JPS5839397B2 - 炭酸ガスレ−ザ装置 - Google Patents
炭酸ガスレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS5839397B2 JPS5839397B2 JP15352478A JP15352478A JPS5839397B2 JP S5839397 B2 JPS5839397 B2 JP S5839397B2 JP 15352478 A JP15352478 A JP 15352478A JP 15352478 A JP15352478 A JP 15352478A JP S5839397 B2 JPS5839397 B2 JP S5839397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- carbon dioxide
- laser device
- airtight container
- moisture absorbent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は炭酸ガヌレーザ装置に係り、特にガス交換な
しの封じ切りで連続発振またはパルス発振をおこなわせ
しめる炭酸ガヌレーザ装置に関する。
しの封じ切りで連続発振またはパルス発振をおこなわせ
しめる炭酸ガヌレーザ装置に関する。
第１図は、炭酸ガヌレーザ装置の代表例としてとりあげ
た横方向励起高速循環型炭酸ガヌレーザ装置の概略の断
面図である。
た横方向励起高速循環型炭酸ガヌレーザ装置の概略の断
面図である。
図において、１は平板状の陽極、２は紙面に垂直な方向
に配列された複数個の棒状陰極、３は放電部、４は金網
、５は熱交換器、６は軸流送風機、７は熱交換器５と軸
流送風機６を結ぶ流路で、熱交換器５を有効に働かせる
ための空間であり、８は気密容器である。
に配列された複数個の棒状陰極、３は放電部、４は金網
、５は熱交換器、６は軸流送風機、７は熱交換器５と軸
流送風機６を結ぶ流路で、熱交換器５を有効に働かせる
ための空間であり、８は気密容器である。
軸流送風機６はレーザ媒質ガスを高速で循環させる。
軸流送風機６から吹き出されたレーザ媒質は、気密容器
８の端壁面に当って反転し、内壁面に沿って流れたのち
再び他方の端壁面で反転し、金網４を通過して放電部３
へ流入する。
８の端壁面に当って反転し、内壁面に沿って流れたのち
再び他方の端壁面で反転し、金網４を通過して放電部３
へ流入する。
金網４から放電部３へかけて流路は縮少され再び熱交換
５へ向って拡大されているが、この理由は放電部３での
流速を高くし、他での流速を低くするためで、金網４や
熱交換器５での圧損を少くするためである。
５へ向って拡大されているが、この理由は放電部３での
流速を高くし、他での流速を低くするためで、金網４や
熱交換器５での圧損を少くするためである。
金網４は光軸方向の流速分布を一様にして放電を安定に
保ち、粗ゴ□を除いてレーザ媒質を清浄にする。
保ち、粗ゴ□を除いてレーザ媒質を清浄にする。
レーザ媒質には、例えば１００〜７６０トールのＣＯ２
、Ｎ２ ｓ Ｈｅ、 ＣＯ等の混合気体を気密容器８内
に封入し循環させながら、陽極１と陰極２列との間にグ
ロー放電を発生させ、この放電部３のほぼ中央で紙面に
垂直な方向に光軸をもつレーザビームが取り出される。
、Ｎ２ ｓ Ｈｅ、 ＣＯ等の混合気体を気密容器８内
に封入し循環させながら、陽極１と陰極２列との間にグ
ロー放電を発生させ、この放電部３のほぼ中央で紙面に
垂直な方向に光軸をもつレーザビームが取り出される。
ところが、とのレーザ装置は前述の如くレーザ媒質ガス
を封じ切りで動作させているので、ガヌ封じ切り後の経
過時間が長くなるにつれて、第２図に示すようにレーザ
出力が徐々に減少するという欠点があった。
を封じ切りで動作させているので、ガヌ封じ切り後の経
過時間が長くなるにつれて、第２図に示すようにレーザ
出力が徐々に減少するという欠点があった。
第２図はレーザ出力の経時変化を示す図で、レーザ媒質
ガス圧力は２００トール、放電部カフＫＷ１１ｊ ヌ流
速３０ ｍ／ ｓ 、ｌｉ、；＜混合比ｃｏ ： ｃｏ
２： 縞：Ｈ８＝０．５：１：３：１６、有効放電長８
０ｃｍの条件のもとで、当初ＩＫＷあったレーザ出力が
約１５０時間後に０．２７ＫＷ程度（初期値の約３０％
