JPS5826117B2 - ライン・アドレス可能な直列−並列−直列記憶アレイ - Google Patents

ライン・アドレス可能な直列−並列−直列記憶アレイ

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JPS5826117B2
JPS5826117B2 JP54154542A JP15454279A JPS5826117B2 JP S5826117 B2 JPS5826117 B2 JP S5826117B2 JP 54154542 A JP54154542 A JP 54154542A JP 15454279 A JP15454279 A JP 15454279A JP S5826117 B2 JPS5826117 B2 JP S5826117B2
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    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • G11C19/287Organisation of a multiplicity of shift registers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
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    • H01L27/105Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration including field-effect components
    • H01L27/1057Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration including field-effect components comprising charge coupled devices [CCD] or charge injection devices [CID]

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はデータを直列ビット・ストリームとして入れ直
1列ビット・ストリームとして取出すような電子的デー
タ記憶アレイに関し、更に具体的には、直列−並列−直
列方式の記憶装置としてもライン・アドレス可能な方式
の記憶装置としても動作可能であり、従ってデータを複
数のモードで直列ビット・ストリームとして書込んだり
読取ったりすることができる記憶アレイに関する。
本発明の目的は直列−並列−直列方式のデータ記憶装置
の特徴とライン・アドレス可能な方式のデータ記憶装置
の特徴を兼ね備えた改良された電子的データ記憶装置を
提供することである。
他の目的は電荷結合装置(CCD)でつくられた改良さ
れた電子的データ記憶装置を提供することである。
他の目的は直列データを複数のモードで読取ることがで
きる改良された電子的データ記憶装置を提供することで
ある。
CCDはデータ記憶装置として知られているが。
CCDは主としてシフト・レジスタ型の記憶装置で用い
られ、そしてデータをシフト・レジスタの一端から直列
ビット・ストリームとして入れシフト・レジスタの出力
端から直列ビット・ストリームとして読取るように用い
られる。
CCDを用いた記憶装置の1つの重要な方式は直列−並
列−直列(SPS)構成のCCDシフト・レジスタを用
いたものである。
このようなCCD記憶装置は入力直列レジスタ、並列レ
ジスタ部分及び出力直列レジスタを含み、データは入力
直列レジスタに1度に1ビツトずつ直列に入れられる。
入力直列レジスタのデータは並列レジスタ部分に並列に
転送される。
このデータは並列レジスタ部分の1行のデータに相当す
る。
並列レジスタ部分は典型的には複数行を含み、並列レジ
スタ部分のデータは行単位に転送される。
実際には、個々のビットは通常列と呼ばれる夫々のチャ
ネルに沿って伝搬する。
これらの列は行と直交する。データは並列レジスタ部分
の最後の行から出力直列レジスタへ転送され、出力直列
レジスタから1ビツトずつ直列に読取られる。
出力は次に利用装置に送られるか、あるいはデータを維
持するように入力直列レジスタの入力へ循環される。
上述したようなSPS方式のCCD記憶装置はその固有
の欠点と共に、いくつかの利点を有する。
利点は、記憶密度が高いこと、記憶ビット当りのコスト
が低いこと、電力消費が少ないことなどである。
主な欠点は、データ・ビットの書込み順序でしかデータ
・ビットを読取ることができないため待ち時間が長いこ
とである。
従って、入力直列レジスタに書込まれたばかりのデータ
を利用装置が要求しても、記憶装置がほぼ1サイクルし
なければ、希望する情報が出力直列レジスタに得られな
いことになる。
データのアクセスにランダム性を与えるためライン・ア
ドレス可能な(LA)方式の記憶アレイが開発された。
LA方式のアレイの場合、データはSPS構成における
並列レジスタ部分の列に対応する形で設けられたシフト
・レジスタ・ラインに挿入されそこから読取られる。
1つの可能性のある実施方法は1つ置きの列がデータを
反対方向に伝搬するように構成し、そして各列対で連続
的なループを形成するものである。
