JPS5834172A - 合金蒸着用蒸発源構造 - Google Patents
合金蒸着用蒸発源構造Info
- Publication number
- JPS5834172A JPS5834172A JP13258281A JP13258281A JPS5834172A JP S5834172 A JPS5834172 A JP S5834172A JP 13258281 A JP13258281 A JP 13258281A JP 13258281 A JP13258281 A JP 13258281A JP S5834172 A JPS5834172 A JP S5834172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- alloy
- lead
- mixing chamber
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着法によって、例えば銅帯のような板状
体の表面に均一な成分濃度比からなる台金Ｏメッキ層を
容易な制御手段によって形成させゐ合金蒸着用蒸発源構
造を提供することを目的とする。
体の表面に均一な成分濃度比からなる台金Ｏメッキ層を
容易な制御手段によって形成させゐ合金蒸着用蒸発源構
造を提供することを目的とする。
鋼材等の表面に合金をメッキし九製品は単金属をメッキ
した製品に比較して合金独得の特性を４ち、幾多の長所
を期待することができる丸め、従来から各種メッキ法に
よって合金メッキ製品が生愈されて−る。
した製品に比較して合金独得の特性を４ち、幾多の長所
を期待することができる丸め、従来から各種メッキ法に
よって合金メッキ製品が生愈されて−る。
真空蒸着メッキ法による合金メッキも同様に工業化され
て−るが、改善すべき問題点も多数ある。従来の真空蒸
着法による合金メッキの製品は、成分金属の蒸発速度の
時間的変化、ならびに被メッキ材と蒸発源とから成る幾
何学的位置関係の不備等によって、形成したメッキ層の
舎壷鰻度分布が不均等になり、品質の信頼性に欠は為も
のであつ九。
て−るが、改善すべき問題点も多数ある。従来の真空蒸
着法による合金メッキの製品は、成分金属の蒸発速度の
時間的変化、ならびに被メッキ材と蒸発源とから成る幾
何学的位置関係の不備等によって、形成したメッキ層の
舎壷鰻度分布が不均等になり、品質の信頼性に欠は為も
のであつ九。
以下、図ＮＫよって従来の真空蒸着法による代表的な合
金メッキ法を具体的に説明する。
金メッキ法を具体的に説明する。
第１図は単一蒸発源方式であり、単一の容器１０内部に
、被メツキ材５０表面に目標とする成分金属饋度の合金
メッキ層が形成されるようＫ１１１ｍ調整を行つ九成分
金属から成る合金２を入れ、これをヒーター５によって
加熱し、合金！０＠ｌ！Ｉｉから矢印＄４のように合金
２を蒸発させ、被メツキ材５０表面に蒸着させる４ので
あ為、この単一蒸発源方式にシーては、合金２を形威す
ゐ各成分金属ＯＩＩ発速変速度１Ｊ！が形成させ九合金
メッキ層の合金成分濃度を不均等にさせている。即ち、
合金２中の蒸発速度の大きな成分金属が優先的に蒸発す
る喪め、合金２の成分金属濃度の割合が時間の経過と共
に変動することＫより、これに伴って形成されるメツ中
層の合金成分の割合も変化し、メッキの厚さ方向に濃度
差を発生する。ｔた、連続式蒸着メッキのように長尺の
被メッキ材を連続的に走行させて蒸着メッキを施す場合
は初期段階のメッキ層の合金成分の割合と終期段階のメ
ッキ層の合金成分の割合には差が生じ、均等な合金メッ
キの製品を生産することが困難である。
、被メツキ材５０表面に目標とする成分金属饋度の合金
メッキ層が形成されるようＫ１１１ｍ調整を行つ九成分
金属から成る合金２を入れ、これをヒーター５によって
加熱し、合金！０＠ｌ！Ｉｉから矢印＄４のように合金
２を蒸発させ、被メツキ材５０表面に蒸着させる４ので
あ為、この単一蒸発源方式にシーては、合金２を形威す
ゐ各成分金属ＯＩＩ発速変速度１Ｊ！が形成させ九合金
