JPS5832233B2 - 多孔質ニッケル被覆形成用ペ−スト組成物 - Google Patents

多孔質ニッケル被覆形成用ペ−スト組成物

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JPS5832233B2
JPS5832233B2 JP56007325A JP732581A JPS5832233B2 JP S5832233 B2 JPS5832233 B2 JP S5832233B2 JP 56007325 A JP56007325 A JP 56007325A JP 732581 A JP732581 A JP 732581A JP S5832233 B2 JPS5832233 B2 JP S5832233B2
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cathode
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クリストフアー・ロードリツク・エス・ニーデイズ
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/86Inert electrodes with catalytic activity, e.g. for fuel cells
    • H01M4/98Raney-type electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/075Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は多孔質ニッケル表面を有する改善された電極に
関する。
更に詳しくは、それは基質のコーティングに使用できる
ペースト組成物、および水または塩水電解セル中のカソ
ードとして有用なニッケル支持された多孔性ニッケルコ
ーティング電極を生成する方法。
活性な多孔性ニッケル表面がニッケルおよび可溶性成分
の合金から可溶性成分例えばアルミニウムまたは亜鉛を
選択的に溶解させることによって製造しうろことはよく
知られている。
そのような多孔性ニッケルおよびそれを製造するための
合金は屡々それぞれラネーニッケルおよびラネー合金と
呼ばれているがこれはその発明者の名にちなんで命名さ
れたものである。
ラネーニッケルの製造のためのいくつかの具体的な方法
およびこの物質の種々の用途は過去において提案されて
いる。
米国特許第4,049,580号明細書にはニッケル基
質をアルミニウムまたはアルミニウムーニッケル合金で
コーティングすることによる支持されたラネーニッケル
触媒の製法が提案されている。
この方法はニッケル基質上に厚いN 1 kl3の層を
生成させるもので、その層はラネーニッケル触媒の前駆
体である。
この米国特許の発明者は第1欄第30〜34行において
表面コーティングとしてのNi2Al3の生成は望まし
くないと提案している。
それと対照的に、本発明者は本発明者自身の米国特許第
4,116,804号明細書に記載したように多孔性ニ
ッケル表面を有する改善された電極が少くとも660℃
の温度でアルミニウムおよびニッケルを相互拡散させて
ニッケルーアルミニウム合金(Nx2kls )層を生
成させ、これからその後でアルミニウムを選択的に溶解
させることを包含する方法によって製造できることを発
見した。
この電極は、塩水からの水素、塩素および苛性物を製造
するための電解セル中のカソードとして使用される場合
異常に低い水素過電圧を示す。
米国特許第3,407,231号明細書また、ニッケル
アルミニド(Ni2A13)の層を生成させ、そして次
いで苛性溶液で拡散したアルミニウムを溶解させること
による陰極の製造法をも開示している。
ラネーニッケル触媒から製造された多くの従来技術電極
は良好なカソードであるけれども本発明者は安価に製造
できて顕著な機械的強度と長い使用寿命とを有ししかも
低い水素過電圧の故にクロールアルカリプラント中での
電力消費を減少させるような電極に対する研究を継続し
てきた。
本発明は、ダイヤフラムまたは膜セパレーターのどちら
かを有する水または塩水電解セル中のカソードとして使
