JPS5835833B2 - ケンマエキノ チヨウセイホウホウ - Google Patents

ケンマエキノ チヨウセイホウホウ

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JPS5835833B2
JPS5835833B2 JP7203074A JP7203074A JPS5835833B2 JP S5835833 B2 JPS5835833 B2 JP S5835833B2 JP 7203074 A JP7203074 A JP 7203074A JP 7203074 A JP7203074 A JP 7203074A JP S5835833 B2 JPS5835833 B2 JP S5835833B2
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JP
Japan
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polishing
liquid
abrasive
preparation tank
particle size
Prior art date
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Expired
Application number
JP7203074A
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喜久男 安藤
和彦 柳原
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は研摩液の調製方法に関するもので、更に詳細に
は金属表面を常に均質に研摩しうる研摩液の調製方法に
関するものである。
本発明において、研摩液とは粒状の固体研摩剤を水、そ
の他の分散液に分散させたものをいう。
研摩液によって金属表面を研摩する場合の例としては、
平版印刷版材の製造に際して、支持体となる金属表面に
保水性を与えるためのいわゆる「砂目立て」等が知られ
ている。
かかる研摩処理において要求されることは、研摩された
金属表面は常に均質、rなわち一様1面粗さを有してい
ることであり、かかる要求が溝たされるか否かは使用す
る研摩液り性質、すな)ち固体研摩材の含有率(以下(
佃嘔液濃度)とし・う。
)及び研摩剤の粒度の範範、分杵′=より左右さ−する
ことか一般に知られている。
従来、金属表面を研摩する夫夫としては、名1図に示す
如く、調製タンク1内において、該、−9蜀製タンク1
の容量に見合った量0:J、17F摩剤を分散iに分散
させ、研摩液を調製させた後、該研摩液そポンプ2等の
輸送手段を用いて研摩装置3へ送ノ、金属表面を研摩し
た後、前記調製タンク1に1サイクルするという工程を
繰り返し、一定時間11過後、或いは該研摩液の疲労度
が一定値に達しミニとき、全研摩液を捨て、新たな研摩
液を調整す3方法が知られている。
しかしながら、この方法によれは研摩液浸1Z及び研摩
側粒度が経時的に変化するため均質な研摩が極めて困難
であり、またバッチ方式である:二め全研摩液を交換す
る必要があり、人手がかかl)交換の際作業を中断しな
ければならず作業効率が低下し、更に全研摩液を廃棄す
るため研摩剤の使用量が過大であるなどの欠点を有して
いた。
本発明は従来のかかる欠点を除去し、常に一定の研摩液
濃度を有し、研摩側粒度範囲及び粒度分布が一定である
研摩液を連続的に調製する方法を提供するにある。
本発明のかかる目的は、調製タンク内の研摩液濃度を検
出して該調製タンク内の研摩液濃度を一定に保つととも
に、該調製タンク内の研摩液を連続的に取り出し分級し
該調製タンク内にリヤ/1クルすることにより該調製タ
ンク内の研摩側粒度をコントロールすることにより達成
される。
以下、アルミ合金板の表面研摩を例にして、添付図面に
基き本発明の実施態様について説明する。
第2図は本発明の一実施態様を示すアルミ合金板研摩液
の調製方法の工程図である。
第2図において、1は調製タンク、2は調製タンク1中
の研摩液をとり出すポンプ、3は研摩装置、4は調製タ
ンク1中の研摩液濃度を検知する濃度計、5は研摩剤供
給ホッパー、6は研摩剤ホッパー5の供給口、7は濃度
計4と連けいLJ摩剤ホッパー5の供給口6を開閉せし
める制御器である。
また8は水供給装置で、9は補助タンク、10は液体サ
イクロン、11は補助タンク9より研摩液をとり出し、
液体サイクロンへ供給するポンプ、12は補助タンク9
の液位計である。
以下、その作用について説明を加える。
調製タンク1中の研摩液はポンプ2により研摩装置3に
送られ、アルミ合金板の研摩がおこなわれた。
研摩の方法としては、被研摩面に研摩液をスプレーし、
回転するナイロンブラシ等の研摩機で研摩する方法や研
