JPS58223207A - Semiconductive composition - Google Patents

Semiconductive composition

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JPS58223207A
JPS58223207A JP10643682A JP10643682A JPS58223207A JP S58223207 A JPS58223207 A JP S58223207A JP 10643682 A JP10643682 A JP 10643682A JP 10643682 A JP10643682 A JP 10643682A JP S58223207 A JPS58223207 A JP S58223207A
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JP
Japan
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olefin
composition
semiconductive
dylene
low pressure
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清 渡辺
柳生 秀樹
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Hitachi Cable Ltd
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  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本IF、明は半導電性組成物、特に電カケープル用とし
C好適イド半導電性組成物に関りるものひある。 電力クープル、特に架橋ポリ−1−J1ノン絶縁ケー1
ルの半導電竹屑には従来より半導電性組成物を塗布した
布テープが使用されてきた。 しかし、半導電性面テープは吸瀞しやJく、またケバ立
らが起こるため絶縁体との界面(゛畜肴↑)1、\lL
?Nf!Iを欠さ、この界面不整部ノ)目う水トす、電
気1〜リ−か発イ1する問題があり、これを解決りるた
め押出型半導電性層が開発された。 押出型21′力電t<を層には人別して架橋半導電竹屑
と非架橋半導電111層の2秤類がある。 ^77省は一般にエチレン・醋酸ビニル共重合体、−[
ブレン・]−チルアクリ1ノーI11.重合体をヘース
ボリマに使用して11′3つ、このような低融点、低粘
度のポリマを用いることによって低温での押出が可能で
あり、加工性が優れCいる。しかしながら高温での形状
保持のlこめ成形後架橋Jる必要があり、クープル製造
詩に絶縁体の架橋速度と半導電性層の架橋速度のバラン
スを考える必要がある、。 これに苅し、後者(,1もっばらエチレン・ブ[」ピレ
ンゴムにポリ11チレンを混合したしのが使用されてお
り、このポリマは融点が高いため架橋覆ること4「シに
高温での形状保持が達成され、またベースボリンが非(
セ刊のため吸水性か小さい等の侵れた性質を右する。 しかしながら、−1−ブレン・プロピレンゴl\の分子
間が大きいため紹成部の粘fαが高く、200°C近い
高温押出が必要であり、このことがら生産111白土の
障害どなつCいる。 本〉を明は上記に基いて/1されたものであり、低温で
の成形士(1に優4’1.7:非架橋111の半う9電
ス11絹成物a5よびこれを用いた塩カケープルを提供
りる4つのである3゜ りなわち、本発明の半導電f!I組成物は一■チレン・
α−オレフィン・ポリエン共重合ゴムと、ヌル1〜イン
ーTツクスが1以上である中低IT−FAポリ−I ”
ブレンの混合物100重挙部にス・]シ、導電性(”I
”j祠を/IOΦ量部以1−添加してなるものである。 本発明にお(プるエチレン・α−Δ−レフCン・ポリエ
ン共重合ゴムどしてはエチレンと炭素数4〜10のα−
オレフィンどポリエンとを特定の条(i下で連続重合し
て1りられる密度が0.88〜0、91 (”il/c
m3)のものがあげ1うれる。 すなわら、例えば触媒としてVO(OR)nx3−n 
 (ただし1.1<(よ脂肋族炭化水索基、×はハロゲ
ン、O≦n≦3)C示されるバナジウム化合物と、平均
組成がR−n+Aj!x−3−m  (たタシ、R−は
炭化水索星、×′はハロゲン、1=m≦1.5)で示さ
れる有機アルミニウム化合物を用い、Aff/V(原子
比)を5以上に鞘持し、炭化水−3= 水溶媒中で多Inの水素の存右下で40〜100℃の温
度でエチレンと炭素数4ないし10のα−オレフィンど
ポリエンを連続重合して有られる。 このとぎ、エチレンとα−オレフィンのモル比を75/
25〜9515とすることにJこり得られるエチレン・
α−オレフィン・ポリエン共重合ゴムの性状がペレット
であり、後の取扱いが良好となる。]ヂレンの間がこの
範囲以下であるとペレツ1〜化しにくく、またこの範囲
以上になるとゴムの1と1質が失われる傾向にある。 このJζうな二[ブレン・α−オレフィン・ポリ」−ン
共重合ゴムに混合される中低圧法ポリエチレンの代表的
’JK ’bのどじではメルトインデックス(M I 
)が1(y/10分)以」二のエチレン・α−オレフィ
ン共重合体があげられる。ここでα−オレフィン炭素数
が3以上のものであり、プロピレン、ブデンー1、オク
テン−1,4−メチルペンテン−1といったものがある