用するための改善された電極を与えるものである。
この電極は高い活性を有し、異常に低い水素過電圧を示
し、そして低い製造コストと共に顕著な機械的強度を有
している。
本発明の電極は、まずN i kl’3とNi3Bの粉
末混合物よりなるペーストを調製することによって製造
される。
このペーストはその粉末をエチレンクリコール共重合体
へキシルカルビトールベヒルー溶媒系と混合することに
よって製造される。
本発明はまた、伝導性金属コアと電気的に性触状態にあ
るニッケルと混合せしめられた活性多孔性ニッケルの連
続表面層を形成させるための改善された方法を提供する
この方法は、このペーストのスプレー、刷毛塗りまたは
浸漬により前記のペースト混合物を適用し、そして次い
でこの組成物を125℃で乾燥させることを包含する。
その後でこのベヒクルを325℃で蒸焼させる。
空気中における550℃での焼成は、表面コーティング
のNi3B成分をニッケルおよびB2O3に変換させる
その後の窒素中での900℃での焼結は、B2O3の薄
い上層を伴なうN 12A13およびN1AA2Bの前
駆体コーティングを生成させる。
この金属間コーティングは約100μ扉厚さであるそし
てこれをその後で水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウ
ムの作用を受けしめて、溶解によって金属間アルミニウ
ムおよび金属間硼素の60〜90多ならびに残存B2O
3を除去する。
最後に、コーティングをN a N 03またはH20
□で処理してそのコーティングが乾燥された場合にそれ
が酸化に対して安定であるようにする。
ベースコーティングの分析はそれが電極表面上のニッケ
ルおよびラネーニッケルの混合物であることを示す。
この方法は大規模処理に容易に適応可能な制御容易な操
作を提供する。
更に、それは最小の解体を以って現存する塩水電解セル
を後取付け(retrof−1tting)するための
非常に低コストの有効な手段を提供する。
カソード基材質は任意の便利な形状の形態の有孔性金属
、展延された金属またはスクリーンでありうる。
スクリーン基質は工業的塩水加水分解に対して好ましい
この基質材料はクロールアルカ1J3Jj境中での長期
作業を可能ならしめるに充分な機械的強度および腐食抵
抗性を有しているべきである。
塩水電解セル中に一般に使用されるカソード材は軟鋼ま
たは低炭素鋼でありそしてこれは、本発明における好ま
しい基質材料である。
すべてのコーティング操作の前に溶媒洗浄によってスチ
ール基質の表面のすべての油分、グIJ−スおよびごみ
の沈着物を完全に除去する。
この後で、スチールをグリッドブラスト処理して表面に
応力を加えそしてそれによって以後に適用されるコーテ
ィングの装着性を改善させる。
スチールのコーティング用に使用されるペーストは0.
5〜25μmサイズ範囲のNi3BおよびN I A1
1s各粉末の混合物を包含しているのがその好ましいサ
イズ範囲は1〜10μmである。
全固体弁に関しては、Ni3B含量は20〜60重量多
範囲モしてN i Al13は40〜80重量多範囲で
変動すべきである。
この限界外の組成物は機械的に弱い(不充分なNi3B
の場合)かまたは比較的不活性(不充分なN 1kl1
3の場合)カソードを与える。
好ましい範囲は30〜50重量多のNi3Bおよび50
〜70重量饅のN 1Alsである。
その理由は優れた機械的強度を有する高度に活性なコー
ティングの発現を可能ならしめるのはこの組成範囲だか
らである。
機械的混合によって金属間粒子を不活性有機液体ベヒク
ルと混合してペースト様組成物を生成させる。
使用しうる有機液体ベヒクルの例は脂肪族アルコール、
そのようなアルコールのエステル例えばアセテートおよ
びプロピオネート、テルペン例えば松根油、テルピネオ
ールその他、溶媒例えば松根油およびエチレングリコー
ルモノアセテートのモノブチルエーテル中の樹脂例えば
低級アルコールのポリメタクリレートの溶液またはエチ
ルセルロースの溶液である。
このペーストの好ましいベヒクル成分はへキシルカルピ
トールに溶液された(20重量係)エチレングリコール
共重合体を包含している。
このベヒクル/固体比は1:4〜1:8の範囲に保たれ
るべきであり、そして好ましい範囲は1:5〜1:6で
