JPH0372235B2 - - Google Patents
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- JPH0372235B2 JPH0372235B2 JP22839583A JP22839583A JPH0372235B2 JP H0372235 B2 JPH0372235 B2 JP H0372235B2 JP 22839583 A JP22839583 A JP 22839583A JP 22839583 A JP22839583 A JP 22839583A JP H0372235 B2 JPH0372235 B2 JP H0372235B2
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- Saccharide Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヌクレオシドの新規なホスホリル化剤
に関するものであり、さらに詳しくは、一般式
〔〕で示される化合物及びその用途に関するも
のである。 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） ヌクレオシドのホスホリル化剤は遺伝子工学上重
要な出発原料の一つであり現在までに種々のホス
ホリル化剤が開発されて来たが、満足されるもの
は未だ得られていない。ヌクレオシドのホスホリ
ル化剤としては例えば４−クロロフエニルホスホ
ロジトリアゾール〔R.W.Adamiak et al.
Nucleic Acid Ress.3，3397（1976）〕、ホスホロ
モノテトラゾール〔H.Takaku etal.Chem Lett
192（1982）〕などが公知であるが、これらのホス
ホリル化剤はグアノシンやウリジンの塩基部への
ホスホリル化が副反応として起こる。さらに縮合
剤を用いたホスホリル化反応では、縮合剤として
のアリールスルホニルがグアノシンやウリジンの
塩基部又は水酸基に導入される副反応が起こる
〔P.R.Bridson et al.J.C.S Chem.Comm.447，
791（1977）〕。この様に現在用いられている方法で
は何らかの副反応が起こつているので得られる目
的生成物の純度が悪く収率も低い欠点がある。そ
こで我々はヌクレオシドのホスホリル化の際に副
反応の起こらないホスホリル化剤を開発するため
に、鋭意研究を重ねた結果、ある種の新規なジア
ルキルホスフアイトがこの目的に適合することを
見い出した。このホスホリル化剤はトリアゾー
ル、テトラゾールおよび縮合剤などの活性基を用
いることがないので、副反応の生起を心配する必
要がなく、しかも高収率でヌクレオシドのホスホ
リル化を達成することの出来る新規化合物であ
る。本発明のホスホリル化剤は一般式 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 で表わされるジアルキルホスフアイト誘導体であ
る。この一般式におけるｎは１〜３の整数であ
り、好ましくはｎ＝１である。 本発明の化合物はいずれも文献未載の新規化合
物であり次式に従つて製造される： (CH3)3COH＋PCL3→ HOPCL2 〔〕 CF3(CH2)oOH〔〕 〔CF3(CH2)oO〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） すなわち溶媒中でｔ−ブタノールと三塩化リン
を反応させ、得られた化合物〔〕と任意のアル
コールを反応させると高収率で本発明の化合物
〔〕が得られる。この様にして得られたジアル
キルホスフアイトを用いてヌクレオシドへのホス
ホリル基の導入を試みると、下記の反応に従い好
ましい結果が得られる： 式中、Ａは保護基、例えばモノメトキシトリチ
ル基、ジメトキシトリチル基を示し、Ｂは塩基で
あり、例えばベンゾイルグアニン、アシルグアニ
ン、イソブチルグアニン、ベンゾイルアデニン、
アシルアデニン、アニソイルシトシン、ベンゾイ
ルシトシン、チミン、ウラシルなどである。すな
わち5′−水酸基を保護したヌクレオシド〔〕と
化合物〔〕を溶媒例えばピリジン中で反応させ
ると、目的とするヌクレオシド3′−ホスフアイト
〔〕が得られる。これに酸化剤を加え処理する
と、対応するヌクレオシド3′−ホスフエート
〔〕が高収率で得られる。この様にして得られ
るヌクレオシド3′−ホスフエートを用いてオリゴ
マーの合成を行うとジヌクレオシドが高収率で得
られる。 以上述べた様に、従来の方法と異なり活性基を
用いずにホスホリル化のできる本発明による新規
なホスホリル化試薬は従来技術において他にその