摩機を用いずに研摩液を被研摩面にジェットして研摩す
るいわゆる液体ホーニング法等がしばしば用いられてい
るが、特に限定されるものではない。
研摩装置3において研摩を終えた研摩液は、調製タンク
1ヘリサイクルされる。
ここに研摩による研摩剤の破砕は定常状態においてはほ
ぼ一定の確率で、かつ一定の破砕の仕方をもっておこな
をれることか実験的に確認されており、このため調製タ
ンク1ヘリサイクルされる研摩液の研摩剤の粒度分布は
ほぼ一定である。
調製タンク1中には調製タンク1内の研摩液濃度を測定
する濃度計4が設けられている。
濃度計4は研摩剤ホッパー5の供給口6の開閉を指示す
る制御器7と連けいしている。
制御器7にはアルミ合金板を研摩するために必要な研摩
液濃度の範囲が予め設定されており、濃度計4により検
出された濃度が予め定めた研摩液濃度の下限値に達した
ときに供給口6を開き、研摩剤ホッパー5より所定の粒
度範囲内にあり、かつ所定の粒度分布を有する研摩剤を
調製タンク1に供給し、濃度計4で検出した濃度の値が
予め定めた研摩液濃度の所望値に達したところで研摩剤
の供給を中止するようになっている。
ここに制御器7に設定される濃度範囲は、一般に使用す
る研摩剤の粒度範囲及び粒度分布や被研摩面に要求する
面粗さの程度等を考慮して決定される。
また水供給装置8よりは一定量の水が連続的に調製タン
ク1へ供給される。
この水の供給は制御器7により研摩側供給と同期してお
こなっても差支えないが、前述の如く予め設定した濃度
の下限値に達したときは自動的に研摩剤の供給がおこな
われるので、水の供給までとくに制御する必要はない。
水供給装置8より供給される水は後述の如く調製タンク
1より抜き取られる研摩液量を補うためと、調製タンク
1ヘリサイクルされた研摩より生じたアルミ合金板の研
摩粉の濃度を一定に保つ役割とを有している。
また調製タンク1中の研摩剤及びアルミ合金板研摩粉の
濃度を一定範囲に保つために、調製タンク1中の研摩液
はオーバーフローにより連続的に補助タンク9へ抜き取
られる。
調製タンク1内の研摩液はつねに激しく攪拌せしめられ
、調製タンク1内は完全混合槽に近似した状態に維持さ
れている。
このためオーバーフローにより抜き出される研摩液中の
濃度、研摩剤の粒度及びアルミ合金研摩粉の濃度、粒度
はつねに調製タンク1中の研摩液のそれと同一である。
したがって、単位時間に調製タンク1にリサイクルされ
るアルミ合金研摩粉量と抜き取られる研摩液中のアルミ
合金研摩粉量とが等しくなるようにオーバーフロー量を
選べば調製タンク1内の研摩液中のアルミ合金粉濃度を
つねに一定に保つことが回部となり、同時に抜き取られ
る研摩液中の研摩剤の粒度分布はほぼ一定とすることが
可能となる。
したがって調製タンク1からの研摩液の抜き取りはオー
バーフローによる方法に限らず、調製タンク1の底部よ
り必要な量の研摩液を抜き取るような方法を採っても一
向に差し支えない。
かようにして、調製タンク1内の研摩液に含まれるアル
ミ合金研摩粉濃度を一定に保つことは可能となるが、研
摩液中の研摩剤及びアルミ合金研摩粉の粒度の範囲は次
のようにして一定となるように調製される。
すなわち、調製タンク1より取り出された研摩液は補助
タンク9に一旦貯蔵され、予め定めた貯蔵液量に達した
時点で、送液ポンプ11により液体サイクロン10へ送
られる。
補助タンク9には液位計12が設けられており、貯蔵液
量が所定のレベルに達すると送液ポンプ11が作動し、
貯蔵研摩液が液体サイクロン10へ送られる如くなって
いる。
ここに補助タンク9中の研摩液は液体サイクロン10よ
ち排出される上澄液により希釈された後、液体サイクロ
ン10に供給されることとされている。
これは一般に液体サイクロンを固液分離に用いる場合に
は、供給液中の固体の粒度が一定であれば、液体サイク
ロンの分級効率(分離された濃度分の全供給量に対する
重量比をいう。
)は供給液濃度が高い程低く、逆に供給液濃度が低い程
高いという実験的事実に基くものである。
したがって補助タンク9を設けることなく調製タンク1
からの研摩液と液体サイクロン10からの上澄液とをパ
イプの中で混合し研摩液を希釈して液体サイクロン10
へ連続的に供給することもできる。
この場合には、たとえば米国特許第3.719,207
号明細書に記載されたパイプラインミキサー等の混合手
段を用いるとよいであろう3ただし、ポンプ11に脈動
がある場合等、液体サイクロン10からの上澄液の排出
がスムーズにおこなわれないときは、このような連続処
理によると液体サイクロン10に供給される研摩液の濃
度が時間的に変動し好ましくない場合がおこり得る。
したがって補助タンク9を設け、希釈された研摩液を間
けつ的に、液体サイクロン10へ供給する方法による方
が操作のフレキシビリティ−が高く好ましい。
液体サイクロン10に供給された研摩液は分離操作を受