ある。
これらの限界外では、不充分な粒子分散および湿潤化(
1:8以下)およびコーティング間の劣ったペースト接
着性(1:4以上)についての問題が経験される。
前記数字は1:25〜1:30のエチレングリコール共
重合体/固体比の好ましい範囲に解される。
ペーストの全溶媒(ヘキシルカルピトール)含量は50
重量係(この時点ではスラリー)を越えるべきではない
この水準以上ではその物質は極めて希薄となりそして所
望のコーティング厚さを構成するためにはあまりに多数
回のコーティング操作を必要とする。
更にスラリーの均質性の保持は非常に困難でありそして
固体は速やかに容器底部に沈降する。
実際の溶媒含量は大部分は使用されるべきコーティング
の様式に依存する。
例えばスプレーは35〜50重量φの溶媒含量を要求す
るが、一方刷毛塗りペイントはより濃厚な組成物、従っ
てより低い(すなわち20〜40重量多の)溶媒水準を
要求する。
浸漬コーティング用組成物は更により少い溶媒を要求す
る10〜35重量饅の範囲が適当である。
適用法には関係なしに最終コーティングは一連のコーテ
ィングおよび乾燥(125℃、空気中)操作の後でのみ
発現されるべきである。
一段階で仕上りコーティング厚さを適用することは望ま
しくない。
そのような方法は、多層法から生成されるものに比べて
一層緻密さの小さくそしてそれ程良好に焼結されていな
いコーティングを生成する結果となる。
最適性質のコーティングの発現には少くとも3個のコー
ティング段階が要求される。
少くとも100μmの乾燥コーティング厚さが望ましい
コーティングした基質を次いで一連の3回の加熱処理に
かけるが、その第1のものはベヒクル焼却のための10
〜30分間の275〜350℃での空気焼成である。
燃焼条件は臨界的ではない。好ましい条件は前記のもの
である。
第2の加熱処理は硼素化ニッケル(Ni3B)のニッケ
ル金属および酸化硼素(B203)への変換を包含する
これは空気中でそして500〜600’Cの温度範囲で
10〜40分の時間範囲で実施することが好ましい。
450℃以下の温度ではこの反応の進行は遅すぎ、そし
て往々にして不完全である。
650℃以上の温度ではB2O3により与えられる保護
は破壊し始め、そして若干のニッケルの酸化が生ずる。
第3の熱処理はニッケル粒子の焼結、およびそれと同時
にニッケルとの反応によるN t2A4の前駆体層を形
成するN1AA3粒子の反応性結合を包含する。
存在するB2O3は焼結促進剤として働き、そして80
0℃の低い焼結温度の使用を可能ならしめる。
焼結は窒素または還元性雰囲気中で、好ましくは800
〜900℃の温度範囲でそして10〜20分(温度に応
じて)の時間実施される。
750℃以下では120〜180分後でさえも非常にわ
ずかな焼結しか行われず、そして得られる構造は機械的
に弱く、そしてスチールに対して劣った接着のものであ
る。
950℃以上ではN i A13とニッケルとの間の反
応は非常に早く、すなわち5分以下であり、その結果条
件は非実際的である。
そのような温度においてより長時間滞留させることは、
アルミニウム欠損N 12A z a (40重量%A
ffl )およびNiAlを排他的に形成させる結果と
なり、これら両者は最終電極の活性に対して致命的であ
りうる。
化学量論的にNiA12Bに合致する第2の化合物は、
N 12A4と共に前駆体構造物中に存在している。
それ自体活性多孔質ニッケルに対する前駆体でありそし
て従ってNi2Al3と同様にカソードコーティングの
活性に対して有利であるこの相の起源はまだ確立されて
いない。
しかしながらX線回折データは、NiA12Bの比率が
焼結時間の上昇につれて上昇すること、そしてこの理由
の故にNiA12BがN t2 A4とB2O3との間
の相互作用すなわち 2Ni2A4+B203=2NiA12B+2A120
3+2Ntの結果に形成される可能性があることを示唆
している。
前駆体(プレカーサー)構造中でのNi2Al3とN1
A72Bとの間の相対比はカソード活性の決定において
は臨界的因子ではない。
コーティングの焼成厚さは少くとも100μmであるべ
きである。
しかしながら最も好ましい厚さ範囲は150〜300μ
mの間である。
