JPS5839735A - ステアリングラツクの高周波通電誘導焼入れ方法 - Google Patents
ステアリングラツクの高周波通電誘導焼入れ方法Info
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- JPS5839735A JPS5839735A JP13752881A JP13752881A JPS5839735A JP S5839735 A JPS5839735 A JP S5839735A JP 13752881 A JP13752881 A JP 13752881A JP 13752881 A JP13752881 A JP 13752881A JP S5839735 A JPS5839735 A JP S5839735A
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- Japan
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- rack
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- hardened
- frequency current
- induction
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/32—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for gear wheels, worm wheels, or the like
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
仁の発明は高周波焼入れ方法に係り、更に詳しくはステ
アリングラックの歯面及び歯底の被焼入れ部分をその両
端で当接している誘導コイルの接触子間に設置し高周波
電流の通電及び該コイルの誘導作用により加熱し冷却液
の供給により焼入れを行うと共に、該ラックの非焼入れ
部分である背面部分にも冷却液を供給し冷却を行うステ
アリングラックの高周波通電誘導焼入れ方法に関する。
アリングラックの歯面及び歯底の被焼入れ部分をその両
端で当接している誘導コイルの接触子間に設置し高周波
電流の通電及び該コイルの誘導作用により加熱し冷却液
の供給により焼入れを行うと共に、該ラックの非焼入れ
部分である背面部分にも冷却液を供給し冷却を行うステ
アリングラックの高周波通電誘導焼入れ方法に関する。
従来ステアリングラックの高周波焼入れはその歯面のみ
を一歯づつ焼入れを行い、歯底は未硬化のままであった
。このため従来の高周波焼入れは焼入れ作業によるステ
アリングラックの歪の発生は最小に抑えることが出来、
もし万−歪が規定値以上に大きくなっても歯底が未硬化
のままであるので外力による歪矯正により割れるという
欠点がなかった反面、ステアリングラック自体の機械的
強度の向上は望めないという欠点を有していた。
を一歯づつ焼入れを行い、歯底は未硬化のままであった
。このため従来の高周波焼入れは焼入れ作業によるステ
アリングラックの歪の発生は最小に抑えることが出来、
もし万−歪が規定値以上に大きくなっても歯底が未硬化
のままであるので外力による歪矯正により割れるという
欠点がなかった反面、ステアリングラック自体の機械的
強度の向上は望めないという欠点を有していた。
そこで機械的強度を向上させるため歯底まで焼入れする
と被焼入れ部分であるラック部分が軸の片側の面にだけ
存在するため焼入れ後、ラック部分とその反対側の背面
部分との寸法差により曲りを生ずるという問題が発生し
た。
と被焼入れ部分であるラック部分が軸の片側の面にだけ
存在するため焼入れ後、ラック部分とその反対側の背面
部分との寸法差により曲りを生ずるという問題が発生し
た。
仁の発明は上記の問題点を解決するステアリングラック
の高周波通電誘導焼入れ方法であって、高周波電流の通
電と誘導コイルの電磁−害作用により上記ラックの歯面
及び欅底を急速加熱し、ξの焼入れ部分を冷却する装置
に加えて非焼入れ部分である背Iii部分をも冷却すゐ
装置を設は被焼入れ部分である歯面及び歯底の冷却と非
焼入れ部分である背面部分の冷却をそれぞれ適当に調整
することにより歯面及び歯底の焼入れを行いステアリン
グラックの強度を増大させ、且つその後の工程である焼
もどしの終了時点において曲り歪を熱処理のみで規定値
内に最小限に抑え得るステアリングラックの高周波通電
誘導焼入れ方法を提供することを目的とする。
の高周波通電誘導焼入れ方法であって、高周波電流の通
電と誘導コイルの電磁−害作用により上記ラックの歯面
及び欅底を急速加熱し、ξの焼入れ部分を冷却する装置
に加えて非焼入れ部分である背Iii部分をも冷却すゐ
装置を設は被焼入れ部分である歯面及び歯底の冷却と非
焼入れ部分である背面部分の冷却をそれぞれ適当に調整
することにより歯面及び歯底の焼入れを行いステアリン
グラックの強度を増大させ、且つその後の工程である焼
もどしの終了時点において曲り歪を熱処理のみで規定値
内に最小限に抑え得るステアリングラックの高周波通電
誘導焼入れ方法を提供することを目的とする。