。また、IVIIが1未満の場合、1器Iられる半導電
性組成物の粘度が高くなり、成形加工性が悪くなる。 4− エチレン・α−オレフィン・ポリエン共重合ゴムに対り
−る中低圧法ポリエチレンの混合比率は20〜50重間
%と覆る必要がある。20重b1%未満Cは押出成形し
たとぎの外観が悪くなり、50重絹%を越えると可どう
竹が失われ、伸びが悪くなる。 本発明にお
This IF relates to semiconducting compositions, particularly semiconducting compositions suitable for use in electrical cables. Power couple, especially cross-linked poly-1-J1 non-insulating case 1
Traditionally, cloth tape coated with a semiconductive composition has been used for semiconductive bamboo waste. However, semi-conductive hook-and-loop tape does not easily absorb moisture, and also causes fluff, so it cannot be used at the interface with the insulator.
? Nf! Due to the lack of I, there is a problem that this interfacial irregularity causes water leakage and electricity generation, and in order to solve this problem, an extruded semiconductive layer was developed. There are two types of layers for the extrusion mold 21': a crosslinked semiconductive bamboo waste layer and a non-crosslinked semiconductive 111 layer. ^77 Generally, ethylene/vinyl acetate copolymer, -[
Bren・]-Til Acryl No I11. By using such a low melting point, low viscosity polymer as a hese polymer, extrusion at low temperatures is possible, and processability is excellent. However, it is necessary to perform crosslinking after molding to maintain shape at high temperatures, and it is necessary to consider the balance between the crosslinking speed of the insulator and the crosslinking speed of the semiconductive layer when manufacturing the couple. The latter is a mixture of ethylene rubber and poly(11) tyrene, and this polymer has a high melting point, so it has to be crosslinked to form a shape at high temperatures. Retention is achieved and basebolin is non-(
Because it is published separately, it has properties such as water absorption or small size. However, due to the large intermolecular size of -1-brene propylene gol, the viscosity fα of the forming part is high, and high temperature extrusion of close to 200°C is required, which poses some obstacles to the production of 111 clay. Based on the above, this book was made/1, and the molding agent at low temperature (4'1.7: non-crosslinked 111 half-9 electric wire 11 silk composition a5 and the use of this) In other words, the semiconducting f!I composition of the present invention is one