メッキ層の合金成分濃度を不均等にさせている。即ち、
合金２中の蒸発速度の大きな成分金属が優先的に蒸発す
る喪め、合金２の成分金属濃度の割合が時間の経過と共
に変動することＫより、これに伴って形成されるメツ中
層の合金成分の割合も変化し、メッキの厚さ方向に濃度
差を発生する。ｔた、連続式蒸着メッキのように長尺の
被メッキ材を連続的に走行させて蒸着メッキを施す場合
は初期段階のメッキ層の合金成分の割合と終期段階のメ
ッキ層の合金成分の割合には差が生じ、均等な合金メッ
キの製品を生産することが困難である。
第２図＃ｉ同時蒸発方式であシ、合金を構成する各成分
金属ムおよびＢを別々の容器１および１’に入れ、それ
ぞれのヒーター３および５′によって加熱し、成分金属
ムおよびＢの蒸発速度を制御することによって、被メツ
キ材５０表面に所望の合金成分からなるメッキ層を形成
するものである。この同時蒸発方式においては、各蒸発
源０１１ａ＋１および１′と被メッキ材５との幾何学的
な配置関係によって合金メッキ層の合金成分濃度が不均
等Ｋｌｋる。即ち、成分金属ムおよびｌｌ０ＩＩ気の飛
散領域を概略模型的に示せばＡＶおよびＢＩのようＫな
り、これらの飛散領域によりてムマ＋Ｂｙのような成分
全属人の蒸気と成分金属１の蒸気の混合蒸気の飛散領域
ができ、この混合蒸気の飛散領域に被メッキ材５を設置
して合金メッキ層を形成させる。しかしムＶおよび１マ
の飛散領域の蒸気密度は不均一であるため、これらムマ
および１マによって形成されるムマ十ＢｙＯ飛散領域に
お−ても必然的に各成分金属蒸気の一１度は不均一１４
のとなる。従って、形成しえメツ中層の合金成分濃度も
不均一になり、均質な合金メッキな生産することが困難
である。
金属ムおよびＢを別々の容器１および１’に入れ、それ
ぞれのヒーター３および５′によって加熱し、成分金属
ムおよびＢの蒸発速度を制御することによって、被メツ
キ材５０表面に所望の合金成分からなるメッキ層を形成
するものである。この同時蒸発方式においては、各蒸発
源０１１ａ＋１および１′と被メッキ材５との幾何学的
な配置関係によって合金メッキ層の合金成分濃度が不均
等Ｋｌｋる。即ち、成分金属ムおよびｌｌ０ＩＩ気の飛
散領域を概略模型的に示せばＡＶおよびＢＩのようＫな
り、これらの飛散領域によりてムマ＋Ｂｙのような成分
全属人の蒸気と成分金属１の蒸気の混合蒸気の飛散領域
ができ、この混合蒸気の飛散領域に被メッキ材５を設置
して合金メッキ層を形成させる。しかしムＶおよび１マ
の飛散領域の蒸気密度は不均一であるため、これらムマ
および１マによって形成されるムマ十ＢｙＯ飛散領域に
お−ても必然的に各成分金属蒸気の一１度は不均一１４
のとなる。従って、形成しえメツ中層の合金成分濃度も
不均一になり、均質な合金メッキな生産することが困難
である。
以上の通り、従来の真空蒸着法による合金メッキ層は合
金成分ｓ１変が不均一である。このため、合金成分の均
一化を計るため、後処理にベー中ンダを施してメッキ層
の均一化を計ってお砂、処曹工楊の増加、設備の大型化
を生じ、生倉性、経済性に問題がある。特に同時蒸発方
式においてはＡＶおよびＢｖのよう和合金メッキが施さ
れ忙くい飛散領域かあ）、これ等の領域の蒸気は無効な
もの゛となって、真空室内に堆積する。
金成分ｓ１変が不均一である。このため、合金成分の均
一化を計るため、後処理にベー中ンダを施してメッキ層
の均一化を計ってお砂、処曹工楊の増加、設備の大型化
を生じ、生倉性、経済性に問題がある。特に同時蒸発方
式においてはＡＶおよびＢｖのよう和合金メッキが施さ
れ忙くい飛散領域かあ）、これ等の領域の蒸気は無効な
もの゛となって、真空室内に堆積する。
この堆積物は装置の正常な操業に障害となってお９、必
要に応じて除去しなければならな−６このため、作業性
、生産性、経済性に問題が生じ、改善する必要がある。
要に応じて除去しなければならな−６このため、作業性
、生産性、経済性に問題が生じ、改善する必要がある。
本発明者等は上記のような従来の問題点を甥消するため