以下この発明に係る実施例を図mlに基づき詳述する。
第1図はこの発明に係る実施例の一部切欠き断面正面図
であり、第2図は同左側面図である。
であり、第2図は同左側面図である。
図において11は通電誘導型の高周波焼入れ装置の誘導
コイルである。該誘導コイル11の両端には一対の接触
子12.18が配設されており、これら接触子12.1
8にステアリングラックAの被焼入れ部分である歯面及
び歯底を含むラック部分1人の両端部を当接させて一つ
のループを形成する。これらループを形成する誘導コイ
ル11及びラック部分IAに高周波電流を通電すること
により核通電高周波電流と上記誘導コイル11の電磁誘
導作用により発生する誘導高周波電流とを累加して該ラ
ック部分IAを急速に加熱する。本実施例に於て誘導コ
イル11は加熱されたラック部分1人に冷却液を供給す
る主冷却ジャケット21と一体薔ζ形成されており、又
そのそれぞれの接触子12.18と接続しマイカ又はテ
フロン(四弗化エチレン)等の絶隷体14により完全に
絶縁された導電体12a、18aを介して高周波51J
Ji機81により発振された高周波電流の供給を受ける
。
コイルである。該誘導コイル11の両端には一対の接触
子12.18が配設されており、これら接触子12.1
8にステアリングラックAの被焼入れ部分である歯面及
び歯底を含むラック部分1人の両端部を当接させて一つ
のループを形成する。これらループを形成する誘導コイ
ル11及びラック部分IAに高周波電流を通電すること
により核通電高周波電流と上記誘導コイル11の電磁誘
導作用により発生する誘導高周波電流とを累加して該ラ
ック部分IAを急速に加熱する。本実施例に於て誘導コ
イル11は加熱されたラック部分1人に冷却液を供給す
る主冷却ジャケット21と一体薔ζ形成されており、又
そのそれぞれの接触子12.18と接続しマイカ又はテ
フロン(四弗化エチレン)等の絶隷体14により完全に
絶縁された導電体12a、18aを介して高周波51J
Ji機81により発振された高周波電流の供給を受ける
。
接触子12.18は通電する高周波電流の大きさに対応
して適切な接触面積でもって、ステアリングラックAの
被焼入れ部分であるラック部分1人の両端部に上部より
の空気圧式又は油圧式クランプ41.42の押圧力を受
けて強く当接されている。上記誘導コイルttsζ供給
される高周波電流はラック部分lムのうち誘導コイル1
1に最も近い歯面並びに歯底に集中するとともに更にラ
ック部分lムと誘導コイル11によって形成されるルー
プを流れる仁と番ζよって発生する電磁場魯ζよって腋
うフク部分IAに於て誘導電流が累加される。
して適切な接触面積でもって、ステアリングラックAの
被焼入れ部分であるラック部分1人の両端部に上部より
の空気圧式又は油圧式クランプ41.42の押圧力を受
けて強く当接されている。上記誘導コイルttsζ供給
される高周波電流はラック部分lムのうち誘導コイル1
1に最も近い歯面並びに歯底に集中するとともに更にラ
ック部分lムと誘導コイル11によって形成されるルー
プを流れる仁と番ζよって発生する電磁場魯ζよって腋
うフク部分IAに於て誘導電流が累加される。
このように通電高周波電流と誘導高周波電流との重畳に
よりラック部分1ムは急速に加熱される。
よりラック部分1ムは急速に加熱される。
通常!6φ×約6001の高炭素鋼のステアリングラッ
クにおいては800 KHzで120KW入力相当の高
周波電流を4秒間程通電し加熱する。図示の例において
は上記導電体l5Ia、18aと高周波発振機81との
連結部であるリード口8!は誘導コイル11の側部に位
置しているが、本発明は側部、中央部等特定の位置に限
定されるものではない。
クにおいては800 KHzで120KW入力相当の高
周波電流を4秒間程通電し加熱する。図示の例において
は上記導電体l5Ia、18aと高周波発振機81との
連結部であるリード口8!は誘導コイル11の側部に位
置しているが、本発明は側部、中央部等特定の位置に限
定されるものではない。
次いで仁の急速加熱されたラック部分lムは誘導コイル
11に一体に組込まれた主冷却ジャケット21より冷却
液の供給を受は急速に冷却される。
11に一体に組込まれた主冷却ジャケット21より冷却
液の供給を受は急速に冷却される。
それと共にステアリングラック人の非焼入れ部分である
背面部分2人も背面冷却ジャケット22゜28より冷却
液の供給を受は冷却される。被焼入れ部分であるラック
部分1人は誘導コイル11と至近距離に設置されている
ため主冷却ジャケット21は誘導コイル11と一体に組
み込まれた省スペース構造となっている。又円形輪郭を
成す非焼入れ部分である背面部分2人にも冷却液を供給
し均一に冷却を行うため該背面にその冷却液噴射面を対
向させた一対の背面冷却ジャケット22.28を用いる
。これら主冷却ジャケット21と背面冷却ジャケット2
2.28は夫々側の冷却液供給管21 a e 22a
* 28 aよりプラスチッククエンチ液等の冷却液
の供給を受け、それを夫々の噴射孔a、bより急速加熱
されたラック部分IAと比較的低温度の背面部分2人に
噴射供給し夫々焼入れ、冷却を行う。通常上記条件で加