例を見ないものであり、副反応も起こらずヌクレ
オシドを選択的にホスホリル化でき、かつ高収率
で目的物の得られることは、核酸の化学、農薬の
分野に重要な技術的進歩を与えるものである。 次に本発明による新規化合物の代表的な合成法
および使用法を実施例により詳述する。 実施例 １ ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）ホス
フアイトの合成 ｔ−ブタノール（10.6ml、0.125M）をCH2Cl2
に溶解し、これに０℃にてCH2Cl2（25ml）に溶解
したPCl3（10.9ml、0.125M）を滴下する。滴下終
了後30分間反応させたのち、２，２，２−トリフ
ルオロエタノール（2.5ｇ、0.25M）をCH2Cl2（25
ml）に溶解したものを徐々に加える。反応系へ窒
素ガスを吹込みながら約16時間室温で撹拌したの
ち減圧蒸留すると、目的とするビス（２，２，２
−トリフルオロエチル）ホスフアイト（b.p.66〜
69℃／８mmHg）が2.8ｇ得られる。 元素分析結果；C4H5F6O3P 実測値 計算値 Ｃ ；19.46％、19.52％ Ｈ ； 1.97％、 2.05％ IR；νcm-1、2485（Ｐ−Ｈ）、1250（Ｐ＝Ｏ）、
1150（CF3）、1080（CF3）、960（Ｐ−Ｈ）。 実施例 ２ 5′−ｏ−モノメトキシトリメチルチミジン3′−
（トリフルオロエチル）ホスフエートの合成 5′−ｏ−モノメトキシトリ チルチミジン
（MMTrT）（0.515ｇ、1.0mM）をピリジン（７
ml）に溶解し、ビス（２，２，２−トリフルオロ
エチル）ホスフアイト（0.46ml、3mM）を加え、
窒素ガス雰囲気化、50℃にて３時間反応させたの
ち、反応液を室温に冷却し、さらに０℃まで冷却
し、ｍ−クロロ過安息香酸（1.04ｇ、6mM）を
加えて10分間処理すると生成物は酸化されホスフ
エートとなる。反応液を氷水（５ml）に加え塩化
メチレン（10ml）で抽出したのち、有機層を５％
NaHCO3（５ml×３）、さらに（５ml×２）で洗
浄する。塩化メチレンを減圧除去し、さらに少量
のトルエンを加えピリジン臭がなくなるまで減圧
をくり返す。残渣を少量の塩化メチレンに溶解
し、激しく撹拌しているヘキサン−エーテル
（10：１）中へ加えると白色の沈殿が生じ、これ
を過すると、5′−ｏ−モノメトキシトリチルチ
ミジン3′−（トリフルオロエチル）ホスフエート
（m.p.＝148−150℃）が0.69ｇ得られる得られた
生成物の物性値は次の通りである。 Rf＝0.01（CH2Cl2：CH3OH＝９：１）； Rf＝0.97（CH3）2CO：H2O＝73：３）； UV； λMeOH nax＝265、230nm； λMeOH nio＝247、226nm。 実施例 ３ ジヌクレオシドの合成 5′−ｏ−モノメトキシトリメチルチミジン3′−
（トリフルオロエチル）ホスフエート（0.6ｇ、
0.8mM）と3′−ｏ−ベンゾイルチミジン（0.17
ｇ、0.53mM）をピリジン（2.7ml）に溶解し、８
−キノリンスルホニル−３−ニトロ−１，２，４
−トリアゾール（0.83ｇ、2nM）を加え室温で２
時間反応させた後、通常の操作方法により処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフに充填し、
溶離液としてCH2Cl2−MeOH（98：２）を用いて
溶離すると目的とする化合物が溶出される。溶出
液を濃縮し、残渣をCH2Cl2に溶解し、激しく撹
拌しているヘキサン−エーテル（10：１）中へ滴
下すると白色の沈殿が生じる。この沈殿を取す
ると対応するジヌクレオシド〔MMTrTp−
（OCH2CF3）TOBz〕が0.49ｇ得られる。この生
成物の物性は次の通りである。 Rf＝0.48（CH2Cl2：MeOH＝９：１）； UV； λMeOH nax＝262、225nm； λMeOH nio＝246nm。 これらの生成物の化学構造は保護基を完全に脱保
護したのち、酵素分解し、その化学構造を確認し
た。なお上記実施例２に準じる具体例を表１に要
約して示す： 【表】
に関するものであり、さらに詳しくは、一般式
〔〕で示される化合物及びその用途に関するも
のである。 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） ヌクレオシドのホスホリル化剤は遺伝子工学上重
要な出発原料の一つであり現在までに種々のホス
ホリル化剤が開発されて来たが、満足されるもの
は未だ得られていない。ヌクレオシドのホスホリ
ル化剤としては例えば４−クロロフエニルホスホ
ロジトリアゾール〔R.W.Adamiak et al.