け、濃縮分すなわち粒度の犬な研摩剤粒子を含む濃縮液
と上澄液、すなわち粒度の小な研摩剤粒子と微細なアル
ミ合金板研摩粉とを含む薄い液とに分離せしめられる。
液体サイクロン10の下部排出口より排出された濃縮分
は調製タンク1にリサイクルされる。
濃縮分中に含まれる研摩剤の粒度の下限値は液体サイク
ロンにより分離されたものであるので、つねにほぼ一定
である。
また前述の如く調製タンク1より補助タンク9へ取り出
される研摩液中の研摩側粒度分布はほぼ一定であるので
、濃縮分に含まれる研摩剤の粒度の範囲及び粒度分布は
ほぼ一定となり、前述の制御装置7による研摩液濃度の
コントロールと相まって、定常状態においては調製タン
ク1中の研摩液濃度、研摩側粒度の範囲、粒度分布はそ
れぞれほぼ一定となる。
また、アルミ合金研摩粉も定常状態においてはその生成
は一定であり、研摩の際、一定の確率、仕方で破砕する
ことがみとめられるから、研摩液中の粒度分布はほぼ一
定であり、液体サイクロンにより限界粒子径以下のアル
ミ合金研摩粉は取除かれるため、研摩液中のアルミ合金
研摩粉の粒度範囲、粒度分布及びその濃度はほぼ一定に
保つことができる。
この結果、つねに均一な研摩を実現することが可能とな
る。
また上澄液は適当な分配器(図示せず)等により2つに
分けられ、一部は系外へ排出廃棄され、一部は補助タン
ク9ヘリサイクルされ、研摩液の希釈に用いられる。
第3図は本発明の他の実施態様を示す工程図である。
第3図においては、第2図と異なり、複数個の液体サイ
クロンが用いられている。
研摩剤の分級のためには、単一の液体サイクロンでこれ
をおこなっても差し支えないが、研摩液の処理量が大き
いとき、これに見合う処理能力を有する単一の液体サイ
クロンで分級をおこなうこととすると、限界粒子径が犬
きくな1バ必要以上に粒度の犬な研摩剤まで廃棄してし
まうおそれがある。
この一方所望の限界粒子径を有する液体サイクロンを用
いるときは、処理すべき研摩液量が必然的に低く押えら
れてしまう。
第3図はこのような場合に対処するものである。
すなわち、補助タンク9より取り出された研摩液は並列
になった同一能力を有する2つの液体サイクロン10
a t 10 bに供給される。
ここに研摩液は2つの液体サイクロンに二分されるため
、各液体サイクロンIQa、10bの処理量をさほど大
きくしなくとも処理することができるため、限界粒子径
もあまり大きくならず、上述の如き問題は生じない。
液体サイクロン10aよりの濃縮分は調製タンク1にリ
サイクルされ、上澄液はすべて補助タンク9にリサイク
ルされる。
一方、液体サイクロン10bよりの濃縮分は調製タンク
1ヘリサイクルされるが、上澄液は更に並列に設けられ
た同一能力を有する4つの液体サイクロン10c、10
d、10e、10fへ四分されて供給され、更に分級を
受ける。
ここに4つの液体サイクロン10Cj10d、10e、
10fは処理能力、限界粒子径ともに液体サイクロン1
0a、10bより小さいものが選ばれる。
したがって4つの液体サイクロン10C210d。
10e、10fよりの濃縮分中には2つの液体サイクロ
ン10 a 、10 bの濃縮分中に含まれる研摩剤よ
り粒度の小な研摩剤が含まれている。
これら4つの液体サイクロンよりの濃縮分は調製タンク
1へリナイクルされる。
結局調製タンク1ヘリサイクルされる研摩剤の最小粒度
は4つの液体すイクロン10c、10a、10etlO
fの限界粒子径により決せられることになる。
またこれら4つの液体サイクロン10c、10d、10
e。
10fよりの上澄液はいずれも廃棄される。
ここに複数個の液体サイクロンをいかにいくつ配列する
かまたどのような能力を有するものを選択するかについ
ては、上述の組合わせに限られず、種々の組合せが可能
である。
たとえば限界粒子径をそれ程小さくする必要がなければ
2つの液体サイクロン10a>10bのみで十分であろ
うし、また初めに3つの液体サイクロンを並列に設けて
おけば、更に限界粒子径を下げることができる等である
本発明は以上の実施態様に限られることなく、特許請求
の範囲に記載した範囲内において種々の変更が可能であ
ることは言うまでもない。
たとえば、分散剤としては必ずしも水に限られず、アル
ミ合金板の研摩の場合には、第三リン酸ナトリウムやヘ
キサメタリン酸ナトリウムの如きものも利用することが
できる。
また前記実施態様においては、補助タンクに液体サイク
ロンよりの上澄液を供給し希釈したが、上澄液の代りに
水、その他の分散液を供給して希釈することも可能であ
る。
ただし、この場合には水、その他の分散液の使用量が増
大し、ひいては廃水量も増大して不経済ではある。
また前記実施態様においては、分級装置として液体サイ
クロンを用いているが、必ずしも液体サイクロンに限ら
ず、遠心分離器の如き他の分散装置も利用可能である。
以上、アルミ合金板の研摩処理を例にとって本発明の実