LA方式のアレイは並列に動作するこのようなループを
多数含む。
その名前が暗示するとおり、LA方式のアレイは任意の
選択された列即ちループからデータを読取れるという融
通性を有する。
従って利用装置は所望のデータに直らにアクセスできる
(待ち時間ゼロ)。
しかしその反面、このような動作速度の改善はビット密
度及び電力消費を犠牲にして成り立つものであり、結果
的にビット当りのコストが高い。
従って明らかなように、SPS方式の記憶構成及びLA
方式の記憶構成はいずれも最適な条件を満たすには十分
でない。
本発明は以後説明するように、SPS方式の利点を保持
しつつLA方式の動作速度の利点をも達成しようとする
ものである。
次に図面を参照して詳細に説明する。
第1図は入力直列レジスタ10、中央の並列レジスタ部
分12及び出力直列レジスタ14を含むSPS方式の記
憶構成の概略図である。
このような構成はしばしば直列−並列遷移領域16及び
並列−直列遷移領域18を含む。
このようなSPS構成のためのゲート装置、タイミング
装置及び電荷供給装置は周知であり、ブロック20によ
り一般的に表わされている。
電荷検出装置及び増巾装置も周知であり、これらは感知
増巾器ブロック22として一般的に示されている。
制御入力端子の信号は直列レジスタ10の最初のビット
位置にデータ入力端子の新しいデータが入力されるべき
であるか又は感知増巾器22からの循環データが入力さ
れるべきであるかを決める。
必要なら、循環モードの場合でも、データ出力端子にお
いて同時にデータを利用できる。
本発明の記憶アレイは標準のSPSアレイとして完全に
動作できる。
通常のように、データ・ビットは入力直列レジスタ10
に左から右へ直列に入れられる。
所望数のビットがレジスタ10に入れられたら、これら
のビットは直列−並列遷移領域16を介して並列に並列
部分12に転送される。
次にレジスタ10には新たなデータが入れられ、このデ
ータは次いで直列−並列遷移領域16を介して並列部分
12の最初の行に移される。
前に並列部分12の最初の行に入れられたデータは2番
目の行に転送される。
このようにして並列部分12はレジスタ10から行単位
で供給されるデータで満たされる。
最初に入れられたデータが並列部分12の最後の行に到
達すると、このデータ行は並列−直列遷移領域18を介
して出力直列レジスタ14に並列に転送される。
そしてデータはレジスタ14から1度に1ビツトずつ感
知増巾器22に出力され、更に感知増巾器22からデー
タ出力端子及び装置ブロック200Å力の両方に供給さ
れる。
循環モードでは、データ出力端子のデータは通常利用さ
れず、感知増巾器22からのデータ・ビットは装置20
を介して再び入力直列レジスタ10に入れられる。
データ・ビット・ストリームのこのような連続する循環
により、CCDの記憶情報が維持される。
本発明は前述の如<sps方式の記憶構成で普通に行な
われるようにデータを循環させるが、更に、第1図に斜
線で例示したような形でデータ・レコードを挿入し取出
そうとするものである。
説明のため、第1図ではピット位置は夫々特定の記号で
表示されている。
並列部分はN−1個の行を含み、最初の行はZのビット
を記憶し、N1番目の行はBのビットを記憶するように
示されている。
Aのビットは出力直列レジスタ14に記憶されるから、
記憶されるビットの総数は(M+1)×Nになる。
M+1はデータ行のビット数である。
各列はデータ・ビットA−Zよりなる所望のレコードを
記憶する。
斜線で示した一連のセルはデータ・レコードの挿入又は
取出しが行なわれる直列路を例示している。
斜線で示された部分のレコード2即ちA2、B2・・・
・・・Z2などのデータ・レコードは静止位置にあるも
のとして示されているが、夫々のデータ・レコードは普
通のライン・アドレス可能な構成ニおけるライン・アド
レス可能な列に類似している。
この例では入力レジスタ10はエンプティ(空の)ビッ
ト力で満たされている点に注目されたい。
本発明によれば斜線で示したビットを次の順序で読取る
ことができる。
即ち、l)’、AL A2、B2−・・−・・Z2、及
び入力レジスタ10の斜線部のガビット。
これらのビットがデータ出力端子に読取られるとき論理
回路20を介して循環するように制御されるならば、動
作の終了時は第1図に示されているビット配列が再び得
られる。
その後、A3〜Z3のような別なレコードをアドレスし
たりあるいは普通のSPS動作を用いたリフレッシュ動
作を再開することができる。
勿論、任意所望のラインがアドレスされているときは、
並列チャネルの他のすべてのビットは非活動状態即ち非
伝搬状態にある。
入力と出力の直列レジスタの斜線部には全部で(M+1
)個の余分のビットがあり、これらのビットは所望のレ
コードと共に移動するが、システムの論理回路によって
無視される。
次に第2A図〜第2F図を参照して更に詳細に説明する
第1図のものと対応する構成素子は同じ器間番号で示さ
れている。
図を簡略化するため、遷移領域16.18は省略されて
いる。
同じ理由で、ビットの表示も変更されている。
先ず第2A図において、ビットA、 B、 C,D・・
・・・・Zよりなるアレイ・レコード番号2のレコード
が、アドレスされるラインであるものとする。
これは右から3番目のアレイ・レコードであるから、利