に研究を重ねた結果、蒸発源構造を改善してメッキの品
質の向上を計る□と共に１作業性、経済性、生産性を高
めることに成功したものである。
に研究を重ねた結果、蒸発源構造を改善してメッキの品
質の向上を計る□と共に１作業性、経済性、生産性を高
めることに成功したものである。
すなわち、本発明は合金を構成する成分金属を別々の容
器に収容し、各成分金属の蒸発速度を制御しながら同時
に蒸発させ、さらにこれ等成分金属の蒸気を混合室に導
いて均一な混合蒸抵とし、この混合蒸気を被メッキ材に
蒸着すゐこと虻よって、均質な合金成分濃度の合金層を
生成することを特徴とする新規な合金蒸着用蒸発源構造
に関するものである。
器に収容し、各成分金属の蒸発速度を制御しながら同時
に蒸発させ、さらにこれ等成分金属の蒸気を混合室に導
いて均一な混合蒸抵とし、この混合蒸気を被メッキ材に
蒸着すゐこと虻よって、均質な合金成分濃度の合金層を
生成することを特徴とする新規な合金蒸着用蒸発源構造
に関するものである。
本発明を具体的に図面によって説明する。なか、説明を
容、ＩＫする九め鋼帯表ｗＫ鉛と亜鉛の合金を蒸着する
場合を代表例として述べる。
容、ＩＫする九め鋼帯表ｗＫ鉛と亜鉛の合金を蒸着する
場合を代表例として述べる。
ＩＩｓ図は本発明の合金蒸着用蒸発源構造と被メッキ材
の鋼帯Ｏ構成を示す縦断面図である。
の鋼帯Ｏ構成を示す縦断面図である。
なお９１図および第２図と同様な作用効果を与える壺要
素部品は同一符号を記す。ｃｌｄ合金を蒸着する丸めの
真空蒸着室の区画を示すものであに、この区画内部の圧
力＃ｉ１ Ｘ １０４ＴＯｒｒ〜Ｉ Ｘ １０”テｏｒ
ｒ の範ｍに保持している。１は合金Ｏ成分金属である
鉛ムを収容する容器であり１＃および１′は他方の合金
の成分金属である亜鉛ＢおよびＢＩを収容する容器であ
る。これ等の容１） １．１’、 １’ｐｃは合金の成
分金属である鉛Ａシよび亜鉛１ｓ、Ｂ’の蒸気が放出す
るスリット日ｌ。
素部品は同一符号を記す。ｃｌｄ合金を蒸着する丸めの
真空蒸着室の区画を示すものであに、この区画内部の圧
力＃ｉ１ Ｘ １０４ＴＯｒｒ〜Ｉ Ｘ １０”テｏｒ
ｒ の範ｍに保持している。１は合金Ｏ成分金属である
鉛ムを収容する容器であり１＃および１′は他方の合金
の成分金属である亜鉛ＢおよびＢＩを収容する容器であ
る。これ等の容１） １．１’、 １’ｐｃは合金の成
分金属である鉛Ａシよび亜鉛１ｓ、Ｂ’の蒸気が放出す
るスリット日ｌ。
−、％ｔ １１１．−を具備している。 ５．３’、
！’は前記鉛ムシよび′！Ｉ７Ｌ鉛Ｂ、Ｂ’を加熱し蒸
発させるＥ−ターでＴｏに、断熱層を具備している。６
け混合型でＴｏり、前記各スリット龜、 ＆、 ８Ｊ＊
ｆ１４゜−かも放出した鉛ムの蒸気と亜鉛Ｂ、Ｂ’の
蒸気とを混合する室であり、上部ＫＦｉ混合蒸気を放出
させＬ丸めの開ロアを具備する蓋８を設置している。９
は混合蒸気を蓋８＃ＩＣ凝縮させないためのヒータであ
り、断熱層を具備している。５は被メッキ材の銅帯であ
抄図面垂直■方向に連続的に走行して−る。なお、この
鋼帯５Ｆｉ大気中から次ｔ／ｇＫ減圧した室を通過シ、
真空蒸着室Ｏにおいて蒸着メッキを施し、次鮪に大気圧
まで増圧した室を通過して、再び大気中に至る（図示省
略）。さらに前記のメッキ成分金属である鉛量および亜
鉛Ｂ、Ｂ’は大気中で溶融し大気圧と真空蒸着室Ｃの圧
力差によって、輸送管を通過して容器１ 、１’、 Ｉ
ＱＣ至る（図示省略）。
！’は前記鉛ムシよび′！Ｉ７Ｌ鉛Ｂ、Ｂ’を加熱し蒸
発させるＥ−ターでＴｏに、断熱層を具備している。６
け混合型でＴｏり、前記各スリット龜、 ＆、 ８Ｊ＊
ｆ１４゜−かも放出した鉛ムの蒸気と亜鉛Ｂ、Ｂ’の
蒸気とを混合する室であり、上部ＫＦｉ混合蒸気を放出
させＬ丸めの開ロアを具備する蓋８を設置している。９
は混合蒸気を蓋８＃ＩＣ凝縮させないためのヒータであ
り、断熱層を具備している。５は被メッキ材の銅帯であ
抄図面垂直■方向に連続的に走行して−る。なお、この
鋼帯５Ｆｉ大気中から次ｔ／ｇＫ減圧した室を通過シ、
