したようにアルカリ性条件下で切り離せる３
′−水酸基保護基である場合のように生成物であるポリ
ヌクレオチドの３′−末端がリン酸基を有しない場合も
可能である。このような基とじてはアセチル、ベンゾイ
ル、ｐ−メトキシベンゾイルおよびクロロアセチルが適
当である。好ましくは保護基としてベンゾイル（Ｂｚ）
がよい。

ヌクレオチドのカップリングはカップリング試薬の存在
下で行なう。適当なカップリング試薬は当業者にはよく
知られている。適当なカップリンク試薬の例としては、
ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリド、ベンゼン
スルホニルトリアゾリド、ベンゼンスルホニルダ一二ト
ロイミダゾリド、、２，１Ａ６−）リイソプロピルベン
ゼンスルホニル３−ニトロ−に２４を一トリアゾリド、
２ｔ、乙−トリメチルベンゼンスルホニル３−ニトロ−
にツリートリアゾリド、／−（ｐ−）ルエンスルホニル
）ダーニトロイミダゾリド、２久乙−トリメチルベンゼ
ンスルホニルテトラゾリド、２１Ａｇ−トリイソプロビ
ルベンゼンスルホニルクロリト、２ＩＡ４−）リンチル
ベンゼンスルホニルクロリド。

２ｑ、乙−トリイソプロピＪレベンセ゛ンスルホニルテ
トラゾリドなどが挙げられる。好ましくは力′ツブリン
グ試薬として、２．ｌＡ６．−）リイソブロビｌレベン
ゼンスルホニルテトラゾリドまたは２．　’Ｉ、乙−ト
リメチルベンゼンスルホニルテトラゾリドがよい。

力・Ｊプリング反応は適当な不活性有機溶媒の存在下に
実質上無水の条件下で行なう。一般に好んで用いられる
溶媒はピリジンである。

（以下余白） ヌクレオチドカップリング法で造られる生成物は下式で
表わされるポリヌクレオチドを包含する。

ぎ ０＝Ｐ−ＯＲ’ ムＲ′ ［式中、Ｂ、Ｒ，Ｒ’およびＰは前記と同意義である。

ｎはＯまたは２θまでの整数を示す］上記の化合物は９
式 と同様に９本発明の保護基の選択的除去過程を適用でき
る種類の構造を表わす。

モノまたはポリヌクレオチドのβ−シアノ−エチル基（
Ｒ２）による保護を本発明方法に従って除去するには、
モノまたはポリヌクレオチドを炭素数が３から５の第１
アミンまたはジエチルアミンと反応させる。この第１ア
ミンの例として、ｎ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミ
ン、　１１６０−ブチルアミンおよびｔ−ブチルアミン
が挙げられる。障害されたアミンが非常に適しており特
にｔ−ブチルアミンがよい。

絶対的条件ではないが、保護基除去反応は一般に不活性
有機溶媒の存在下で行なうのが好ましい。

通常好んで用いられる溶媒はピリジンである。

簡便にするために脱シアノエチル化反応は通常は室温で
行なう。しかし、広範囲の温度、一般にはｌ′Ｃから３
θ°Ｃで行なうことができる。

本発明方法で使用される第１アミンまたはジエチルアミ
ンの量は１モル塩基当りの切り離されるべきβ−シアノ
エチル基の鍬に直接依存しテイル。

しかし、過剰のアミンは損傷されることなく使用される
ので、１モル塩基当り大過剰量の１例えば／θないし２
０倍量が通常使用される。

反応の進行は種々の分析技術１例えば薄層クロマトグラ
フィー（ｔｌｃ　）　、高速液体クロマドグうフィー（
ｈｐｌｃ）などを用いて追跡できる。

／４Ｅ成物であるリン酸ジエステルのアミン塩は。

溶媒、過剰量のアミンおよび創作物のアクリロニトリル
を蒸発させることによって容易に単離できる。必要なら
ば生成物を例えば適当な単一溶媒または混合溶媒で再結
晶することによって更に精製することができる。回収し
た生成物は更に精製するかあるいは精製せずに、利用で
きるｊ′−水酸基を有するヌクレオチドまたはポリヌク
レオチドと更にカップリングさせることができる。