用装置においてカウンタを利用することにより、最初の
2つのアレイ・レコードに含まれる最初のビットWE′
、Wlがアドレスされたラインのものでないということ
を見分けることができる。
従って第2B図に示されるようにビットWlは最初に取
出され入力直列レジスタ10の最初のピット位置に書込
まれる。
第2C図はすべてのビットが更に1位置だけシフトされ
てピッ)Wlが入力レジスタの最初のピット位置に挿入
された状態を示している。
第2D図において、アドレスされたラインの読取りが開
始し、ビットAが読取られる。
同じデータが循環されないような場合を例示するため、
新たなビットにが入力端子に与えられ入力レジスタ10
の最初のビット位置に置かれるものとして示されている
すべてのビットが前述のように、対応してシフトされる
以後、所望のレコードをシフトして取出しつつ新たなビ
ットを挿入する動作が続けられると、第2E図の状態に
なる。
第2E図では、最後のビットzがデータ出力端子に与え
られ、新たなビットZ′が入力レジスタ10の最初の位
置に挿入されている。
所望のレコード2の読取りはこの時点で完了するが、デ
ータ・ビットを元のビット配列状態に戻すためには更に
数サイクル必要である。
元の位置に戻した状態は第2F図に示されており、出力
レジスタのピッ)WQ、WL及び入力レジスタのyピッ
トは元の状態に戻り、元のレコード2のピッ)A、 B
、 C,D・・・・・・Zは新たに挿入されたビットA
I、B′、C’、 D’・・・・・・2/で置換されて
いる。
このようにsps方式の記憶プレイは所望のアレイ・レ
コードをランダムにアドレスできるライン・アドレス可
能なモードで動作できる。
この構成によれば待ち時間を減少できる利点が得られる
ことが明らかである。
普通のSPSモードの動作では、第1図の並列部分の一
番上のレコードZの取出シが望まれる場合は、アレイ全
体がアクセスされるまで待機する必要がある。
しかし本発明のLA−8PSモードの動作によれば、最
悪の場合の待ち時間でもわずかMビットのシフト時間に
すぎない。
第1図に例示した場合では、待ち時間はビットA、0′
及びA1の2ビツトのシフト時間だけである。
勿論、データを元の状態に戻して動作を完了させるには
更にシフトする必要があるが、このシフト量はわずかで
ある。
第3図は本発明の記憶アレイで使用されるCCDレジス
タの構造の一例を例示している。
P型基板30はP生型のイオン注入不純物領域31゜3
2.33,34,35,36,37を有し、セル1、セ
ル2、セル3を含むように示されている。
各セルは、DC制御線に接続されたゲート電極、クロッ
ク相I P1線に接続されたゲート電極、及びクロッ
ク相2 P2線に接続されたゲート電極を有する。
3つの異なる電極へ3つの異なる電位レベルを印加すれ
ば、各セルに3つの異なるエネルギ・レベルがつくられ
ることはよく知られている。
しかし、ゲートの下側の一部領域にイオン注入領域を付
加すれば、そのゲートの下側に2つのエネルギ・レベル
をつくることができる。
従って、相1のゲートの下側の一部領域にイオン注入領
域31が設けられているため、このゲートの下側に2つ
の別なエネルギ・レベルをつくることができる。
同様に相2の電極の下側の一部領域にはイオン注入領域
32が設けられているため、このゲートの下側にも2つ
の別なエネルギ・レベルをつくることができる。
DC制御線に接続された電極の領域にはイオン注入領域
がないため、この領域には1つのエネルギ・レベルだけ
がつくられる。
結局、3つの電極によって各セルに全部で5つのエネル
ギ・レベルを与えることができる。
第3E図は夫々の線に印加される電位レベルを示し、第
3A図〜第3D図は夫々の時点における電位井戸及びセ
ルを通る電荷の伝搬を例示している。
第3A図〜第3E図はアレイを介して電荷が伝搬する状
態を例示しており、これはSPSモードの動作期間に各
ラインで生じる伝搬動作に対応し、またライン・アドレ
ス可能なモードの動作では、アドレスされたラインの伝
搬動作に対応する。
最初、時間tOOではDC制御線は低レベルにあり、相
1線は低レベルにあり、相2線は高レベルにある。
このときは第3A図の電位井戸状態がつくられる。
この例では、セル1及びその直前のセルに2進1が記憶
され、セル2及びセル3にファツト(fat ) Oが
記憶されている。
時間toではDC制御線は高レベルになっており、相1
及び相2の線は変化しない。
これにより電位井戸は第3B図に示されるように変えら
れる。
時間t1で相1線は高レベル、相2線は低レベルに変わ
っており、DC制御線は高レベルのままである。
このとき電位井戸は第3C図に示される状態に変わり、
これにより、電荷は第3C図に矢印で示される方向に転
送される。
時間t2のとき、DC制御線は高レベルのままであるが
、相1線は低レベル、相2線は高レベルに変わっている
このときは第3D図の電位井戸がつくられる。
これによって電荷の転送が完了し、セル1は直前のセル
に前に含まれていた2進1を含み、セル2はセル1に前
に含まれていた2進1を含み、セル3は前にセル2に含
まれていたファツトOを含むようになる。
第4図は第3図と同じ構造を示している。
従って対応する素子は同じ参照番号で示されている。
第4A図〜第4E図はライン・アドレス可能なモードの
動作期間に非伝搬状態にあるラインの状態を示している