Nucleic Acid Ress.3，3397（1976）〕、ホスホロ
モノテトラゾール〔H.Takaku etal.Chem Lett
192（1982）〕などが公知であるが、これらのホス
ホリル化剤はグアノシンやウリジンの塩基部への
ホスホリル化が副反応として起こる。さらに縮合
剤を用いたホスホリル化反応では、縮合剤として
のアリールスルホニルがグアノシンやウリジンの
塩基部又は水酸基に導入される副反応が起こる
〔P.R.Bridson et al.J.C.S Chem.Comm.447，
791（1977）〕。この様に現在用いられている方法で
は何らかの副反応が起こつているので得られる目
的生成物の純度が悪く収率も低い欠点がある。そ
こで我々はヌクレオシドのホスホリル化の際に副
反応の起こらないホスホリル化剤を開発するため
に、鋭意研究を重ねた結果、ある種の新規なジア
ルキルホスフアイトがこの目的に適合することを
見い出した。このホスホリル化剤はトリアゾー
ル、テトラゾールおよび縮合剤などの活性基を用
いることがないので、副反応の生起を心配する必
要がなく、しかも高収率でヌクレオシドのホスホ
リル化を達成することの出来る新規化合物であ
る。本発明のホスホリル化剤は一般式 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 で表わされるジアルキルホスフアイト誘導体であ
る。この一般式におけるｎは１〜３の整数であ
り、好ましくはｎ＝１である。 本発明の化合物はいずれも文献未載の新規化合
物であり次式に従つて製造される： (CH3)3COH＋PCL3→ HOPCL2 〔〕 CF3(CH2)oOH〔〕 〔CF3(CH2)oO〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） すなわち溶媒中でｔ−ブタノールと三塩化リン
を反応させ、得られた化合物〔〕と任意のアル
コールを反応させると高収率で本発明の化合物
〔〕が得られる。この様にして得られたジアル
キルホスフアイトを用いてヌクレオシドへのホス
ホリル基の導入を試みると、下記の反応に従い好
ましい結果が得られる： 式中、Ａは保護基、例えばモノメトキシトリチ
ル基、ジメトキシトリチル基を示し、Ｂは塩基で
あり、例えばベンゾイルグアニン、アシルグアニ
ン、イソブチルグアニン、ベンゾイルアデニン、
アシルアデニン、アニソイルシトシン、ベンゾイ
ルシトシン、チミン、ウラシルなどである。すな
わち5′−水酸基を保護したヌクレオシド〔〕と
化合物〔〕を溶媒例えばピリジン中で反応させ
ると、目的とするヌクレオシド3′−ホスフアイト
〔〕が得られる。これに酸化剤を加え処理する
と、対応するヌクレオシド3′−ホスフエート
〔〕が高収率で得られる。この様にして得られ
るヌクレオシド3′−ホスフエートを用いてオリゴ
マーの合成を行うとジヌクレオシドが高収率で得
られる。 以上述べた様に、従来の方法と異なり活性基を
用いずにホスホリル化のできる本発明による新規
なホスホリル化試薬は従来技術において他にその
例を見ないものであり、副反応も起こらずヌクレ
オシドを選択的にホスホリル化でき、かつ高収率
で目的物の得られることは、核酸の化学、農薬の
分野に重要な技術的進歩を与えるものである。 次に本発明による新規化合物の代表的な合成法
および使用法を実施例により詳述する。 実施例 １ ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）ホス
フアイトの合成 ｔ−ブタノール（10.6ml、0.125M）をCH2Cl2
に溶解し、これに０℃にてCH2Cl2（25ml）に溶解
したPCl3（10.9ml、0.125M）を滴下する。滴下終
了後30分間反応させたのち、２，２，２−トリフ
ルオロエタノール（2.5ｇ、0.25M）をCH2Cl2（25
ml）に溶解したものを徐々に加える。反応系へ窒
素ガスを吹込みながら約16時間室温で撹拌したの
ち減圧蒸留すると、目的とするビス（２，２，２
−トリフルオロエチル）ホスフアイト（b.p.66〜
69℃／８mmHg）が2.8ｇ得られる。 元素分析結果；C4H5F6O3P 実測値 計算値 Ｃ ；19.46％、19.52％ Ｈ ； 1.97％、 2.05％ IR；νcm-1、2485（Ｐ−Ｈ）、1250（Ｐ＝Ｏ）、
1150（CF3）、1080（CF3）、960（Ｐ−Ｈ）。 実施例 ２ 5′−ｏ−モノメトキシトリメチルチミジン3′−
（トリフルオロエチル）ホスフエートの合成 5′−ｏ−モノメトキシトリ チルチミジン
（MMTrT）（0.515ｇ、1.0mM）をピリジン（７
ml）に溶解し、ビス（２，２，２−トリフルオロ
エチル）ホスフアイト（0.46ml、3mM）を加え、
窒素ガス雰囲気化、50℃にて３時間反応させたの
ち、反応液を室温に冷却し、さらに０℃まで冷却
し、ｍ−クロロ過安息香酸（1.04ｇ、6mM）を
加えて10分間処理すると生成物は酸化されホスフ
エートとなる。反応液を氷水（５ml）に加え塩化