下記の実施例により本発明の方法を更に例示する。これ
らの実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではない
。

実施例／ ＤＭＴ　ｒ　０＝ＴＧ−ＯＰＣＥの合成３−０−ジメト
キシトリチルチミジン−３′−〇−ｐ〜クロロフェニル
ーβ−シアノエチルリン酸（ｉｊｆ　、　／９ｍｍｏｌ
）を無水ピリジンＣ２Ｃ２０ｔ＞に溶解した。ｔ−ブチ
ルアミン（約３　ｗｌ　）を得られた溶液に攪拌下に滴
加した。約ｌθ分間反応させると、脱シアノエチル化は
完了していた［シリカゲルの薄層クロマトグラフィー（
溶媒：ｌθ％Ｍｅ　ＯＨ／ｃＨｕｅりで確認。］ 反応液をピリジン、ｔ−ブチルアミンおよびアクリロニ
トリルを除去するために蒸発乾固した。

乾燥した反応液をＣＨ，ＣＩ、　（２θｙｘｌ　）に再
び溶解し、Ｎ−イソブチリルデオキシグアノジン−３′
−〇−ｐ−クロロフェニルーβ−シアノエチルリン酸（
θ９３９　、　／６ｍｍｏｌ）を加えた。上記２種類の
保護されたモノヌクレオチドを超真空で乾燥して無水ピ
リジン（１０ｇ／）に再溶解した。縮合試薬、２．久１
．−トリメチルベンゼンスルホニルテトラゾリド（ｌθ
／　ｌ／　、　１７　ｍｍｏｌ）を加え、室温で／時間
反応させ、カップリング反応の完了をｊ′−水酸基を有
する反応物質の消失とジヌクレオチドのトリチル基の集
中的陽性スポットの出現（ｔｌｃ：／θ％ＭｅＯＨ／Ｃ
ＨユＣｌユ）により確認した。

そこで反応液をピペットで吸い上げ、エーテルとへキサ
ンの量比／：／の混合液（ｌｊθｙｘｌ　）中に移すと
、ジヌクレオチド生成物を含有する白色の沈澱を生成し
たのでこれを遠心分離で採取した。

上清を薄層クロマトグラフィー（ｌθ％ＭｅＯＨ／ＣＨ
，ＣＩ、　）にかけるとジヌクレオチド生成物は含まれ
ていないことが示された。

実施例２ ＤＭＴｒＯ−ＧＧＴＡ−ＯＰＣＥの合成りＭＴｒＯ−Ｇ
Ｇ−ＯＰＣＥ　（，１００ｗ４）に無水ピリジン（約’
Ａｗｌ）およびｔ−ブチルアミン（約ｘｗｔｉを加える
と、脱シアノエチル化は７０分間で完了した（　ｔｌｃ
により確認）。次いで混合液を真空で蒸発乾固した。脱
シアノエチル化された二量体をＨＯ−ＴＡ−ＯＰＣＥ　
（１２／　Ｘ　／θ−“モル）と結合させたのち３０分
間真空で乾燥した。ＪＩＡＡ−１−ＩＪメ）と無水ピリ
ジン（約４Ｚｇ／）を加えてカップリングを開始させた
。カップリングは１時間後に完了した。その混合液をエ
チルエーテルをそれぞれ１０ｗ１づつ含む２つの遠沈管
中に攪拌しながら流し込み、四量体を沈澱させた。遠沈
管をｊ分間遠心分離し、エーテルをデカントで除去し、
生成物をジクロロメタンに溶解して溶液を蒸発乾固した
。

シリカプレート上で、アセトン（２３％）、酢酸エチル
（７５％）、水（５％）中にて精製すると。

標記化合物（／２／η）が回収された。収率：１１３．
２％。

実施例３ ＤＭＴ　ｒ　０−ＣＧＧＡＣＡＧＡＧＡＣＡ−（）Ｂ　
ｚの合成りＭＴｒＯ−ＣＧＧＡ−ＯＰＣＥ　（！；　６
”ｆ　）にピリジン（２ｔｅｌ　）およびｔ−ブチルア
ミン（／＋／）を加えた。