施態様について説明を加えてきたが、本発明はこれに限
らず、鋼や鉄等の一般金属材料の研摩剤による表面研摩
に広く適用することが可能である。
実施例 第3図に示される工程図に基きアルミ合金板り表面研摩
をおこなった。
まず、容積20001itの調製タンク1に粒度1〜5
0μ、平均粒径30μのシリカアルミナ系研摩剤、及び
水を加えて30wt%の研摩液10001itを調製し
た。
しかる後、100 lit/励妨流量で研摩液を研摩装
置3へ供給するとともに、水供給装置8より水を3 z
it yvtinで連続して調製タンク1に供給し、同
時に調製タンク1より研摩液を4iit7inの流量で
オーバーフローさせて容積300 Aitの補助タンク
9に一時間貯蔵させた。
ここに研摩装置3においては、 20 m/7117n
で連続走行する幅2mの帯状アルミ合金板に研摩剤が連
続的にスプレーされ、回転するナイロンブラシにより研
摩がおこなわれている。
また調製タンク1における研摩液濃度が30wt%±1
%の範囲に保たれる如く制御器7を設定すると共に、調
製タンク1には研摩液濃度を測定するための力平衡式比
重計を設置する。
補助タンク9の研摩液量が20001itに達した時点
で送液ポンプ11を作動せしめ、501it/*πの割
合で液体サイクロンへ送液する。
液体サイクロンは容量25 lit 、限界粒子径15
1tの2基の液体サイクロン10a。
10bを並列に、及び容量7 lit 、限界粒子径7
μの4基の液体サイクロン10 c、10 d 、10
e tlofを第3図の如く組合わせて設置されてい
る。
かような操作が定常状態に達した後、調製タンク2内の
研摩液濃度、及び研摩側粒度を連続して測定したところ
、研摩液濃度は30wt%±1%を実質的に維持し、研
摩側粒度の範囲及び粒度分布も実質的に一定であった。
また研摩装置3において研摩されたアルミ合金板の表面
を検査したところ、表面溝の深さで表わした表面粗さの
バラツキは0.01μ以内におさまり、従来の0.07
μに比し、約1/7に減少し、面質が大幅に向上し、研
摩剤の単位研摩面積当りの使用量は従来方法に比し約1
/3に節減することができた。
本発明に依れば、次に掲げるような新規な効果が得られ
る。
(1)定常状態においては、研摩液濃度、研摩剤の粒度
の範囲及び粒度の分布はほぼ一定に保たれるから、常に
均一の研摩をおこなうことができる。
(ii) 同時に金属研摩粉の濃度、粒度範囲、粒度
分布もほぼ一定に保たれるから、金属研摩粉が研摩に及
ぼす影響も常にほぼ一定であ(バ常に均一の研摩をおこ
なうことが可能となる。
(1[i)研摩作業が連続的におこなわれるため、人手
がかからず、研摩液交換による作業の中断もないから極
めて経済的であり、コスト低減が可能となる。
(IV) 研摩剤が研摩効果を失なうに至るまで、リ
サイクルして繰り返し使用するため、研摩剤使用量を大
幅に節減することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の研摩方法を示す工程図である。 第2図、及び第3図は本発明の一実施態様を示す工程図
である。 1・・・・・・調製タンク、3・・・・・・研摩装置、
4・・・・・・濃度計、5・・・・・・研摩剤ホッパー
、7・・・・・・制御器、8・・・・・・水供給装置、
9・・・・・・補助タンク、10・・・・・・液体サイ
クロン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 調製タンクにおいて調製した研摩液を研摩装置に送
    り、金属面を研摩した後、研摩液を前記調製タンクへリ
    サイクルして金属面を研摩する方法において、前記調製
    タンク内の研摩液濃度を検出して該調製タンク内の研摩
    液濃度を一定範囲内に保つとともに、該調製タンク内の
    研摩液を連続的に取り出し分級し、該調製タンク内にリ
    サイクルすることにより該調製タンク内の研摩液中の研
    摩側粒度をコントロールすることを特徴とする研摩液の
    調製方法。
JP7203074A 1974-06-24 1974-06-24 ケンマエキノ チヨウセイホウホウ Expired JPS5835833B2 (ja)

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JPS512093A JPS512093A (en) 1976-01-09
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JP3194860B2 (ja) * 1994-11-21 2001-08-06 信越半導体株式会社 スラリー粘度調整装置

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