第4E図の制御線の初期状態は第3E図の時間100に
おける初期状態と同じである。
また第4A図では第3A図と同じ2進データが記憶され
ている。
従って第4A図と第3A図は全く同じである。
時間toでは制御線は実線で示されるように低レベルで
あり、従って時間tOOの状態と例も変わっていない。
従って第4B図は第4A図と同じである。
時間t1ではDC制御線は低レベルにあり、相1線は高
レベル、相2線は低レベルにある。
従って第4C図のような電位井戸が得られる。
情報を表わす電荷を含む井戸は高いレベルに持上げられ
ており、井戸Xの高さを越えた2進1の電荷は直前の電
位井戸にあふれる。
時間t2では相1線が低レベル、相2線が高レベルにな
り、第4D図の電位井戸がつくられる。
これは第4B図と同じである。
この技術によれば、電位井戸の状態が第4C図と第4D
図との間で前後するように制御でき、従ってすべての選
択されないラインでは情報を”静止状態″′に維持する
ことができる。
この状態はDC制御線が低レベルに保たれているすべて
のラインで生じる。
従ってDC制御線は禁止機能を行ない、このように用い
られたときは禁止線と呼ぶこともできる。
後述するようにアドレス・セレクタが設けられ、そして
選択されたラインの禁示線のみを高レベルにし他のすべ
てのラインで低レベルに保つように制御するために用い
られる。
第5図はSPSモード並びにLAモードの動作を行なう
のに適した記憶アレイの構成を示している。
直列レジスタにおける転送、並列レジスタにおける転送
、直列−並列/並列−直列転送、電荷供給あるいは検出
などの動作は周知であるので細かい説明は省略する。
第5図の構成の1つの特徴はライン・アドレス可能なS
PS記憶アレイに、DC制御されるCCDを用いている
ことである。
このようなりC制御されるCCDは各並列チャネル毎に
1つのDC制御線を必要とするが、すべての並列チャネ
ルに対して共通のクロック線を用いることができ、SP
S方式のアレイの利点を有する。
共通りロック線を使用できれば高密度なアレイを設計す
ることが可能になるため、共通りロック線の使用は非常
に重要な要素である。
入力直列レジスタ10は電荷供給部りに入力を受取り、
また相1及び相2の電極に対する接続を有する。
通常の2相の入力直列レジスタの構成に加えて、第5図
では、チャネル・セレクタ30に接続された禁止線32
が設げられている。
これらの禁止線は上述したDC制御線であり、ライン・
アドレス可能なモードの動作の際に選択的に付勢される
SPSモードの動作期間には入力直列レジスタのすべて
のデータ・ビットが転送され、ライン・アドレス可能な
モードの動作期間にはどのラインがアドレスされている
かに応じて選択的転送が生じる。
入力直列レジスタ10のセルは第3図及び第4図に関し
て述べたように構成されている。
並列部分12の夫々のセル列も第3図及び第4図に関し
て述べたように構成されている。
相1及び相2の並列チャネル・クロック線P1及びP2
も示されている。
直列部分及び並列部分の相1線及び相2線の時間関係は
希望に応じて選ばれるが、直列−並列転送が行なわれる
特定の態様に依存する。
並列チャネル禁止線34は各セル列の長さに沿って走っ
ている。
これらの並列チャネル禁止線は前述したDC制御線に対
応する。
並列部分の各列にこの制御線を設けることにより、任意
の選択された列を付勢し且つ他のすべての列を禁止して
、ライン・アドレス可能なモードの動作を行なうことが
できる。
これらの並列チャネル制御線はチャネル・アドレス入力
を受取るチャネル・デコーダ/セレクタ40によって制
御される。
チャネル・デコーダ/セレクタ40は出力直列レジスタ
14の禁止線42をも制御する。
従って並列部分12の最後の行から(sps動作におい
て並列に又はライン・アドレス可能な動作において1度
に1ビツトずつ)ビットが転送された後、これらのビッ
トは相1及び相2のクロック・パルスによって出力直列
レジスタ14から直列にシフトして出され、検出器を介
して出力端子へ転送される。
第6図は第5図の実線で囲まれた領域6の実際のレイア
ウトの拡大表示図である。
第6図には2つの並列な列が示されている。
第6A図は第6図の線6A−6Aにおける断面図である
基板60は典型的にはP型不純物でドープされたもので
ある。
勿論、N型基板でCCDをつくることもできる。
知られているリソグラフィツク技法により、イオン注入
領域(第6図では図示せず)、種々のポリシリコン電極
及び金属電極が形成される。
相1クロック線P1はポリン1】コン電極62.64で
形成される。
下側に形成される電極62はポリ1、電極62に部分的
に被さる電極64はポリ2と呼ばれる。
この表示は二酸化シリコン絶縁層を間に挾んでポリシリ
コン電極を形成する順序に従ッテイる。
相2クロック線P2はポリシリコン電極62′及び64
′によって形成される。
電極62’はポリ1、電極64’はポリ2である。
上部には、通常金属でつくられる禁止線66.66’が
設けられ、禁止線66は一方の列に対するものであり、
禁止線66’は他方の列に対するものである。
夫々の列は酸化物分離領域67.67’、67’によっ
て、隣接する列から分離されている。
並列アレイの列を分離する技術として、前記の酸化物分
離法などいくつかの技術が知られているが、本発明によ