真空蒸着室Ｏにおいて蒸着メッキを施し、次鮪に大気圧
まで増圧した室を通過して、再び大気中に至る（図示省
略）。さらに前記のメッキ成分金属である鉛量および亜
鉛Ｂ、Ｂ’は大気中で溶融し大気圧と真空蒸着室Ｃの圧
力差によって、輸送管を通過して容器１ 、１’、 Ｉ
ＱＣ至る（図示省略）。
本発明の蒸発源の装置構成は以上の通りであるが、この
構成によって以下のような作用、効果がある。ヒーター
ｓ、ｓ’、ｓｚによって、鉛Ａおよび亜鉛Ｂ、Ｂ’を加
熱すれげ、それぞれの浴表面１０，１１．１２から矢□
印１ｆＦ１５，１４゜１５のように鉛Ａおよび亜鉛Ｂ、
Ｂ’の蒸気が発生し、スリット８１． ’％ｔ ８ｍ、
ａ４＊ ％からそれぞれの矢印のようＥ１合室６の内
部に鉛量および亜鉛Ｂ、Ｂ’の蒸気が放出し、鉛量およ
び亜鉛Ｂ。
構成によって以下のような作用、効果がある。ヒーター
ｓ、ｓ’、ｓｚによって、鉛Ａおよび亜鉛Ｂ、Ｂ’を加
熱すれげ、それぞれの浴表面１０，１１．１２から矢□
印１ｆＦ１５，１４゜１５のように鉛Ａおよび亜鉛Ｂ、
Ｂ’の蒸気が発生し、スリット８１． ’％ｔ ８ｍ、
ａ４＊ ％からそれぞれの矢印のようＥ１合室６の内
部に鉛量および亜鉛Ｂ、Ｂ’の蒸気が放出し、鉛量およ
び亜鉛Ｂ。
Ｂ’４２）混合蒸気ができる。この混合蒸気は矢印群１
６の工うに開ロアから放出し、銅帯５に蒸着し、銅帯５
０表ｗＫ均質な鉛と亜鉛の合金メッキ層が形成される。
６の工うに開ロアから放出し、銅帯５に蒸着し、銅帯５
０表ｗＫ均質な鉛と亜鉛の合金メッキ層が形成される。
零発Ｗｊ４Ｃ＋重大な特徴は合金の成分金属の蒸気を混
合する拠金３１４であり、低蒸気圧を呈する成分金属（
本説明中では鉛量）を蒸発させるＫは高蒸気圧を呈する
成分金属（本説明中では亜鉛１．Ｂ′）を蒸発させるよ
〉高温度の熱が要求喋れ、低蒸気圧金属の蒸気分子は高
蒸気圧金属ＯＩＫ気分子よ）、この高温度の熱に相当す
る大きなエネルギーを保有して−る。このように温度差
を有する蒸気分子を混合しえ場合、低蒸気圧金属は冷却
され保有エネルギーを放出する。
合する拠金３１４であり、低蒸気圧を呈する成分金属（
本説明中では鉛量）を蒸発させるＫは高蒸気圧を呈する
成分金属（本説明中では亜鉛１．Ｂ′）を蒸発させるよ
〉高温度の熱が要求喋れ、低蒸気圧金属の蒸気分子は高
蒸気圧金属ＯＩＫ気分子よ）、この高温度の熱に相当す
る大きなエネルギーを保有して−る。このように温度差
を有する蒸気分子を混合しえ場合、低蒸気圧金属は冷却
され保有エネルギーを放出する。
ζＯえめ、場合によっては低蒸気圧金属の蒸着が行われ
１に−こともある。従って混合室６は熱経済的に有’Ｊ
４にするため高温度の低蒸気圧金属を颯容する容器１の
上部に設置し、さらに必要に応じて、混合室乙の内部の
蒸気を少なくとも低蒸気圧金属の蒸発温度まで加熱する
ヒーター１７を設置することが望ましい。このヒータ−
１７Ｆ！蒸気分子にエネルギーを付加するため、蒸着し
たメッキ層の密着性が向上する効果がある。
１に−こともある。従って混合室６は熱経済的に有’Ｊ
４にするため高温度の低蒸気圧金属を颯容する容器１の
上部に設置し、さらに必要に応じて、混合室乙の内部の
蒸気を少なくとも低蒸気圧金属の蒸発温度まで加熱する
ヒーター１７を設置することが望ましい。このヒータ−
１７Ｆ！蒸気分子にエネルギーを付加するため、蒸着し
たメッキ層の密着性が向上する効果がある。
メッキ層の成分金属濃度の制御はヒーター５゜３’、
３’の出力調整によって成分金属ムおよびＢ。
３’の出力調整によって成分金属ムおよびＢ。
Ｂ′の温度を制御することＫよって容ｓＫ行うことがで
きて作業性に優れており、さらに混合室６の内部で成分
金属が混合されるため、メッキ層中の成分金属濃度は時
間的に安定し、均質なメッキ層が生産される。
きて作業性に優れており、さらに混合室６の内部で成分
金属が混合されるため、メッキ層中の成分金属濃度は時
間的に安定し、均質なメッキ層が生産される。
不発！１は真空蒸着メッキ法によって鋼帯勢Ｏ表面に各
種合金のメッキ層を形成し自動車用外板、建材、缶材等