７０分後に反応液を真空乾燥した。残渣にＨＯ−ＣＡＧ
ＡＧＡＣＡ−ＯＢ　ｚ　（３２ｑ）を加え、混合物を３
０分間真空乾燥したのち、そこへ２＋、ｇ−トリメチル
ベンゼンスルホニルテトラゾリド（９θ■）および無水
ピリジノＣＯ３；ｙｓ／）を加えた。カップリング反応
は７時間後に完了した。反応液をエチルエーテル（ｇＯ
ｇ／）を含む遠沈管中に攪拌しながら流し込んだ。を分
間遠心分離したのち、エーテノ＜をデカントで除去し、
生成物をジクロロメタンに溶解して溶液を蒸発乾固した
。得られた物質の３／ｌ、をシリカプレート上で、アセ
トンＣ２３％）、酢酸エチルＣ７０％−）、水（５％）
中にて精製すると、標記化合物（弘θ■）を得た。全生
成物の精製に基づいた収率：　３；７３％。

実施例ｑ ＤＭＴｒＯ−Ｃ−ＯＰＣＥの脱シアノエチル化ｊ−０−
ジメトキシトリチル−Ｎ−ベンゾイルデオキシシチジン
−３’　−０−ｐ−クロロフェニル−β−シアノエチル
リン酸（／７θダ、　Ｑ　２ｍｍｏｌ）を無水ピリジン
Ｃ０２ｚｔ）に溶解した。５ｅｅ−ブチルアミン（約１
ｇ／）をその溶液に滴加すると脱シアノエチル化は２０
分間で完了した（シリカゲルクロマトグラフィーで確認
）。副産物であるアクリロニトリルと共に過剰の５ｅｅ
−ブチルアミンおよびピリジンを真空で除去し、脱シア
ンエチル化された生成物を定量的に単離した。

実施例ｊ ＤＭＴ　ｒ　０−Ｔ−ＯＰＣＥの脱シアノエチル化１−
０−ジメトキシトリチルチミジン−３’−０−ｐ−クロ
ロフェニル−β−シアノエチルリン酸（／　！；０１ｌ
ｆ　、θ／９ｍｍｏｌ）を無水ピリジン（２ｍｌ）に溶
解した。ｎ−プロピルアミン（約／ｍ／）を溶液に加え
た。脱シアノエチル化はｔｌｃ（シリカゲルＧＦ；／θ
％ＣＨヨＯＨ：ＣＨ，Ｃｌ２）によって追跡すると、約
２分後に完了した。反応をヘキサンとエーテルの２：／
混合液中で沈澱させて即座に止めた。得られた混合液を
遠心分離し、上清をデカントチ除去シた。ＤＭＴｒＯ−
ＴＡ−ＯＰＣＥを製造するために、これまでの実施例に
従って、脱シアノエチル化された生成物をＮ−ベノゾイ
ルデオキシアデノシノー３−ｐ−１０口フェニル−β−
にアノエチルリン酸と縮合させた。

実施例６ ５−０−ジメトキソトリチルチ２ジン−３−０−ｐ−ク
ロロフェニル−β−シアノエチルリン酸（３θｆ　、　
ｌ　ｆｍｍｏ　＋　）を無水ピリジン（２０ｚｌ　）に
溶解した。ジエチルアミン（約６ｍｌ　）を上記の溶液
に攪拌下に滴加した。約３θ分間反応させ。

脱シアノエチル化の完了をシリカゲル薄層り１ｍ！　？
トゲラフイー（溶媒：／θ％Ｍｅ　ＯＨ／　ＣＨＪＣＩ
　Ｊ　）により確認した。

反応液を蒸発乾固してピリジン、ジエチルアミンおよび
アクリロニトリルを除去した。乾燥しまた反応液をＣＨ
，ＣｌユＣ２０ｍ１＞中に再溶解してＮ−ベンゾイルデ
オキシアデノシン−３−ｏ−ｐ−クロロフェニル−β−
シアノエチルリン酸（，２＋θｆ。