メチレン（10ml）で抽出したのち、有機層を５％
NaHCO3（５ml×３）、さらに（５ml×２）で洗
浄する。塩化メチレンを減圧除去し、さらに少量
のトルエンを加えピリジン臭がなくなるまで減圧
をくり返す。残渣を少量の塩化メチレンに溶解
し、激しく撹拌しているヘキサン−エーテル
（10：１）中へ加えると白色の沈殿が生じ、これ
を過すると、5′−ｏ−モノメトキシトリチルチ
ミジン3′−（トリフルオロエチル）ホスフエート
（m.p.＝148−150℃）が0.69ｇ得られる得られた
生成物の物性値は次の通りである。 Rf＝0.01（CH2Cl2：CH3OH＝９：１）； Rf＝0.97（CH3）2CO：H2O＝73：３）； UV； λMeOH nax＝265、230nm； λMeOH nio＝247、226nm。 実施例 ３ ジヌクレオシドの合成 5′−ｏ−モノメトキシトリメチルチミジン3′−
（トリフルオロエチル）ホスフエート（0.6ｇ、
0.8mM）と3′−ｏ−ベンゾイルチミジン（0.17
ｇ、0.53mM）をピリジン（2.7ml）に溶解し、８
−キノリンスルホニル−３−ニトロ−１，２，４
−トリアゾール（0.83ｇ、2nM）を加え室温で２
時間反応させた後、通常の操作方法により処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフに充填し、
溶離液としてCH2Cl2−MeOH（98：２）を用いて
溶離すると目的とする化合物が溶出される。溶出
液を濃縮し、残渣をCH2Cl2に溶解し、激しく撹
拌しているヘキサン−エーテル（10：１）中へ滴
下すると白色の沈殿が生じる。この沈殿を取す
ると対応するジヌクレオシド〔MMTrTp−
（OCH2CF3）TOBz〕が0.49ｇ得られる。この生
成物の物性は次の通りである。 Rf＝0.48（CH2Cl2：MeOH＝９：１）； UV； λMeOH nax＝262、225nm； λMeOH nio＝246nm。 これらの生成物の化学構造は保護基を完全に脱保
護したのち、酵素分解し、その化学構造を確認し
た。なお上記実施例２に準じる具体例を表１に要
約して示す： 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） で表わされるジアルキルホスフアイト誘導体。 ２ 一般式〔〕 〔CF3（CH2）oＯ〕2POH 〔〕 （式中、ｎは１〜３の整数である） で表わされるジアルキルホスフアイト誘導体から
なるヌクレオシドのホスホリル化剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22839583A JPS60120890A (ja) | 1983-12-05 | 1983-12-05 | 新規ホスホリル化剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22839583A JPS60120890A (ja) | 1983-12-05 | 1983-12-05 | 新規ホスホリル化剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60120890A JPS60120890A (ja) | 1985-06-28 |
| JPH0372235B2 true JPH0372235B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=16875793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22839583A Granted JPS60120890A (ja) | 1983-12-05 | 1983-12-05 | 新規ホスホリル化剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60120890A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0291088A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-03-30 | Central Glass Co Ltd | ホスファイトおよびヌクレオシド‐３’‐ホスファイト誘導体およびこれを用いるオリゴヌクレオチドの合成法 |
| JPH0594874U (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-24 | 桜井株式会社 | 控え付きラベル |
-
1983
- 1983-12-05 JP JP22839583A patent/JPS60120890A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60120890A (ja) | 1985-06-28 |
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