α-olefin/polyene copolymer rubber and medium-low IT-FA poly-I with a null of 1 to 1 or more
A mixture of 100 parts of Blen, conductive ("I
In the present invention, ethylene/α-Δ-ref/polyene copolymer rubber contains ethylene and a carbon atom having 4 to 4 carbon atoms. 10 α-
The density obtained by continuous polymerization of olefins and polyenes under a specific condition (i) is 0.88 to 0.91 ("il/c
I will be happy if you give me m3). That is, for example, VO(OR)nx3-n as a catalyst
(However, 1.1<(Yofatty rib hydrocarbon group, × is halogen, O≦n≦3) - is a hydrocarbon star; It is obtained by continuously polymerizing ethylene and a polyene such as an α-olefin having 4 to 10 carbon atoms at a temperature of 40 to 100°C in the presence of poly-In hydrogen in a solvent. Ratio to 75/
25 to 9515, the obtained ethylene
The α-olefin/polyene copolymer rubber is in the form of pellets, making it easier to handle later. ] If the distance between dilene is below this range, it will be difficult to form pellets from 1 to 1, and if it exceeds this range, the 1 and 1 qualities of the rubber will tend to be lost. The melt index (M I
) is 1 (y/10 minutes) or more. Here, the α-olefin has three or more carbon atoms, such as propylene, budene-1, and octene-1,4-methylpentene-1. In addition, when IVII is less than 1, the viscosity of the semiconductive composition formed in one pot becomes high, and moldability becomes poor. 4- The mixing ratio of medium and low pressure polyethylene to the ethylene/α-olefin/polyene copolymer rubber must be 20 to 50% by weight. If C is less than 20% by weight, the appearance of the extruded cloth will be poor, and if it exceeds 50% by weight, the elasticity will be lost and elongation will be poor. The present invention

【プる導電性イ・」与祠の代表的’tKもの
としてはカーボンブラックがあり、ブレンネル・ブラッ
ク、ファーネス・ブラック、ア1?ヂレン・ブラック等
周知のものが用いられる。 導電f!L (q与Hの添加間は目的とりる導電性を得
るため上記した混合物100重量部に対して40車量部
以上とする必要がある。 j’Jられる半導電性組成物のムー二粘度M2+4(1
50°C)は30〜60とするのが好ましく、30未満
では耐加熱変形性の点で、60を越えると低調での押出
加J性の点でそれぞれ劣るようになる。 半導電性組成物の調整は従来組成物の調整にil(じて
老化防止剤等、必要な添加剤を混合することにJ、リイ
ヱされる。 この場合、老化防11剤どじてはアミン系のN。 N’−:、;’フ■ニルー1つフェニレンジアミン、フ
jニルーα−ノフチルアミン、N−フ[ニルーN−−イ
ツブ[]]ピルー71ニレンジアミンポリ(2゜2、’
I−1〜リメチルー1,2−ジヒド1]4−ノリン)イ
1とが、71ノール系の2,2゛−メチレンビス(/l
−メチル−6−tert−ブチルフ−「ノール)、2.
6−シーtert−ジチル−1−メJルフJノール、4
,4−−ヂAビス(6−tert−ブチル−3−メチル
フェノール)などが、イミダゾール系の2−メルカ−1
1へペンゾイミタ゛ゾール、2−メルカプ1〜ベンゾイ
ミダゾールのqh鉛塩なとがあり、その他ゴム用どして
用いられCいる老化防止剤を甲類あるい(,12種以上