る構造はライン・アドレスの特徴が追加されていること
を除けばすべての点でSPS記憶アレイと適合するため
、本発明では従来知られているすべての列分離技術を利
用しうる。
第6図の構造をよりよく理解するため、第6図の線6A
−6Aに沿って得られる断面図を示している第6A図を
参照する。
第6A図は第3図及び第4図に示されているセル構造を
もつと具体的に示したものと言うことができる。
基板60には種種の電極62,62’、62“、 64
、64’、 64〃。
64”’ 、66が形成され、また種々のイオン注入領
域68.68’、68″が形成されている。
P型基板の場合、イオン注入領域はP生型である。
禁止電極66は金属でよいが、ポリシリコンの3層構造
も知られているので、ポリシリコンで電極66をつくる
ことも可能である。
種々の電極及び基板は例えば二酸化シリコンによって互
いに適当に絶縁される。
第6A図には1つのセルが示され、このセルに対する相
1の電極P1は電極62(ポリ1)及び電極64(ポリ
2)によって構成され、電極64の下側にイオン注入領
域68が形成されている。
相I Plの端子は電極62及び64に接接される。
相2の電極は電極62′(ポリ1)及び電極64′(ポ
リ2)によって構成され、相2の端子P2は電極62’
、64’に接続される。
電極64′の下側にはイオン注入領域68′が形成され
ている。
DC制御電極即ち禁止電極66は上部に設けられている
薄い酸化物層69の厚さは一様である必要はなく、例え
ばポリシリコン電極62.64の下の厚さtlは500
A程度、制御(禁止)電極の下の厚さt2は1oooA
程度にすることができる。
第1図は第5図の実線で囲まれた領域7の実際のレイア
ウトの拡大表示図である。
第7図で基板は70によって示されている。
第7図は並列チャネルの一部、遷移領域の一部及び出力
直列チャネルの一部を含む。
これらの位置関係及び構造は第7図の線7Aゝ−7A及
び線7B−7Bに沿って得られる断面図である第7A図
及び第7B図を参照すればもつと良く理解されよう。
並列チャネル部分の相2クロック線P2は電極82.8
4によって形成され、電極82はポリ1、電極84はポ
リ2である。
遷移領域には、電極82’ 、 84’によって相1ク
ロック線が形成され、電極82′はポリ1、電極84′
はポリ2である。
出力直列チャネルのための相2クロック線P2は電極7
2,74によって形成され、電極72はポリ1、電極7
4はポリ2である。
並列チャネル制御電極76は並列チャネルから直列チャ
ネルを越えて延びているが、厚い酸化物によって基板か
ら分離されているため直列チャネルに影響を、与えない
直列チャネル領域には直列制御電極77が設けられてお
り、並列チャネル制御電極と同様に禁止機能を行なう。
第7A図は第7図の線7A−7Aにおける断面図であり
、出力直列レジスタの一部を示している。
P型基板70にはP十型イオン注入領域71゜71′、
γ1“、71′llが形成され、またポリ1電極72、
ポリ2電極74は例えば二酸化シリコンによって適当に
絶縁されている。
並列チャネル制御電極76は厚い酸化物だけでなく夫々
のポリシリコン電極によって基板から分離されているか
ら、電荷の伝搬に影響を与えない。
しかし直列制御電極77は薄い酸化物で基板から分離さ
れているだけである。
金属でつくられる制御電極を基板から分離している薄い
酸化物は100OA程度の厚さであり、ポリシリコン電
極を基板から分離している薄い酸化物は500久程度で
ある。
ポリ1電極72及びポリ2電極74は相2クロック端子
に接続される。
ポリ1電極82′及びポリ2電極84/は相1クロック
端子に接続される。
第7A図では電荷伝搬は右から左へ生じる。
第7B図は第7図の線7B−7Bにおける断面図であり
、並列チャネル部分では相2クロック電極はポリ1電極
82及びイオン注入領域88上のポリ2電極84によっ
て形成される。
相1クロック電極は部分的に示されているポリ1電極8
2及びもう1つのポリ2電極(図示されていない)によ
って形成される。
制御電極76は並列チャネル部分のセルに対する禁示線
を形成する。
遷移領域では相1クロック電極はポリ1電極82′及び
イオン注入領域88′上のポリ2電極84’によって形
成される。
直列チャネル部分の右側には典型的な酸化物分離領域9
0が示されている。
上述した例では、2相のクロック制御が用いられている
普通のSPSアレイの場合のように各記憶列に対して共
通のクロック線が用いられる。
これにより、SPSアレイの高密度の特徴が維持される
各チャネルにDC制御線(禁示線)を付加するだけでラ
イン・アドレス可能なモードの動作を得ることができる
DC制御線のために第3レベルの導体を用いることは現
在のSPSアレイにとって大きな負担ではない。
標準的なダブル・ポリシリコン自己整合ゲー)CCD製
造プロセスでは通常金属レベルを設けることが行なわれ
るから、DC制御線に金属を用いるのが最も好適である
DC制御線によって与えられるエネルギ・レベルの変化
はポリシリコン線によるレベル変化の約半分の大きさで
あるから、DC制御線を金属でつくりDC制御線の下の
酸化物をポリシリコン線の下の酸化物よりも厚くすれば
、同じDC電圧でDC制御線の下に小さなレベル変化を
与えることができる。
例示したような電位障壁を与えるために相1、相2の電