の製品を生産する真空蒸着設備に適用できる。各種合金
としては上記鉛−憂鉛の組合せの他、任意の組合せが使
用できる。
種合金のメッキ層を形成し自動車用外板、建材、缶材等
の製品を生産する真空蒸着設備に適用できる。各種合金
としては上記鉛−憂鉛の組合せの他、任意の組合せが使
用できる。
集施例
真空蒸着室ＣＯ内部の圧力を１×１０″テｏｒｒに保持
し、容ｌｉｔに鉛量を収容して、ヒーター３によって鉛
量の温度を１０００℃に保持した。
し、容ｌｉｔに鉛量を収容して、ヒーター３によって鉛
量の温度を１０００℃に保持した。
他方の容器１１ｓＩＰよび１・に亜鉛Ｂ、Ｂ’を収容し
てヒーター！’）よび５’によって亜鉛Ｂ、Ｂ〆の温度
をｓｓｏ’ｃｃ保持し、前記鉛量と同時Ｋｆｉ発させ、
混合室６の内部を１０００＠ｃＫヒーター１７によって
保持し、■方肉に走行している銅帯５に鉛と亜鉛の混合
蒸気を蒸着した結果、２９．４九〜ｉｔｚ％の鉛を分散
し九合金メッキ層が得られえ、１シ、鉛量の浴表面１ｏ
の蒸発面積と亜＠Ｂ、Ｂ’の浴表＠１１と１２の蒸発面
積の和はＩＩＩ岬である。この合金メッキ層中の鉛量は
、Ｗ：蒸発速度 Ｐ：飽和蒸気圧（テｏｒｒ ） Ｍ：ｌ１発金属の分子量（鉛および亜鉛）〒：蒸尭温ｆ
（”Ｋ ） た蒸発量Ｏｍ−値（約３０％鉛）に近似してお砂、実用
的な結果であった。
てヒーター！’）よび５’によって亜鉛Ｂ、Ｂ〆の温度
をｓｓｏ’ｃｃ保持し、前記鉛量と同時Ｋｆｉ発させ、
混合室６の内部を１０００＠ｃＫヒーター１７によって
保持し、■方肉に走行している銅帯５に鉛と亜鉛の混合
蒸気を蒸着した結果、２９．４九〜ｉｔｚ％の鉛を分散
し九合金メッキ層が得られえ、１シ、鉛量の浴表面１ｏ
の蒸発面積と亜＠Ｂ、Ｂ’の浴表＠１１と１２の蒸発面
積の和はＩＩＩ岬である。この合金メッキ層中の鉛量は
、Ｗ：蒸発速度 Ｐ：飽和蒸気圧（テｏｒｒ ） Ｍ：ｌ１発金属の分子量（鉛および亜鉛）〒：蒸尭温ｆ
（”Ｋ ） た蒸発量Ｏｍ−値（約３０％鉛）に近似してお砂、実用
的な結果であった。
第１図および第２図は従来の合金蒸着用蒸発源構造を示
す縦断面図であり、第３図は本発明の合金蒸着用蒸発源
構造の縦断面図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 第１図 第２図
す縦断面図であり、第３図は本発明の合金蒸着用蒸発源
構造の縦断面図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 第１図 第２図
Claims (1)
- 蒸気を加熱するヒーターを咋蔵する蒸気混合室と、該蒸
気混合室の底部にスリットを介して低蒸気圧金属を収容
して蒸発させる容器と、前記蒸気混合室の側壁にスリッ
トを介して高蒸気圧金属を収容して蒸発させる容器とか
ら成る合金蒸着用蒸発源構造
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13258281A JPS5834172A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 合金蒸着用蒸発源構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13258281A JPS5834172A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 合金蒸着用蒸発源構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834172A true JPS5834172A (ja) | 1983-02-28 |
Family