熱された場合、ラック部分に主冷却ジャケット21より
80〜90ル谷の流量で又背面部分に背面冷却ジャケッ
ト22゜28より合せて120〜1501.%の流量で
約10秒間程冷却液を噴射し冷却を行う。一般にステア
リングラックムの片面に刻設された被焼入れ部分である
ラック部分1人を加熱後急速冷却すると、加熱時ラック
部分1人が凸状になるように熱膨張変形していたものが
、もとに戻ろうとする力が働くと共に該ラック部分IA
がMB点(マルテンサイト変態点)以下で若干伸びる力
が作用し、この両者の力の差と形状とにより焼入れ後の
ステアリングラックムはこのラック部分1人において凸
凹の伺れの形状にもなり得る。焼入れ深さが浅いときは
凹形状に変形し、焼入れ深さが深くなるに従って凹形状
から凸形状に変形する。本発明に於てはラック部分1人
の反対側である背面部分2人の冷却を行うとこのラック
部分1人の上記急冷によるMB点以下での伸び即ち歯面
及び歯底硬化による伸びに基づく塑性変形に対する背面
部の抵抗力が増大し、背面部分2人を冷却しない場合よ
りも急冷後の変形量が小さくなる。このように被焼入れ
部分であるラック部分1人の冷却と非焼入れ部分である
背面部分2人の冷却の夫々の冷却に用意されている主冷
却ジャケット21及び背面冷却ジャケット22.28へ
冷却液の供給量を適当に調節すれば曲りの変形量を最小
に抑えることが出光、次工程の焼もどし後の曲り歪を外
力による歪修正を必要とせずに規定値内に最小限に抑え
ることが可能となる。
背面部分2人も背面冷却ジャケット22゜28より冷却
液の供給を受は冷却される。被焼入れ部分であるラック
部分1人は誘導コイル11と至近距離に設置されている
ため主冷却ジャケット21は誘導コイル11と一体に組
み込まれた省スペース構造となっている。又円形輪郭を
成す非焼入れ部分である背面部分2人にも冷却液を供給
し均一に冷却を行うため該背面にその冷却液噴射面を対
向させた一対の背面冷却ジャケット22.28を用いる
。これら主冷却ジャケット21と背面冷却ジャケット2
2.28は夫々側の冷却液供給管21 a e 22a
* 28 aよりプラスチッククエンチ液等の冷却液
の供給を受け、それを夫々の噴射孔a、bより急速加熱
されたラック部分IAと比較的低温度の背面部分2人に
噴射供給し夫々焼入れ、冷却を行う。通常上記条件で加
熱された場合、ラック部分に主冷却ジャケット21より
80〜90ル谷の流量で又背面部分に背面冷却ジャケッ
ト22゜28より合せて120〜1501.%の流量で
約10秒間程冷却液を噴射し冷却を行う。一般にステア
リングラックムの片面に刻設された被焼入れ部分である
ラック部分1人を加熱後急速冷却すると、加熱時ラック
部分1人が凸状になるように熱膨張変形していたものが
、もとに戻ろうとする力が働くと共に該ラック部分IA
がMB点(マルテンサイト変態点)以下で若干伸びる力
が作用し、この両者の力の差と形状とにより焼入れ後の
ステアリングラックムはこのラック部分1人において凸
凹の伺れの形状にもなり得る。焼入れ深さが浅いときは
凹形状に変形し、焼入れ深さが深くなるに従って凹形状
から凸形状に変形する。本発明に於てはラック部分1人
の反対側である背面部分2人の冷却を行うとこのラック
部分1人の上記急冷によるMB点以下での伸び即ち歯面
及び歯底硬化による伸びに基づく塑性変形に対する背面
部の抵抗力が増大し、背面部分2人を冷却しない場合よ
りも急冷後の変形量が小さくなる。このように被焼入れ
部分であるラック部分1人の冷却と非焼入れ部分である
背面部分2人の冷却の夫々の冷却に用意されている主冷
却ジャケット21及び背面冷却ジャケット22.28へ
冷却液の供給量を適当に調節すれば曲りの変形量を最小
に抑えることが出光、次工程の焼もどし後の曲り歪を外
力による歪修正を必要とせずに規定値内に最小限に抑え
ることが可能となる。
ステアリングラック;材質 8450相当品寸法 26
φ顛X600fl長 モジュール2,18 ピッチ 6.86歯高 8.0
ネジ方向右又は左 クランプ加圧力+ 80〜50 kqw を高周波発電
機;出力 100謀 周波数 800に庫 冷却 液 ;出光製プラスチッククエンチ液6〜7
%、80〜85℃ 流量主冷却ジャケット〜 80〜90匂 背面冷却ジャケット〜 120〜15011/@ 供給時間 10秒 焼もどし条件蟇誘導加熱方式 %式% ’I’、1.R・・・最大歪j1(ダイヤルゲージによ
る歪測定に於て最大振れの読取り値) 以上述べた如く、この発FIAlと係るステアリングラ
ックの高周波通電誘導焼入れ方法及びその装置書こよる
と歯面及び歯底を含むラック部分を一挙に焼入れが可能
になりステアリングラックの強度を増大させ得ると共に
、最終変形it (T、1.R)が熱処理のみで規定値
内に収めることができる。
φ顛X600fl長 モジュール2,18 ピッチ 6.86歯高 8.0
ネジ方向右又は左 クランプ加圧力+ 80〜50 kqw を高周波発電
機;出力 100謀 周波数 800に庫 冷却 液 ;出光製プラスチッククエンチ液6〜7
%、80〜85℃ 流量主冷却ジャケット〜 80〜90匂 背面冷却ジャケット〜 120〜15011/@ 供給時間 10秒 焼もどし条件蟇誘導加熱方式 %式% ’I’、1.R・・・最大歪j1(ダイヤルゲージによ
