JPS5828834A - フオトリソグラフイ−における現像装置 - Google Patents
フオトリソグラフイ−における現像装置Info
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- JPS5828834A JPS5828834A JP12634881A JP12634881A JPS5828834A JP S5828834 A JPS5828834 A JP S5828834A JP 12634881 A JP12634881 A JP 12634881A JP 12634881 A JP12634881 A JP 12634881A JP S5828834 A JPS5828834 A JP S5828834A
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- JP
- Japan
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- wafer
- cup
- air
- cover
- route
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置の製造に多用されるフォトリソグラ
フィーにおける現像装置に関する。
フィーにおける現像装置に関する。
半導体装置の製造に際しては、半導体ウエハ−中に不純
物を選択的に拡散する上程や、半導体ウェハー表面ある
いはその上に被着された金属層を選択的にエツチングす
る所謂フォトリソグラフィー上程が繰り返し行なわれる
。このフォトリソグラフィーはウニへ−表向に形成され
た所定のレジストパターンをマスクとして行なわれるの
が普通であり、該レジストパターンはウエハー表面に塗
布されたフォトレジスト膜にフォトマスクの所定パター
ンを紫外線露光等により転写した後、これを現像するこ
とにより形成されている。
物を選択的に拡散する上程や、半導体ウェハー表面ある
いはその上に被着された金属層を選択的にエツチングす
る所謂フォトリソグラフィー上程が繰り返し行なわれる
。このフォトリソグラフィーはウニへ−表向に形成され
た所定のレジストパターンをマスクとして行なわれるの
が普通であり、該レジストパターンはウエハー表面に塗
布されたフォトレジスト膜にフォトマスクの所定パター
ンを紫外線露光等により転写した後、これを現像するこ
とにより形成されている。
上記フォトリソグラフィーにおける現像工程には従来第
1図(A)、(B)、(C)に示す現像装置が使用され
ている。第1図(A)は現像装置に用いられるカップの
平面図であり、第1図(B)は同図(A)のB−B線に
沿う断面図である。これらの図に示すように、カップ1
は上方に拡開した皿状の形状を有し、その底部にはウェ
ハー固定用のチャックを製布するための開孔部2が形成
されている。また底部周縁には複数の小孔3が形成され
ている。そして、このカップJは第1図(Cつに示すよ
うに七の開化部2に真空チャック4を嵌装した状態で現
像装置として用いられる。該真空チャック4の内部(二
は頁空吸引用の吸引路5が設けられており、この吸引路
5は分岐して真空チャック5の表面に開口している。ま
た、カップ1の外側には図示しない更に大きな第2のカ
ップが設けられていて、その底部に設けられた吸引ダク
トから真空吸引されるようになっている。
1図(A)、(B)、(C)に示す現像装置が使用され
ている。第1図(A)は現像装置に用いられるカップの
平面図であり、第1図(B)は同図(A)のB−B線に
沿う断面図である。これらの図に示すように、カップ1
は上方に拡開した皿状の形状を有し、その底部にはウェ
ハー固定用のチャックを製布するための開孔部2が形成
されている。また底部周縁には複数の小孔3が形成され
ている。そして、このカップJは第1図(Cつに示すよ
うに七の開化部2に真空チャック4を嵌装した状態で現
像装置として用いられる。該真空チャック4の内部(二
は頁空吸引用の吸引路5が設けられており、この吸引路
5は分岐して真空チャック5の表面に開口している。ま
た、カップ1の外側には図示しない更に大きな第2のカ
ップが設けられていて、その底部に設けられた吸引ダク
トから真空吸引されるようになっている。
上記現像装置を用いてウェハー表面のフォトレジスト膜
に転写された潜像を現像するに際しては、第11図に(
C)に想像線で示すようにウエハ−5を真吸チャック4
に吸引固定し、その上から現像液をスプレーする。この
とき、前記図示しない第2のカップの底面からは真空吸
引されているためウエハーの裏面側か表面側よりも減少
となる。従って、ウエハー周囲の雰囲気と共に現像液が
ウエバー表面から裏面に廻り込んで付着し、その後の工
程に悪影脅を及ぼすという問題があった。
に転写された潜像を現像するに際しては、第11図に(