）に減少している様子が分る。
ガス圧力は２００トール、放電部カフＫＷ１１ｊ ヌ流
速３０ ｍ／ ｓ 、ｌｉ、；＜混合比ｃｏ ： ｃｏ
２： 縞：Ｈ８＝０．５：１：３：１６、有効放電長８
０ｃｍの条件のもとで、当初ＩＫＷあったレーザ出力が
約１５０時間後に０．２７ＫＷ程度（初期値の約３０％
）に減少している様子が分る。
とのレーザ出力経時減少は発明者等の研究結果によれば
、時間の経過とともに増加するレーザ媒質中の水蒸気に
起因するものと考えられる。
、時間の経過とともに増加するレーザ媒質中の水蒸気に
起因するものと考えられる。
この水蒸気についての従来の一般的な認識は、例えば同
軸型ガラヌ管製炭酸ガスレーザ装置の場合、Ｗ。
軸型ガラヌ管製炭酸ガスレーザ装置の場合、Ｗ。
Ｊ 、 ＷｉｔｔｅｍａｎがＡｐｐｌ−Ｐｈｙｓ−Ｌ
ｅｔｔｅｒｓ ｔ Ｖｏｌｌ １Ｎｏ、１１ （１９６
７）Ｐ−３３７において、少量の水分の存在はレーザ出
力を上昇させると報告していることでも分るとおり、少
量の水分の存在がレーザ作用に悪影響を及ぼすとは考え
られていなかった。
ｅｔｔｅｒｓ ｔ Ｖｏｌｌ １Ｎｏ、１１ （１９６
７）Ｐ−３３７において、少量の水分の存在はレーザ出
力を上昇させると報告していることでも分るとおり、少
量の水分の存在がレーザ作用に悪影響を及ぼすとは考え
られていなかった。
しかしすでに述べたように、発明者等が用いている横方
向励起高速循環型炭酸ガヌレーザ装置においては、少量
の水分の存在はレーザ作用に役立つどころか悪影響を及
ぼし、レーザ出力の経時減少をひき釦こす。
向励起高速循環型炭酸ガヌレーザ装置においては、少量
の水分の存在はレーザ作用に役立つどころか悪影響を及
ぼし、レーザ出力の経時減少をひき釦こす。
しかして、これらの水分はレーザ装置を大気に晒した場
合、必然的に大気中の湿気が装置内壁などに付着するこ
とから生じるもので装置の保全上避けることはできない
。
合、必然的に大気中の湿気が装置内壁などに付着するこ
とから生じるもので装置の保全上避けることはできない
。
そこでレーザ装置にレーザ媒質を充填するとき装置内の
真空度を高くし、装置内に付着し残留する水分を少なく
することを行っているが、このようにしてもレーザ装置
の壁面やレーザ装置内構成物から時間の経過とともに滲
み出る水蒸気を完全に除去することはできなかった。
真空度を高くし、装置内に付着し残留する水分を少なく
することを行っているが、このようにしてもレーザ装置
の壁面やレーザ装置内構成物から時間の経過とともに滲
み出る水蒸気を完全に除去することはできなかった。
この発明はこのように知見に基づいてなされるもので、
気密容器内に吸湿剤を配設し、循環するレーザ媒質内の
水蒸気を吸着させるようにしたものである。
気密容器内に吸湿剤を配設し、循環するレーザ媒質内の
水蒸気を吸着させるようにしたものである。
第３図は、この発明の一実施例の断面図で、９はプラヌ
チツク製の受は皿上に、置かれた吸湿剤である。
チツク製の受は皿上に、置かれた吸湿剤である。
この吸湿剤９には、減圧下において、放電およびレーザ
出力に悪影響を与えるようなアウトガスを出さないこと
、レーザ媒質ガスを選択的に吸着しないこと、高い吸湿
性を有することが要求される。
出力に悪影響を与えるようなアウトガスを出さないこと
、レーザ媒質ガスを選択的に吸着しないこと、高い吸湿
性を有することが要求される。
これらの点を考慮した場合、「モレキュラーシーヴ」又
は「ゼオラム」の商品名で市販されているゼオライトが
好適であり、特に「モレキュラーシーヴ３ＡＪが最適で
あった。
は「ゼオラム」の商品名で市販されているゼオライトが
好適であり、特に「モレキュラーシーヴ３ＡＪが最適で
あった。
吸湿剤としてはシリカゲルや活性アルミナなどの物理的
乾燥剤や五酸化リンなどの化学的乾燥剤があるが、これ
らの乾燥剤では水分とともに炭酸ガヌの一部も吸着し、
炭酸ガスの量が減少することにより、レーザ出力の損失
になる場合があるので、値段の安いシリカゲルを除いて
は、ゼオライトに匹敵できない。
乾燥剤や五酸化リンなどの化学的乾燥剤があるが、これ
らの乾燥剤では水分とともに炭酸ガヌの一部も吸着し、
炭酸ガスの量が減少することにより、レーザ出力の損失
になる場合があるので、値段の安いシリカゲルを除いて
は、ゼオライトに匹敵できない。
又、すでに述べたように、乾燥剤によっては、レーザ作