多孔質ニッケルコーティングの発現における次の段階は
、コーティング中の金属間アルミニウムおよび金属間硼
素の少くとも60重量多、しかしながらより好ましくは
80〜95重量φの溶解による除去である。
一般に強塩基例えばNaOH。KOHまたはその他の金
属間アルミニウムおよび金属間硼素を溶解しうる強塩基
性溶液がこの浸出段階で使用される。
この浸出を5〜40重量係のNaOHを含有する水性苛
性溶液中でそして25℃〜105℃の温度において実施
することが好ましい。
しかしながら最も極端な条件の採用すなわち105℃で
40重量φのNaOHを使用して溶解を開始させること
は望ましくない。
その理由は反応の激しさがコーティングに対して機械的
損傷を生せしめるからである。
その代りに、次のタイプの2段階または3段階操作を使
用して進行させるのがはるかにより望ましい。
10重量饅NaOH1室温、4時間かけて50℃に上昇
、 20重量%NaOH160℃、4時間かけて80℃とし
、そして 40重量%NaOH190℃、6時間かけて105℃と
する。
浸出後、活性ニッケルコーティングは空気に露出された
場合発熱する傾向を示しうる。
この自己発熱傾向は多分自然発火の問題を招来しうる。
しかしながら多孔質ニッケル層の化学的に処理する任意
の段階を使用してこの潜在的問題をなくすることができ
る。
この化学的処理に対する便利な方法としては、多孔質ニ
ッケルを少くとも1時間通常は4時間以下例えば重量基
準で(a) 3 % N a N Osまたは(b)
3 % K2 Cr207または(c)3%NaClO
3および10 %NaOH,または(d) 0.2 %
H202を含有する着水性溶液に浸すことを包含する
本発明のカソードは塩水、水その他の電解のために意図
されているセルのカソードとして有用である。
この電極は塩水電気分解セル中での使用に対して特に好
ましく、その間、表面コーティングの高い電気化学的活
性は意図されている使用の間一定に留まっている。
この電極が塩水電気分解ダイヤフラムセル中での使用に
対して意図されている場合には、そのダイヤフラム(隔
膜)を直接コーティングの表面に適用することができる
例えば、チューブの内側に一定の吸引を使用しつつチュ
ーブ状スクリーン電極をポリテトラフルオロエチレン繊
維およびアスベスト繊維の水性分散液に浸すことができ
る。
所望の厚さのダイヤフラムが形成されるまで繊維をスク
リーンの外側表面上に吸引させる。
吸引の除去後、例えば95℃に5時間加熱することによ
って水をこの集成体から除去する。
ダイヤフラムの形成を完結させるためには、この集成体
を次いで350°Cに約1/2時間不活性雰囲気中で加
熱する。
当技術分野では既知のように、そのようなダイヤフラム
の満足すべき操作寿命は塩水電気分解セルのカソードの
寿命はど長くはない。
経済性の面からするとそのダイヤフラムをカソード操作
寿命の間数回はとりかえなくてはならない。
本発明の電極が使用される場合には、そのダイヤフラム
はコーティングの表面から容易に剥離されそしてこれは
電極の電気化学的活性またはその機械的性質に有害な作
用を与えることなく数回置換されることができる。
その他のダイヤフラム物質および膜物質を使用して、同
様の満足すべき結果が得られる。
塩素、水素および苛性物を生成するための通常の工業用
塩水電気分解セルは、通常カソード物質として軟鋼を使
用している。
l l 5 mA/i(IA/平方インチ)の典型的操
作条件下では、そのような軟鋼カソードは約0.23V
の水素過電圧を有している。
この過電圧の低下はエネルギー消費およびコストにおけ
る有意の節約を与えうる。
本発明のカソードは、通常の軟鋼カソードに対して置換
された場合、それらが電圧要求を有意に低下させる効果
を与えるという点でそのような節約を与える。
次の実施例においては、すべての咎は特に記載されてい
ない限りは重量基準である。
例I 31.6俤のN 13 B粉末、50.1係のNiAl
3粉末および14.3%のベヒクル(ヘキシルカルピト
ール中20優のエチレングリコール共重合体)およヒ更
に4φ・\キシルカルピトールを含有するペースト組成
物を完全に混合しそして次いで3本ロールミル上でブレ
ンドした。