C)に想像線で示すようにウエハ−5を真吸チャック4
に吸引固定し、その上から現像液をスプレーする。この
とき、前記図示しない第2のカップの底面からは真空吸
引されているためウエハーの裏面側か表面側よりも減少
となる。従って、ウエハー周囲の雰囲気と共に現像液が
ウエバー表面から裏面に廻り込んで付着し、その後の工
程に悪影脅を及ぼすという問題があった。
なお、カップ1に受けられた現像液は、複数の小孔3を
通して七の外側の第2のカップに排出される。
通して七の外側の第2のカップに排出される。
不発ヅ」は上述の事情に鑑みてなされたもので、フォト
リソグラフィーの視像上程において、現像液かウェハー
の裏面に廼り込むU〕を防+l−することができる現像
装置を提供するものである。
リソグラフィーの視像上程において、現像液かウェハー
の裏面に廼り込むU〕を防+l−することができる現像
装置を提供するものである。
以上、第2図(A)〜(C)を参照して本発明の1実施
例を説明する。
例を説明する。
第2図(A)は本発明の1実施になる現像装置に用いる
カップの平面図であり、第2図(B)は同図(A)のB
−H線に沿う断面図である。これらの図に示すように
、カップ11は上方に拡開した皿形の外形を有するカッ
プ本体12と、その上部(二設けられた。に体13とか
らな−っている。カップ本体12の底面および蓋体)3
にはウェハー固定用チャックを嵌装するための開孔部1
4゜15が形成されている。また、蓋体14には複数の
空気噴出孔16が形成されている。
カップの平面図であり、第2図(B)は同図(A)のB
−H線に沿う断面図である。これらの図に示すように
、カップ11は上方に拡開した皿形の外形を有するカッ
プ本体12と、その上部(二設けられた。に体13とか
らな−っている。カップ本体12の底面および蓋体)3
にはウェハー固定用チャックを嵌装するための開孔部1
4゜15が形成されている。また、蓋体14には複数の
空気噴出孔16が形成されている。
上記カツブ11は第2図(C)に示すように、その開孔
部14、15に真空チャック17を嵌装した状態で現像
装置として用いられる。該真空チャック17の内部には
真空吸引用の吸引路18か設けられており、この吸引路
18は分岐して真空チャック17のウニへ−固定面に開
口している。また、真空チャック17の内81日:は吸
引路18とは別に、空気供給路19が設けられており、
この空気供給19はカップ11の内部に開口している。
部14、15に真空チャック17を嵌装した状態で現像
装置として用いられる。該真空チャック17の内部には
真空吸引用の吸引路18か設けられており、この吸引路
18は分岐して真空チャック17のウニへ−固定面に開
口している。また、真空チャック17の内81日:は吸
引路18とは別に、空気供給路19が設けられており、
この空気供給19はカップ11の内部に開口している。
なお、この現像装置では、カップ11の外側に、図示し
ない更に大きな第2のカップが設けられていて、七の底
部に設けられた1間引ダクトからの吸引により、該第2
−のカップに受けられた現像液を排出するようになって
いる。
ない更に大きな第2のカップが設けられていて、七の底
部に設けられた1間引ダクトからの吸引により、該第2
−のカップに受けられた現像液を排出するようになって
いる。
上記現像装置を用いてウエハー表面のフォトレジスト膜
に転写された潜像を現像するに際しては、吸引路18を
曲しての真空吸引により。
に転写された潜像を現像するに際しては、吸引路18を
曲しての真空吸引により。
図中想像線で示すようにウエハー20を真空チャック1
7のウエハ−固定面に吸引固定する。
7のウエハ−固定面に吸引固定する。
そして、空気供給路19から図中矢印で示すように空気
を供給しながらウエハー20に現像液をスプレーして現
像を行なう。このとき、カップ11内に送り込まれた空
気は蓋体13に設けられた空気噴出孔16から噴出し、
ウエハーの裏面に沿ってその半径方向外方に流れる空気
流を生じる。従って、この空気流により、スプレーされ
た現像液がウェハー20の裏面に廻り込んで付着するの
を防止することができる。
を供給しながらウエハー20に現像液をスプレーして現
像を行なう。このとき、カップ11内に送り込まれた空
気は蓋体13に設けられた空気噴出孔16から噴出し、
ウエハーの裏面に沿ってその半径方向外方に流れる空気
流を生じる。従って、この空気流により、スプレーされ
た現像液がウェハー20の裏面に廻り込んで付着するの
を防止することができる。
なお、」−記実旋例では、カップ1〕内に空気を送り込
むための供給路19を真空チャック17の内部(二設け
ているが、これは真空チャックとは>J11個に設けて
もよい。例えば、カップ11に空気の原反[1を設け、
該流入口(二空気の送給管を収り付けてもよい。
むための供給路19を真空チャック17の内部(二設け
ているが、これは真空チャックとは>J11個に設けて
