JPS58224167A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS58224167A JPS58224167A JP10621982A JP10621982A JPS58224167A JP S58224167 A JPS58224167 A JP S58224167A JP 10621982 A JP10621982 A JP 10621982A JP 10621982 A JP10621982 A JP 10621982A JP S58224167 A JPS58224167 A JP S58224167A
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- evaporation
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- Pending
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅帯を連続的に真空蒸着メッキする際に、該
銅帯面に液滴や酸化物の小片等の異物が付着するのを防
ぎ、正常な蒸着メッキのみが施されるようにした真空蒸
着装置に関する。
銅帯面に液滴や酸化物の小片等の異物が付着するのを防
ぎ、正常な蒸着メッキのみが施されるようにした真空蒸
着装置に関する。
銅帯等に連続的にＺｎ 、 Ａｔ等の金属皮膜を真空蒸
着させるための装置として、従来、第１図や第２図に示
すようなものが知られている。
着させるための装置として、従来、第１図や第２図に示
すようなものが知られている。
第１図の装置は、鋼帯１を水平方向に走行させつつ真空
蒸着を行うもので、図中２は真空容器、３は蒸発鍋、４
は加熱ヒータ、５はメッキ材である溶融金属、６は蒸発
口である。真空容器２内に設置された蒸発鍋３は、その
内部にメッキ材５を保有し、加熱ヒータ４によって加熱
される。メッキ材５は加熱されて蒸発し、蒸発口６から
噴出して、その上方を走行している鋼帯１に連続的に蒸
着する。
蒸着を行うもので、図中２は真空容器、３は蒸発鍋、４
は加熱ヒータ、５はメッキ材である溶融金属、６は蒸発
口である。真空容器２内に設置された蒸発鍋３は、その
内部にメッキ材５を保有し、加熱ヒータ４によって加熱
される。メッキ材５は加熱されて蒸発し、蒸発口６から
噴出して、その上方を走行している鋼帯１に連続的に蒸
着する。
第２図の装置は、鋼帯１を鉛直方向に走行させつつ真空
蒸着を行うもので、図中第１図と同一符号は第１図と同
一機能部品を示し、７は蒸発鍋３の上部に設けられたエ
ルボ形チャンネル、８は該エルボ形チャンネル７の温度
補償ヒータで、該チャンネル７をメッキ材５の蒸気温度
以上に加熱し、該チャンネル７壁でのメッキ蒸気の凝縮
を防止する。
蒸着を行うもので、図中第１図と同一符号は第１図と同
一機能部品を示し、７は蒸発鍋３の上部に設けられたエ
ルボ形チャンネル、８は該エルボ形チャンネル７の温度
補償ヒータで、該チャンネル７をメッキ材５の蒸気温度
以上に加熱し、該チャンネル７壁でのメッキ蒸気の凝縮
を防止する。
以上の従来装置においては、操業条件によって銅帯表面
に正常な蒸着膜の他に、液滴（１００μφ程度）や酸化
皮膜の小片（１００μφ程度）等の異物が付着し、製品
となり得ない事態が生ずることがある。
に正常な蒸着膜の他に、液滴（１００μφ程度）や酸化
皮膜の小片（１００μφ程度）等の異物が付着し、製品
となり得ない事態が生ずることがある。
本発明は、これらの異物の付着を防止し、いかなる操業
条件においても正常な蒸着膜が得られる真空蒸着装置を
提供するものである。
条件においても正常な蒸着膜が得られる真空蒸着装置を
提供するものである。
すなわち本発明は、蒸発鍋と銅帯との間に遠心分離の原
理を利用した旋回構造のチャンネルを設け、しかも該チ
ャンネルに遠心分離の原理によって分離された異物を貯
留する異物溜めを具備させたことを特徴とする真空蒸着
装置に関するものである。
理を利用した旋回構造のチャンネルを設け、しかも該チ
ャンネルに遠心分離の原理によって分離された異物を貯
留する異物溜めを具備させたことを特徴とする真空蒸着
装置に関するものである。
以下、添付図面を参照して本発明装置を詳細に説明する
。
。
第３図（４）、（Ｂ）は本発明装置の一実施態様例を示
す概略図で、第６図（４）は全体説明図、第５図（Ｂ）
は側面図である。
す概略図で、第６図（４）は全体説明図、第５図（Ｂ）
は側面図である。
第３図（Ａ） 、 （Ｂ）において、第１〜２図と同一
符号は第１〜２図と同一機能部品を示し、７′が本発明
に係るチャンネルで、図示するように旋回構造を有し、
また異物溜め９を具備している。
符号は第１〜２図と同一機能部品を示し、７′が本発明
に係るチャンネルで、図示するように旋回構造を有し、
また異物溜め９を具備している。
蒸発鍋５内のメッキ材５は加熱ヒータ４によって加熱さ
れ、蒸発し、該蒸気はチャンネル７′・４ を
通って蒸発口６から噴出し、その上方を走行している鋼
帯１に連続的に蒸着する。
れ、蒸発し、該蒸気はチャンネル７′・４ を
通って蒸発口６から噴出し、その上方を走行している鋼
帯１に連続的に蒸着する。
このチャンネル７′は図示するように、その内部を通過
する蒸気流の方向を一回転させて噴出するような構造と
なっている。
する蒸気流の方向を一回転させて噴出するような構造と
なっている。
蒸発鍋６内のメッキ材５の湯面よシ蒸気流に随伴されて
飛散する液滴や酸化皮膜の小片は、蒸気よシ密度が大き
いため、チャンネル７′内を旋回しながら通過する間に
遠心力によりチャンネル７′の壁に到達せしめられ、さ
らに重力によって落下し、異物溜め９内に貯留される。
飛散する液滴や酸化皮膜の小片は、蒸気よシ密度が大き
いため、チャンネル７′内を旋回しながら通過する間に
遠心力によりチャンネル７′の壁に到達せしめられ、さ
らに重力によって落下し、異物溜め９内に貯留される。
第４図〜第８図は鋼帯１を鉛直方向に走行させて真空蒸
着を行う場合の本発明装置の実施態様例を示す図で、第
４〜７図の（４）および第８図は全体説明図、第４〜６
図の（Ｂ）は側面図、第７図の（Ｂ）は上面図である。
着を行う場合の本発明装置の実施態様例を示す図で、第
４〜７図の（４）および第８図は全体説明図、第４〜６
図の（Ｂ）は側面図、第７図の（Ｂ）は上面図である。
第４〜８図中、第１〜３図と同一符号は第１〜６図と同
一機能部品を示す。
一機能部品を示す。
第４〜８図の装置の作用態様は第３図のものと同一であ
る。
る。
以上説明した本発明装置によれば、液滴や酸 ゛化
皮膜の小片等の異物がチャンネル内にて遠心分離される
だめ、蒸発口から噴出する蒸気はこれらの異物を含まな
い清浄なものであり、良好な蒸着膜を形成することがで