このミル処理操作は4回の通過よりなっていた。
第1のものはロール圧力3.4kg/ff1(50pi
s)であり、第2のものは6.8kg/ff1(100
psi)、そして第3および第4のものは13.6kg
/crit< 200 psi)であった。
軟鋼クーポンをパークロルエチレンで溶媒洗浄し、そし
て2kg/i(30psi)で+60 Al2O3グリ
ッドでグリッドブラスト処理した。
次いで6.45i(1平方インチ)に相当するこのクー
ポン上の面積を前記組成物でスクリーン印刷して約50
μmの厚さを有するコーティングを生成させた。
このコーティングを次いで、125°Cに20分加熱す
ることにより乾燥した。
次いで前記の方法をコーティング厚さ250μmが達成
されるまでくりかえした。
次いでこのコーティングしたスチールクーポンを325
℃に15分間加熱して有機ベヒクルを燃焼させた。
この後でその温度を550°Cに上昇させ、そしてクー
ポンをこの温度に30分保持してNiおよびB2O3へ
のN + 3 Bの変換を行わしめた。
最後にこのクーポンを窒素炉に移し、そして900℃に
20分間加熱してNiおよびN I A、es粗粒子焼
結させそしてN12A4(およびN r A12B )
にそれらを変換させた。
この処理の後で、クーポンを窒素流れ中で30分冷却せ
しめ、その後でそれを炉から取出しそして空冷させた。
次いで10φNaOH水溶液に4時間の間(この間その
溶液温度を常温から50°Cに上昇させた)浸すことに
よって金属間アルミニウムおよび金属間硼素を浸出させ
るためにこのコーティングしたクーポンを処理した。
水素ガス発生の停止後、このクーポンを60℃に保持さ
れた水中の20φNaOHの第2の溶液に移し、そして
4時間の間浸出させたが、この間その温度を80℃に上
昇させた。
最後に第3段階ではこのクーポンを105〜110°C
の40悌NaOH中で3時間煮沸した。
その後ではそれ以上の水素ガス発生は観察されなかった
処理されたクーポンを、12%NaOHおよび16%N
aClを包含するカソード液を使用して96°Cで操作
されている電気化学セル中のカソードとした。
70,145および290 mA/c11!L(0,4
7,0,94および1.88A/平方インチ)の電流密
度でラギン(Luggin)カビラリ−の使用によって
飽和カロメル電極に対するカソード電位を測定した。
測定されたカソード電位はそれぞれ1.110 、1.
121および1.135Vであった。
セル中のカソードとして使用された未処理軟鋼クーポン
は同一の基準において1.287 、1.358および
1.422Vのカソード電位を生じた。
例■ 25.3φのNt3B粉末、40.2優のNiAl3粉
末、11.4%のベヒクル(例Iと同一)および更に2
3.1俤のへキシルカルピトールを含有するペースト組
成物を完全に混合しそして次いで3本ロールミル上でブ
レンドした。
このミル処理操作は4回通過よりなっていた。
最初の二つのものはロール圧力6.8kg/i(100
pis)でありそして第3および第4のものは13.6
kg/ff1(200psi)であった。
軟鋼クーポンをパークロル−エチレンで溶媒洗浄し、そ
して2kg/CrIL(30psi)で4l−60A1
203グリツドでグリッドブラスト処理した。
6.45ffl(1平方インチ)に相当するこのクーポ
ン上の面積を次いで前記組成物で刷毛塗りして約25μ
mの厚さを有するコーティングを生成させた。
このコーティングを次いで125℃で10分乾燥させた
次いで前記の方法をコーティング厚さ約250μmがス
チール基質表面に達成されるまでくりかえした。
以後のすべての処理は例Iに記載されている詳細に従っ
て実施された。
次いで処理されたクーポンを、12%NaOHおよび1
6φNaClを包含するカソード液を使用して96℃で
操作されている電気化学セル中のカソードとした。
57,170および283 mA/ff1(0,37,
1,10および1.83A/平方インチ)の電流密度で
ラギンカピラリーの使用によって飽和カロメル電極に対
するカソード電位を測定した。
測定されたカソード電位はそれぞれ1,115゜1.1
29および1.138Vであった。
未処理軟鋼クーポンは同一の基準において1.249