極及びDC制御電極に必要な相対的な電圧レベルは当業
者には明らかであろう。
例えば相1及び相2のクロック信号の低レベルはイオン
注入領域の障壁がDC制御電極の部分の障壁を越えない
ように大きな電圧にされる必要がある。
また、薄い酸化物と厚い酸化物のオフセット・ゲート構
成のような、イオン注入法以外の技法によっても2相C
CDに方向性を与えることができることも理解されよう
第8図は本発明の記憶アレイで使用しうるCCDシフト
・レジスタの構造のもう1つの例を示している。
第3図、第4図及び第5図に関連して前述したCCDシ
フト・レジスタ構成の場合は2相のクロック制御が用い
られ、また3レベルの電極構造が用いられたが、3相の
クロック制御を用いることによって2レベル電極構造ノ
L A −8PS記憶アレイを形成することもできる。
第8図はこのような3相のCCDシフト・レジスタの構
成を示している。
第8図において、基板30は典型的にはP型であり、3
つのセルが例示されている。
各セルは相I Pl線、相2 P2線、相3 P
3線及び制御ゲート線と組合されている。
3相のCCDシフト・レジスタは3相のクロック・パル
ス・シーケンスで方向性を得ることができるから、前述
の実施例のようにイオン注入領域を設ける必要はない。
相1と相3の線は第1のレベルの導体(前述のポリ1に
対応する)を与え、相1と相3の線の縁部に部分的に重
なるように示されている相2線及び制御線は第2レベル
の導体(前述のポリ2に対応する)を与える。
これらの線は酸化物によって普通に基板30の表面から
分離され、またこれらの線も互いに酸化物によって分離
される。
次に第8A図〜第8G図を参照して、第8図のCCDシ
フト・レジスタを伝搬モードで動作させる場合の動作に
ついて説明する。
伝搬モードの動作は、SPSモードで動作している場合
の各チャネルの伝搬動作又はLAモード動作している場
合の選択された1つのチャネルの伝搬動作に対応する。
第8A図〜第8F図は伝搬モードの動作期間のエネルギ
・レベルの状態を示しており、第8G図はこのようなエ
ネルギ・レベルをつくるのに必要な電圧波形を示してい
る。
時間100では制御ゲート線、相1絹甲1及び相212
は低レベルに保たれ、相3線P3は高レベルに保たれて
いる。
電圧レベルが高いほど、結果として得られる電位井戸が
深くなり、電圧レベルが下がるほど(負に向うほど)、
障壁レベルが高くなる。
時間tOOでは制御ゲートが最も低い電位にあって、最
も高い障壁レベルを生じており、P3クロックは正電位
にあり電位井戸をつくっている。
Pl及びP2のクロック線は制御ゲートの低レベル電位
よりもわずかに高い電位にある。
この例では、セル1及び直前のセルが2進1を含み、セ
ル2,3はファツトOを含んでいる。
第8B図は制御ゲート電極が時間10で高レベルになっ
たときのエネルギ・レベルを例示している。
これにより、以前相3の電極の下側にだけ保持されてい
た電荷に対して一層巾広い電位井戸がつくられる。
ここで、ゲート制御電極が他のクロック相電極よりもい
くぶん狭巾にされていることに注目されたい。
このスペース節約の理由は、この制御ゲート電極が禁止
電極として働くだけであって、いかなるときも電荷全体
を保持する必要がないということによる。
第8C図は時間t 1’において、制御ゲート電極が時
間t00の最初の低レベルよりもわずかに高いレベルに
下げられ、相1電極が高レベルにされ、相3電極が低レ
ベルにされているときのエネルギ・レベルを示している
このとき相1電極は高レベルを受取って最も深い井戸を
与えており、電荷は相1電荷の下の井戸にあふれて流れ
る。
時間t1で安定化し、相1電極の下の電荷は第8D図に
示される状態に落着く。
時間t2で相1電極が低レベルになり、相2電極が高レ
ベルになり、第8E図に示されるように相2電極の下に
電荷が運ばれる。
時間t3で制御ゲート電極及び相3電極の両方が高レベ
ルにされ、相1と相2のクロック電極は低レベルにある
相2電極が低レベルになると、その下にあった電荷は第
8F図に示されるように相3電極と制御ゲート電極の下
に運ばれる。
第3G図を見ればわかるように、次に相1電極が高レベ
ルになってセル2の最初の電極の下に電位井戸をつくる
制御ゲート電極及び相3電極が次に低レベルに変わると
、第8F図の相3電極と制御ゲート電極の下側の電荷は
次のセル2の相1電極の下側に運ばれる。
これは第8C図の動作に対応する。
このようにして2進1及びファツトOの情報はあるセル
から次のセルへ順次に伝搬される。
第9図は第8図と同じCCDシフト・レジスタ構成を示
している。
次に、記憶プレイがライン・アドレス可能なモードで動
作しており、アドレスされたチャネルが第8A図〜第8
G図に関して述べたように伝搬動作をする場合に、残り
の非伝搬モードのチャネル及び入力/出力直列レジスタ
の非伝搬モードの部分がどのように動作するかについて
説明する。
第9A図〜第9F図は非伝搬モードにおけるエネルギ・
レベルを示しており、第9G図はそのための電圧波形を
例示している。
時間t00で相3電極は高レベルにあり、他の電極はす
べて低レベルにある。
制御ゲート電極は最も低い電位を受取って高いエネルギ
障壁を与えており、この制御ゲート電極の低電位は動作
生変えられない。
第9A図によれば各制御ゲート電極の下に高い電位障壁
がつくられていることがわかる。