もよい。例えば、カップ11に空気の原反[1を設け、
該流入口(二空気の送給管を収り付けてもよい。
また、真空チャック1−7の代わりにウェハー20を機
械的に孫子固定する方式のウェハーチャックを用いるこ
ともできる。
械的に孫子固定する方式のウェハーチャックを用いるこ
ともできる。
更に、空気の代わりに♀素ガス、不活性カス−1とを用
いてもよいことは占°うまでもない。
いてもよいことは占°うまでもない。
以−1−詳述したように1本発明の現像装置(二よれば
、現像液がウェハーの裏面に廻り込んで付]kfするの
を防止し、もって以後の製造工程を良好に実施できる等
、顕著な効果な萎するものである。
、現像液がウェハーの裏面に廻り込んで付]kfするの
を防止し、もって以後の製造工程を良好に実施できる等
、顕著な効果な萎するものである。
第1図(A)は従来の現像装置におけるカップの平面
図、第1図(B)は同図(A)のB−B線に沿う断面図
、第1図(C)は同図(A)、(B)のカップと真空チ
ヤックを組み合わせた従来の現像装置の断面図、第2図
(A)はホン発明の1実施例になる現像装置におけるカ
ップの平面図、第2図(B)は同図(A)のBーBに沿
う断面図、第2図(C)は同図(A)、(B)のカップ
と真空チャックとを組み合わせた本発明の1実施例にな
る現像装置の断面図である。 11 ・・カツフ゛、12・・・カップ本体、13・・
・蓋体、14.15・・・開孔部、16・・・空気噴出
孔。 17・・・真空チャック、18・・・吸引路、19・・
・空気供給路、20・・・ウェハー。
図、第1図(B)は同図(A)のB−B線に沿う断面図
、第1図(C)は同図(A)、(B)のカップと真空チ
ヤックを組み合わせた従来の現像装置の断面図、第2図
(A)はホン発明の1実施例になる現像装置におけるカ
ップの平面図、第2図(B)は同図(A)のBーBに沿
う断面図、第2図(C)は同図(A)、(B)のカップ
と真空チャックとを組み合わせた本発明の1実施例にな
る現像装置の断面図である。 11 ・・カツフ゛、12・・・カップ本体、13・・
・蓋体、14.15・・・開孔部、16・・・空気噴出
孔。 17・・・真空チャック、18・・・吸引路、19・・
・空気供給路、20・・・ウェハー。
Claims (1)
- ウェハー固定用チャックの周囲にカップを嵌装したフォ
トリソグラフィーにおける現像装置において、前記カッ
プに複数の気イオ噴出孔を有する環状の蓋体を設ける共
に、このカップ内に連通した気体供給路を設けたことを
特徴とするるフォトリングラフィーにおける現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12634881A JPS5828834A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | フオトリソグラフイ−における現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12634881A JPS5828834A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | フオトリソグラフイ−における現像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5828834A true JPS5828834A (ja) | 1983-02-19 |
Family
ID=14932940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12634881A Pending JPS5828834A (ja) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | フオトリソグラフイ−における現像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5828834A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02303047A (ja) * | 1989-05-18 | 1990-12-17 | Shioya Seisakusho:Kk | ウエハチヤツク方法及び装置 |
-
1981
- 1981-08-12 JP JP12634881A patent/JPS5828834A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02303047A (ja) * | 1989-05-18 | 1990-12-17 | Shioya Seisakusho:Kk | ウエハチヤツク方法及び装置 |
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