きる。
皮膜の小片等の異物がチャンネル内にて遠心分離される
だめ、蒸発口から噴出する蒸気はこれらの異物を含まな
い清浄なものであり、良好な蒸着膜を形成することがで
きる。
第１，２図は従来の真空蒸着装置を示す概略図、第６〜
８図は本発明装置の実施態様例を示す説明図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 壓１図 （Ｂ） （８） 帛７図 壓８図 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島研 究所内 ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島研 究所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
８図は本発明装置の実施態様例を示す説明図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 壓１図 （Ｂ） （８） 帛７図 壓８図 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島研 究所内 ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島研 究所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
Claims (1)
- 銅帯の表面を連続的に蒸着メッキする真空蒸着装置にお
いて、蒸発鍋と前記鋼帯との間に旋回構造と異物溜とを
もったチャンネルを設けたことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621982A JPS58224167A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10621982A JPS58224167A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224167A true JPS58224167A (ja) | 1983-12-26 |
Family
ID=14428032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10621982A Pending JPS58224167A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224167A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100590235B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2006-06-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착장치의 증착원 |
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
| CN107177830A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-09-19 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 全铝型金属化薄膜及其真空镀膜装置 |
| CN107254663A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-10-17 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 一种抗氧化型真空镀膜装置 |
| CN108474103A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-08-31 | Posco公司 | 用于高速涂覆的真空沉积装置 |
| JP2020504235A (ja) * | 2016-12-21 | 2020-02-06 | ポスコＰｏｓｃｏ | フィルタユニット及びこれを含むめっき装置 |
| EP3600612A4 (en) * | 2017-03-22 | 2020-04-15 | University Of Delaware | CENTRIFUGAL EVAPORATION SOURCES |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP10621982A patent/JPS58224167A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100590235B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2006-06-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착장치의 증착원 |
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
| CN108474103A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-08-31 | Posco公司 | 用于高速涂覆的真空沉积装置 |
| EP3396014A4 (en) * | 2015-12-23 | 2018-12-19 | Posco | Vacuum deposition device for high-speed coating |
| JP2020504235A (ja) * | 2016-12-21 | 2020-02-06 | ポスコＰｏｓｃｏ | フィルタユニット及びこれを含むめっき装置 |
| EP3600612A4 (en) * | 2017-03-22 | 2020-04-15 | University Of Delaware | CENTRIFUGAL EVAPORATION SOURCES |
| CN107177830A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-09-19 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 全铝型金属化薄膜及其真空镀膜装置 |
| CN107254663A (zh) * | 2017-07-13 | 2017-10-17 | 安徽省宁国市海伟电子有限公司 | 一种抗氧化型真空镀膜装置 |
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