ID=15084697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13258281A Pending JPS5834172A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 合金蒸着用蒸発源構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834172A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2264952A (en) * | 1990-10-16 | 1993-09-15 | Secr Defence | Vapour deposition apparatus and method |
| BE1010720A3 (fr) * | 1996-10-30 | 1998-12-01 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'un alliage metallique en phase vapeur. |
| KR100471361B1 (ko) * | 2002-09-25 | 2005-03-10 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 증착 장치 |
| KR100833014B1 (ko) * | 2006-12-27 | 2008-05-27 | 주식회사 포스코 | 합금 증착용 증발 장치 |
| JP2012512959A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-06-07 | アルセロールミタル フランス | 金属ストリップ上に合金被膜を蒸着するための工業用蒸気発生器 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53110973A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-28 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Method and apparatus for manufacturing compounds |
-
1981
- 1981-08-26 JP JP13258281A patent/JPS5834172A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53110973A (en) * | 1977-03-10 | 1978-09-28 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Method and apparatus for manufacturing compounds |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2264952A (en) * | 1990-10-16 | 1993-09-15 | Secr Defence | Vapour deposition apparatus and method |
| GB2264952B (en) * | 1990-10-16 | 1994-04-20 | Secr Defence | Vapour deposition apparatus and method |
| BE1010720A3 (fr) * | 1996-10-30 | 1998-12-01 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'un alliage metallique en phase vapeur. |
| KR100471361B1 (ko) * | 2002-09-25 | 2005-03-10 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 증착 장치 |
| KR100833014B1 (ko) * | 2006-12-27 | 2008-05-27 | 주식회사 포스코 | 합금 증착용 증발 장치 |