相3電極の下に最も深い井戸がある。第8図の場合と同
じようにセル1と直前のセルに2進が記憶され、セル2
とセル3にファツトOが記憶されている。
説明のためセル30次のセルも2進1を記憶しているも
のとする。
時間toでは各電極の電位は時間t00と同じであるか
ら、時間t。
におけるエネルギ・レベル(第9B図)は時間100の
場合(第9A図)と同じである。
時間t1′で相1電極が高レベルになってその下に電位
井戸をつくり、相3電極が低レベルに遷移すると、2進
1電荷は第9C図に示されるように、相2電極によりつ
くられる電位障壁を越えて相1電極の下の電位井戸に逆
向きに流れる。
相2電極により与えられる電位障壁は相1電極の下のフ
ァツト0の転送を防止する程度に高い。
この状態は第9C図のセル2及びセル3に示されている
時間t1では相3クロック・パルスの遷移が終って、相
2及び相3の電極は共に同じ低レベルにあり、このとき
は第9D図のエネルギ・レベル状態が得られる。
第9D図では、すべての2進1電荷及びファツトO電荷
が相3電極の下から同じセル内の相1電極の下へ転送さ
れている。
続いて、相2電極が高レベルになってその下に電位井戸
をつくり、相1電極が低レベルになると、時間t2では
第9E図に示されるように相1電極の下から相2電極の
下へ電荷が転送される。
このとき相1電極及び相3電極は同じ低レベル電位にあ
り、すべての電荷(2進1又はファツトO)を相2電極
の下に保持する。
その後屈3電極が再び高レベルになって電位井戸をつく
り、相2電極が低レベルになると、相2電極の下の電荷
が相3電極によってつくられる電位井戸に選ばれ、時間
t3では第9F図に示される状態になる。
この時点で全サイクルが完了し、2進1及び2進0を含
むすべての電荷パケットが時間tOOのときと同じ状態
に戻る。
そして、所望のチャネルをアクセスしている開弁伝搬モ
ードのチャネルの電荷を“静止状態″に保つことが望ま
れる限り上述の電圧波形が繰返し供給される。
第9G図の波形かられかるように、非伝搬モードでは制
御ゲート電極は常に低レベルに保たれ、クロック・パル
スを受取らない。
また第8G図から、伝搬モードでは制御ゲートと相3の
波形が同じであることがわかる。
これは制御ゲートを相3線に接続することにより簡単に
得られる。
従って、制御ゲートのために別の相クロック・パルスを
用いる必要はない。
また相1、相2及び相3の波形は第8G図及び第9G図
において同じであり、これらの波形は選択されたチャネ
ル及び選択されないチャネルに同時に印加される。
第10図は上述した3相のクロック制御でSPSモード
及びLAモードの動作を行なうのに適した記憶アレイの
レイアウト構成を例示している。
直列レジスタ内の転送、並列レジスタ内の転送、直列−
並列変換、並列−直列変換、電荷の供給及び検出のよう
な動作は普通のものであり、よく知られているので、詳
細な説明は省略する。
第10図の記憶アレイは入力直列レジスタ10、並列レ
ジスタ12、出力直列レジスタ14を有し、夫々のレジ
スタには、相1、相2及び相3の電極P1.P2.P3
が設けられている。
入力は入力直列レジスタ10の電荷供給部りに与えられ
る。
通常の3相入力直列レジスタと異なる点は、チャネル・
セレクタ40に接続された禁止線42・が追加されてい
ることである。
禁止線は上述の制御ゲート線であり、ライン・アドレス
可能なモードの動作期間に選択的に付勢される。
入力直列レジスタ10のデータ・ビットはSPSモード
の動作期間は連続的に転送され、LAモードの動作期間
はどのレコードがアクセスされるかに従って選択的ニ転
送される。
入力直列レジスタ10のセルは第8図及び第9図に関し
て説明したように構成される。
並列レジスタ部分の各セル列即ち各セル・ラインも第8
図及び第9図に関して上述したように構成される。
並列レジスタのための相1線及び相2線の端子は第10
図の左側に示され、相3線の端子は第10図の右側に示
されている。
直列レジスタ及び並列レジスタの3つの相線の時間関係
は第8G図及び第9G図において例示したように選ばれ
る。
並列レジスタの各セル列はチャネル・デコーダ及びセレ
クタ50に接続された禁止線46を有する。
禁止線46は前に説明した制御ゲート線である。
並列レジスタの禁止線は例えば金属でつくられ、金属接
点44において制御ゲート電極に接続される。
相1、相2、相3の電極及び制御ゲート電極はポリシリ
コンによってつくることができる。
前述のポリ1、ポリ20表現を用いれば、相1電極と相
3電極はポリ1、相2電極と制御ゲート電極はポリ2で
ある。
従って、伝搬モードの動作及び非伝搬モードの動作の両
方を行なうのに2レベルの電極を設ければよい。
チャネル・デコーダ/セレクタ50は選択された1つの
並列チャネル制御線のみを相3クロックに接続し、他の
すべての列の禁止線を低レベルに保ってこれらのチャネ
ルを禁止するようにチャネル・アドレス入力に応答して
動作する。
このようにしてLAモードの動作が行なわれる。
出力直列レジスタ14には同様に、チャネル・デコーダ
/セレクタ50によって制御される直列チャネル制御線
48が設げられている。
SPSモードの動作の場合データは並列部分12の最後
の行から並列に出力直列レジスタ14に読取られ、そし
て検出器を介して出力端子に1度に1ビツトずつ読取ら
れる。