、1.367および1.419Vのカソード電位を生成
した。
例■ 35.9饅のN i3 B粉末、41.9係のN i
Ala粉末、13.6%のベヒクル(例Iと同一)およ
び更に8.6%のへキシルカルピトールを含有するペー
スト組成物を完全に混合し、そして次いで3本ロールミ
ル上でブレンドした。
このミル処理操作は4回通過よりなっていた。
最初の二つのものはロール圧力3.4kg/c1?L(
50psi)であり、第3のものは6.8 kg/cy
rt (100ps i )でありそして第4のものは
13.6kg/cI?t(200psi)であった。
0.228crrL(0,09σ′)の平均ワイヤ直径
を有する6メツシユ軟鋼スクリ一ン1平方インチ(6,
45i)をパークロルエチレンで溶媒洗浄し、そして2
kg/ff1(30psi)で参60A6203グリッ
ドでグリッドブラスト処理した。
次いでこのスクリーンをこのペーストに浸漬し、2秒ま
たは3秒後に取出しそして次いで過剰の物質が滴落し去
るまで垂直位置に放置した。
約35μmのコーティング厚さが、125℃において1
5分乾燥後に達成された。
前記の方法を次いで約250μの合計コーティング厚さ
がスクリーン表面に達成されるまでくりかえした。
以後のすべての処理は例■に与えられている方法に従っ
て実施された。
このコーティングされたスクリーンに関して74.14
9および248mA/ff1(0,48,0,96およ
び1.6OA/平方インチ)の電流密度で飽和カロメル
電極に対するカソード電位を測定した。
1.119 、1.124および1.131Vのカソー
ド電位値が得られた。
同一基準で未処理軟鋼スクリーンはそれぞれ1.320
,1.400および1.450Vのカソード電位を与え
た。
例■ 例Iに示されている方法に従って試料を製造した。
唯一の違いは焼結温度が800℃でありそして焼結時間
が90分であることであった。
コーティングした物質に関するカソード電位測定は11
3,170および226 mA/ff1(0,73。
■、10および1.46 A/平方インチ)の電流密度
で飽和カロメル電極に対して実施された。
1.123゜1.132および1.139■のカソード
電位値が得られた。
同一基準において未処理軟鋼クーポンは1.318,1
.369および1.407Vのカソード電位を示した。
例■ 例■に示されている方法に従って試料を製造した。
唯一の違いは焼結温度が800℃でありそして焼結時間
が90分であることであった。
コーティングしたスクリーンに関するカソード電位測定
は74.149および248mA/i(0,48,0,
96および1.6OA/平方インチ)の電流密度で飽和
カロメル電極に対して実施された。
1.126 、1.134および1.140V(7)カ
ソード電位値が得られた。
同一基準において未処理軟鋼スクリーンはそれぞれ1.
320.1.400および1.450Vのカソード電位
を示した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 本質的に40〜80重量係の式N i kl aの
    金属間アルミニウムおよび20〜60重量多の弐N15
    Bの金属間硼素を含有する固体混合物および有機液体ベ
    ヒクルよりなり、しかもその固体/液体ベヒクル比が4
    :1〜8:1であることを特徴とする、焼成に際して基
    質上に多孔質ニッケル被覆を形成するためのペースト組
    成物。 2 固体が30〜50重量饅のN15Bおよび50〜7
    0重量袈のNiAl3よりなる、特許請求の範囲第1項
    記載のペースト組成物。 3 ベヒクルが・\キシルカルピトールに溶解せしめら
    れたエチレングリコール共重合体である、特許請求の範
    囲第1項記載のペースト組成物。 4 固体/エチレングリコール共重合体比が25:1〜
    30:1である、特許請求の範囲第3項記載のペースト
    組成物。
JP56007325A 1980-01-22 1981-01-22 多孔質ニッケル被覆形成用ペ−スト組成物 Expired JPS5832233B2 (ja)

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