| JP2012512959A (ja) * | 2008-12-18 | 2012-06-07 | アルセロールミタル フランス | 金属ストリップ上に合金被膜を蒸着するための工業用蒸気発生器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2456372C2 (ru) | Способ нанесения покрытия на подложку и устройство вакуумного осаждения металлического сплава | |
| US5405517A (en) | Magnetron sputtering method and apparatus for compound thin films | |
| US4427720A (en) | Vapor phase process for the deposition of a protective metal coating on a metallic piece | |
| JPS5834172A (ja) | 合金蒸着用蒸発源構造 | |
| MXPA05005113A (es) | Proceso para la aplicacion por alto vacio de substratos acintados con una capa de barrera transparente de oxido de aluminio. | |
| KR101620639B1 (ko) | 합금 코팅장치 | |
| KR100287978B1 (ko) | 증발속도를 크게 한 mg 증발방법 | |
| US3958071A (en) | Electrical resistor and method of producing same | |
| US4076859A (en) | Process for metallizing strips, sheets or the like | |
| JPH0297663A (ja) | Ｚｎ−Ｍｇ系蒸着めっき鋼板の製造方法 | |
| KR0138040B1 (ko) | 연속 진공증착 공정에서 균일한 조성의 합금 증착층을 갖도록 하는 이중 증발원의 배열 방법 | |
| US3274372A (en) | Solid vaporization | |
| JPS6215632B2 (ja) | ||
| KR0140834B1 (ko) | 조성 분포가 균일한 아연-알루미늄 합금 진공증착 강판의 제조방법 | |
| DE2125921A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur BiI dung von Metallüberzügen | |
| JPS58213871A (ja) | 密着性の秀れた亜鉛被覆を鉄基板に被覆する方法 | |
| JPH07188905A (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
| JPH06299336A (ja) | 真空蒸着用蒸発源のルツボ | |
| SU466300A1 (ru) | Испаритель | |
| SU659642A1 (ru) | Испаритель дл нанесени сложных соединений материалов | |
| JPH021223B2 (ja) | ||
| US20190211440A1 (en) | Coating process using gas screen | |
| JPH0369990B2 (ja) | ||
| Burdovitsin et al. | ALUMINUM OXIDE FILMS FABRICATED BY REACTIVE ELECTRON-BEAM EVAPORATION IN THE FORE-VACUUM PRESSURE RANGE | |
| JPH0759745B2 (ja) | 耐熱性に優れたチタンめつき鋼板 |