LAモードの動作の場合は、所望数の直列チャネル制御
線が伝搬モードに付勢され、残りのものは非伝搬モード
に保たれる。
これは第8図及び第9図に関連して前に述べたように行
なわれ、これにより、第1図及び第2A図〜第2F図に
関して述べたような選択的なLAモードの動作を得るこ
とができる。
以上の説明ではSPSアレイをライン・アドレス可能な
SPSアレイに変更する例を示したが、818機能を含
むようにライン・アドレス可能なアレイを変更すること
もできる。
第11図は従来のライン・アドレス可能なアレイを例示
しているが、この場合データは直列に入れられ種々のル
ープに記憶される。
ループの選択及び制御はデコータ及ヒクロツク制御回路
98によって行なわれる。
このアレイでは、各ループに(入力端に)入力/リフレ
ッシュ駆動器及び電荷供給器DLを設け、また各ループ
に(出力端に)感知増巾器SAを設ける必要がある。
第12図に示すように、本発明による変形の場合は、入
力直列レジスタ100及び出力直列レジスタ102が付
加され、またデコーダ及びクロック制御回路106,1
08カミ設けられ、そして何個の入力/リフレッシュ駆
動器及び電荷供給器、並びに個々の感知増巾器が除去さ
れる。
第12図のアレイの読取り/書込みでは、選択されない
並列チャネルは完全に非伝搬モードにある。
第12図の構成によれば、SPSモード及びLAモード
の両方のモードで動作できるという融通性が得られるが
、ライン・アドレス可能なメモリは各チャネルを別々に
動作させるためにかなりの配線スペースを必要とするか
ら、第12図の場合は、第5図及び第10図の良好な実
施例における高密度実装の利点が失われる。
【図面の簡単な説明】
第1図はSPS構成のCCD記憶アレイの概略図、第2
A図〜第2F図はSPSアレイがLAモードで動作した
ときのデータの流れを例示する図、第3図は本発明で使
用しうるCCDシフト・レジスタ構成の一例を示す図、
第3A図〜第3D図は第3図のCCDシフト・レジスタ
の伝搬モードの動作を示す図、第3E図は伝搬モード動
作における制御電圧波形を示す図、第4図は第3図と同
じCCDレジスタの構成を示す図、第4A図〜第4D図
は第4図のCCDシフト・レジスタの非伝搬モードの動
作を示す図、第4E図は非伝搬モード動作における制御
電圧波形を示す図、第5図は本発明によるLA−8PS
構成の記憶アレイの一実施例を示す図、第6図は第5図
の実線で囲京れた領域6の拡大表示図、第7図は第5図
の実線で囲まれた領域7の拡大表示図、第7A図及び第
7B図は夫々第7図の線7A−7A及び7B−7Bに沿
って得られる断面図、第8図は本発明で使用しうるCC
Dシフト・レジスタ構成のもう1つの例を示す図、第8
A図〜第8F図は第8図のCCDシフト・レジスタの伝
搬モードの動作を示す図、第8G図は伝搬モード動作に
おける制御電圧波形を示す図、第9図は第8図と同じC
CDシフト・レジスタ構成を示す図、第9A図〜第9F
図は第9図のCCDシフト・レジスタの非伝搬モードの
動作を示す図、第9G図は非伝搬モードの動作における
制御電圧波形を示す図、第10図は本発明によるLA−
8PS構成の記憶アレイのもう1つの実施例を示す図、
第11図は従来のLA構成を例示する図、第12図は別
の実施例を示す図である。 第5図において、10・・・・・・入力直列レジスタ、
12・・・・・−並列レジスタ、14・・−・・・出力
直列レジスタ、PI 、P2・・・・・・相1、相2の
クロック線、32 、34 、42・−・−・・制御線
。 第10図において、10・・・・・・入力直列レジスタ
、12・・・・・・並列レジスタ、14・・・・・・出
力直列レジスタ、Pl、P2゜P3・・・・・・相1、
相2、相3のクロック線、42゜46.48・・・・・
・制御線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 直列に配列された電荷記憶セルを有し、入力に与え
    られる電荷信号を直列に転送する入力直列レジスタと、
    並列に配列された記憶セルを有し、前記入力直列レジス
    タから電荷信号を受取ってその電荷信号を並列に転送す
    る並列レジスタと、直列に配列された電荷記憶セルを有
    し、前記並列レジスタから電荷信号を受取ってその電荷
    信号を出力へ直列に転送する出力直列レジスタとを有し
    、各前記セルには所定の複数の相のクロック・パルスを
    受取るゲート電極が設けられて、各前記セル当り前記所
    定の複数の相で電荷信号を転送する直列−並列−直列記
    憶プレイにおいて、前記ゲート電極とは別に、電荷信号
    の伝搬を選択的に禁止するための制御電圧を受取る制御
    電極が前記セル相互間に設けられていることを特徴とす
    る、ライン・アドレス可能な直列−並列−直列記憶アレ
    イ。
JP54154542A 1978-12-29 1979-11-30 ライン・アドレス可能な直列−並列−直列記憶アレイ Expired JPS5826117B2 (ja)

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JP (1) JPS5826117B2 (ja)
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