る歪測定に於て最大振れの読取り値) 以上述べた如く、この発FIAlと係るステアリングラ
ックの高周波通電誘導焼入れ方法及びその装置書こよる
と歯面及び歯底を含むラック部分を一挙に焼入れが可能
になりステアリングラックの強度を増大させ得ると共に
、最終変形it (T、1.R)が熱処理のみで規定値
内に収めることができる。
第1図はこの発明に係る実施例の一部切欠き断面正面図
であり、第2図は同左側面図である。 (符号の説明) 11・・・誘導コイル、12.18・・・接触子、21
・・・主冷却ジャケット、22.28・・・背面冷却ジ
ャケット、A・・・ステアリングラック、IA・・・ラ
ック部分、2人・・・背面部分。 一部 上−
であり、第2図は同左側面図である。 (符号の説明) 11・・・誘導コイル、12.18・・・接触子、21
・・・主冷却ジャケット、22.28・・・背面冷却ジ
ャケット、A・・・ステアリングラック、IA・・・ラ
ック部分、2人・・・背面部分。 一部 上−
Claims (1)
- ステアリングラック(2)の被焼入れ部分である歯面及
び歯底を含むラック部分(IA)の両端に誘導コイル(
ロ)の両端に配設されている接触子(ロ)(2)を当接
させ、高周波電流を上記誘導コイル(ロ)及びラック部
分(LA)に通電し、該通電高周波電流と上記誘導コイ
ル(ロ)の電磁誘導作用により発生する誘導高周波電流
との累加によって該ラック部分住υを急速加熱し、加熱
後諌ラック部分(IA)を焼入れするための主冷却ジャ
ケット(2)より仁のラック部分(IA)に冷却液を供
給し急速冷却すると共にステアリングラック(2)の非
焼入れ部分である背面部分αム)にも背面冷却ジャケッ
ト@(2)より冷却液を供給し冷却するステアリングラ
ックの高周波通電誘導焼入れ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13752881A JPS5839735A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | ステアリングラツクの高周波通電誘導焼入れ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13752881A JPS5839735A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | ステアリングラツクの高周波通電誘導焼入れ方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5839735A true JPS5839735A (ja) | 1983-03-08 |
Family
ID=15200778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13752881A Pending JPS5839735A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | ステアリングラツクの高周波通電誘導焼入れ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5839735A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1789597A1 (en) * | 2004-08-18 | 2007-05-30 | Bishop Innovation Pty. Limited | Method of manufacturing a hardened forged steel component |
JP2010275607A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Jtekt Corp | ラックシャフトの製造方法 |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP13752881A patent/JPS5839735A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1789597A1 (en) * | 2004-08-18 | 2007-05-30 | Bishop Innovation Pty. Limited | Method of manufacturing a hardened forged steel component |
EP1789597A4 (en) * | 2004-08-18 | 2009-10-28 | Bishop Innovation Pty Ltd | METHOD FOR MANUFACTURING FORGED STEEL-TREATED COMPONENT |
JP2010275607A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Jtekt Corp | ラックシャフトの製造方法 |
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