用に悪影響を与えるものも存在するので、適切に選ぶ必
要がある。
用に悪影響を与えるものも存在するので、適切に選ぶ必
要がある。
吸湿剤９を設置する場所は、放電部３やレーザ光軸線上
以外のところであって、レーザ媒質の気流にさらされる
ところであればどこでもよく、たとえば取り出しや設置
の便利なように気密容器８下壁面や扉（図示せず）の近
くが良いであろう。
以外のところであって、レーザ媒質の気流にさらされる
ところであればどこでもよく、たとえば取り出しや設置
の便利なように気密容器８下壁面や扉（図示せず）の近
くが良いであろう。
また、吸湿剤を収めたカートリッヂを器壁に設けた孔か
ら着脱交換し得るように構成してもよい。
ら着脱交換し得るように構成してもよい。
なお、モレキュラーシーヴ３Ａは米粒位の大きさの粒状
に形成されているので、気流により飛ばされないように
細かい網で覆うなどの適当な配慮がなされなければなら
ない。
に形成されているので、気流により飛ばされないように
細かい網で覆うなどの適当な配慮がなされなければなら
ない。
上述のようにして、モレキュラーシーヴ３Ａ９を設置す
ると、気密容器８壁面その他から出るアウトガスの中に
含誉れろ水蒸気を除くことができ、その結果、第４図に
示しているようにレーザ出力の経時減少を解消すること
ができる。
ると、気密容器８壁面その他から出るアウトガスの中に
含誉れろ水蒸気を除くことができ、その結果、第４図に
示しているようにレーザ出力の経時減少を解消すること
ができる。
第４図は第２図と同様レーザ出力の封じ切り後の経過時
間に対する依存性を示すもので、前記動作条件のもとに
、モレキュラーシーヴ３ Ａ １ ｋｇを気密容器内に
装着したものである。
間に対する依存性を示すもので、前記動作条件のもとに
、モレキュラーシーヴ３ Ａ １ ｋｇを気密容器内に
装着したものである。
この試験結果から判るように、１５０時間後でもレーザ
出力の低下は認められなかった。
出力の低下は認められなかった。
ここでは代表的な条件のときの実験例をもとに説明した
が、これ以外の条件、たとえば、ガス圧１００〜７６０
トール、ガス流速１０ｍ／ｓ〜５Ｑｍ／ｓ、さらに前記
４種混合ガヌの他にＡｒを加えた５種混合ガスなどの場
合でも同様に吸湿剤９の有効性は変わらないことが確認
されている。
が、これ以外の条件、たとえば、ガス圧１００〜７６０
トール、ガス流速１０ｍ／ｓ〜５Ｑｍ／ｓ、さらに前記
４種混合ガヌの他にＡｒを加えた５種混合ガスなどの場
合でも同様に吸湿剤９の有効性は変わらないことが確認
されている。
第１図は従来の横方向励起高速循環型炭酸ガヌレーザ装
置の概略の断面図、第２図は従来装置のレーザ出力の経
時変化を示す特性図、第３図はこの発明の一実施例の断
面図、第４図はこの発明に係る装置のレーザ出力の経時
変化を示す特性図である。 図において、１は陽極、２は棒状陰極、３は放電部、４
は金網、５は熱交換器、６は軸流送風機、７は流路、８
は気密容器、９は吸湿剤である。 なか、図中同一符号はそれぞれ同一部分を示す。
置の概略の断面図、第２図は従来装置のレーザ出力の経
時変化を示す特性図、第３図はこの発明の一実施例の断
面図、第４図はこの発明に係る装置のレーザ出力の経時
変化を示す特性図である。 図において、１は陽極、２は棒状陰極、３は放電部、４
は金網、５は熱交換器、６は軸流送風機、７は流路、８
は気密容器、９は吸湿剤である。 なか、図中同一符号はそれぞれ同一部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 気密容器内に００２ガスを含有するレーザ媒質を循
環させ、グロー放電を形成させてレーザ光を発生させる
ように構成されたものにおいて、上記気密容器内のレー
ザ媒質循環経路に配設された吸湿剤を備えたことを特徴
とする炭酸ガヌレーザ装置。 ２ 吸湿剤がゼオライト（モレキュラーシーヴ３Ａ）で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の炭酸
ガヌレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15352478A JPS5839397B2 (ja) | 1978-12-12 | 1978-12-12 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15352478A JPS5839397B2 (ja) | 1978-12-12 | 1978-12-12 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5580385A JPS5580385A (en) | 1980-06-17 |
| JPS5839397B2 true JPS5839397B2 (ja) | 1983-08-30 |
Family
ID=15564405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15352478A Expired JPS5839397B2 (ja) | 1978-12-12 | 1978-12-12 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5839397B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07105546B2 (ja) * | 1987-06-30 | 1995-11-13 | 三菱重工業株式会社 | 炭酸ガスレ−ザ発振方法 |
-
1978
- 1978-12-12 JP JP15352478A patent/JPS5839397B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5580385A (en) | 1980-06-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6221314B1 (en) | Air actinism chamber apparatus and method | |
| EP3345673B1 (en) | Refrigerated transport container with movable sorbent bed for controlling inner air | |
| US20060055300A1 (en) | Electrodeless lamp for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation | |
| JPS5839397B2 (ja) | 炭酸ガスレ−ザ装置 | |
| US7468145B2 (en) | Phosphor and treatment method for the same | |
| CN1354679A (zh) | 含有污染颗粒的气体介质的处理方法 | |
| JPS5849651Y2 (ja) | 炭酸ガスレ−ザ装置 | |
| JP2623499B2 (ja) | オゾン水製造装置 | |
| JPS63229878A (ja) | 炭酸ガスレ−ザ装置 | |
| JP2005011805A5 (ja) | ||
| JP4777827B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | |
| JP2000066003A (ja) | 光学部品の洗浄方法 | |
| JP2005272831A (ja) | ケイ酸塩蛍光体の製造方法 | |
| JPH0832151A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPH0744298B2 (ja) | 金属イオンレ−ザ− | |
| JPS5913389A (ja) | 炭酸ガスレ−ザ発振器 | |
| JPS5917876B2 (ja) | 炭酸ガスレ−ザ装置 | |
| JP2003110013A (ja) | 収納装置および半導体装置の製造方法 | |
| JP2535960B2 (ja) | エキシマレ―ザ装置のガス充填方法 | |
| JP4379095B2 (ja) | 冷蔵庫 | |
| JP2561901B2 (ja) | 活性酸素製造装置および活性酸素水製造装置 | |
| JPS6361904B2 (ja) | ||
| JPH0766474A (ja) | 炭酸ガスレーザ装置 | |
| JPH10242547A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPH05192077A (ja) | 食品保存庫 |