３、　、ｌ　ｍｍｏ　＋　）を加えた。上記２種類の保
護されたモノヌクレオチドを超真空で乾燥して無水ピリ
ジン（２０Ｉ＋／）に再溶解した。縮合試薬、ニス乙−
トリメチルベンゼンスルホニルテトラゾリド（３０ｇ　
、　７２ｍｍｏｌ）を加えて室温で７時間反応させカッ
プリング反応の完了を５′−水酸基を有する反応物質の
消火とジヌクレオチドのトリチル基の集中）により確認
した。

反応液をピペットで吸い上げエーテルとへキサンの量比
／：／の混合液（／！；０＊ｌ）中に移し゛た。

充分に保護されたＴＡ二量体を収率約７／％で含有する
白色の沈澱を遠心分離で採取した。上清を薄層クロマト
グラフィー（／θ％Ｍｅ　ＯＨ／ＣＨａＣＩ　Ｊ　）　
　　　　−にかけるとジヌクレオチド生成物は含まれて
いないことが示された。

実施例７ ＤＭＴ　ｒｏ−ＧＴＴＣ−（）ＰＣＥの合成りＭＴｒＯ
−ＧＴ−ＯＰＣＥ　（３θθり）に無水ピリジン（約２
禦ｌ）を加えて、純粋なジエチルアミン（約２ｍ１）を
加えると、３θ分間のうちに脱シアノエチル化が完了し
た（　ｔｌｃで確認）。混合液を真空で蒸発乾固した。

脱シアノエチル化された二量体を実施例乙の方法を用い
てＨＯ−ＴＣ−ＯＰＣＥ　（２００Ｍｙ）と反応させる
と標記化合物（２乙θ岬）を得た。収率ニア９％。

実施例１ ＤＭＴ　ｒｏ−ＧＴＴＣＴＡＣＴ−ＯＢ　ｇの合成、Ｄ
ＭＴｒＯ−ＧＴＴＣ−ＯＰＣＥ　（２乙０−’１１１−
’ｆ　ニピリシン（２ｍｌ＞を加えて、純粋なジエチル
アミン（約／ｘｌ）を加えると、３０分間のうちに脱シ
アノエチル化が完了した（ｔｌｃで確認）。反応液を真
空で、乾燥し、脱シアノエチル化された四量体を実施例
乙の方法を用いてＨＯ−ＴＡＣＴ−ＯＢ　ｚ　（／　４
ｔＯ”ｆ　）と反応させると標記化合物（２３０１１１
）を得た。収率ニアｆ％。

特許出願人　　　　イーライ・リリー・アンド・カン）
々ニー代　理　人　　弁理士　岩崎　光薩ほかン名し−
　ヨ

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドを炭素
   数が３からｊまでの第１アミンまたはジエチルアミンで
   処理してシアンエチル基を除去することを特徴とする。 ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドのリン酸基部分か
   ら保護基であるβ−シアンエチル基を選択的に除去する
   方法。
2. （２）　　β−シアノエチル基の除去をｌ′Ｃから３θ
   °Ｃまでの温度で行なうことを特徴とする特許請求の範
   囲（１）記載の方法。
3. （３）　　β−シアノエチル基の除去を室温で行なうこ
   とを特徴とする特許請求の範囲（１）または（２）記載
   の方法。
4. （４）　　β−シアノエチル基の除去を不活性有機溶媒
   の存在下で行なうことを特徴とする特許請求の範囲（１
   ）記載の方法。
5. （５）　　β−シアノエチル基の除去をピリジンの存在
   下で行なうことを特徴とする特許請求の範囲（１）記載
   の方法。
6. （６）当該ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドをも一
   ブチルアミンで処理することを特徴とする特許請求の範
   囲（１）記載の方法。
7. （７）　　当該ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドを
   ５ｅｅ−ブチルアミンで処理することを特徴とする特許
   請求の範囲（１）記載の方法。
8. （８）　　当該ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドを
   ｎ−プロピルアミンで処理することを特徴とする特許請
   求の範囲（１）記載の方法・
9. （９）当該ヌクレオチドまたはポリヌクレオチドをジエ
   チルアミンで処理することを特徴とする特許請求の範囲
   （１）記載の方法。