組合せて使用することができる1、 かくして14)られる半導電性組成物は従来の1−チレ
シーブ[−1ピレンゴムをベース□とした半導性組成物
の特性を満足し、しかもこれにはない低調(具体的には
150〜160°C)にJハノる押出成形加■性を具備
した〜bのとなる。 このような観点から、本発明の半導電f4組成物は電カ
ケープル、電カケープルの接続部や端末部、電子機器や
通信ケーブルの静電シールド+ATjに通用でき、特に
電カケープルの内部および外部、′1′導電f!1層ど
して好適なものどなる。 以下、本発明の実施例を比較例とり・1比して説明する
。 第1表の上欄に示すような配合物をぞれぞれ6インチゴ
ム用混練機を使用し、樹脂温度15r)’Cに(10分
間混練し、厚さ1 mmの半導電性シー1〜状成形物を
jNだ。これらの半導電性シー]へ状成形物の特性を第
1表の下側に示した。 押出加1−刊は150℃でのムー二粘度(M2+4)と
押出ストランドひもの外観で判定した。 このとぎムー二粘度の測定にはシート状成形物を用い、
また押出スI〜ランドひもはシート状成形物を一損ペレ
タイザーにCペレツ1〜とし、40 mm tilli
l:j lX、ltを通Jことによって111k。押出
にはl−、/ l) =22、圧縮比3,5のメタリン
グ型スクリコーを 7− 用い、回転数は20 rrlmとし、ダイ温度【よ15
0℃どじた1゜ 体積抵抗率、吸水率、加熱変形率の測定には、シー1〜
状成形物をプレス成形機を用いて180℃、100Kg
/ci、 10分の成形条f1で、前二者は1mm、後
8は3mmのプレスシートにし、これを供し 1.:。 体積抵抗率の測定はプレスシー1〜から縦30 mn+
、横100mmの矩形シー1〜を切り出し、矩形シー1
゛・の両端に導電性ペイントを塗布して電極を作り、長
手方向の体積抵抗率をボイーストンブリッジで常温ど9
0 ”CについC測定した。 吸水率の測定はプレスシー1〜から縦50mm、横80
 mmの矩形シー1〜を切り出し、これを90℃の湖水
に?し漬し−C吸水量が飽和するまで放置し、浸油前後
の手間変化から算定して行った。 加熱変形率はJIS−0305に準拠し、120°(]
の温Iff r ill!I定した。 伸びはJIS−C3005に準拠し、引張温度200喘
/minで測定した。 8− jス−1説明しできた[ど7J11ら明らか41通り、
本発明に3j、れぽ従来のl−1)rムベースの押出部
Jl架橋半橡電1」組成物の欠点Cあった低調での押出
加]IIlを改浦でさ、qiHIJ電力り一プル用21
り轡電171絹成物どしく+aれたもので゛ある1、 手続補正書(自発) 57、!5.21 昭オD   年   月    14 特許庁長 官 島田春樹殿 昭和 57 年 特  許 願第 106466  号
2、発 明の名称 半導電性組成物 3 補正をする者 4  代  理  人〒】00 居 所     東京都千代田区丸の内二丁目1番2号
日立電紳株式会社内 電話 東京(21G) 1611 (大代表)11− 補正の対象 明細書の発明の詳細な説明。 補正の内容 明細書第11頁以降の全文を削除し、次の通わに訂正す
る。 「」―記試験により得られた結果は第1表に示す通りで
ある。 実施例1.2はメルトインテックスMI5.0のエチレ
ン・α−オレフィン・ポリエン共重合コムとメルトイン
テックスM I 1.8の中低圧法ポリエチレンをブレ
ンドし、本発明で規定する配合処理を施した組成物の例
である。150°Cにおいての押出し性は良好で、体積
抵抗率、吸水率、加熱変形率ともに電カケープル用半導
電層として優れた値を示している。 実施例6.4はメルトインテックスMI4.0の中低圧
法ポリエチレンをブレンドしたものである。 粘度が低下して押出し性が更に良く疫っている。 その他の緒特性も良好である。 若干加熱変形率が大きくなるが、実用上問題とならない
。 実施例5,6はメルトインテックスMI 1 o、 0
のエチレン・a−オレフィン−ポリエン共重合ゴムを用
いた例であり、■φI5.0の例に比べて粘度が低下し
、押出し加工性が向上している。 比較例1.2は本発明の規定外のメルトインデックスM
 Iをもつ中低圧法ポリエチレンを使用した例であり、
ムー二粘度が高く、150°Cでの押出外観が悪くなる
。 比較例6,4は中低圧法ポリエチレンのブレンド比率を
本発明の規定外としだ例である。 比較例乙のように中低圧法ポリエチレンのブレンド量が
少ない場合、押出し外観が悪く、また加熱変形率も大き
く、実用上問題となる。捷だ比較例4のようにブレンド
量が多い場合伸びが小さくなる。 比較例5は本発明の規定外のカーボンブラック量とした
場合であり、体積抵抗率が高いとともに加熱変形が大き
く、実用上問題となる。 比較例6,7はエチレン・プロピレンゴノ、k使用した
従来タイプの例である。150′cでの粘度が極端に高
く、押出し加工はできなかった。 以上説明してきたことから明らかな通り、本発明によれ
ば従来のgpゴムベースの押出型非架橋半導電性組成物
の欠点であった低温での押出加工性を改善でき、特に電
カケープル用半導電性組成物として優れたものである。 」 以−]ニ =4−一 46−−
[Puru conductivity] Typical 'tK' products include carbon black, such as Brennell black, furnace black, and A1? Well-known ones such as Diren Black are used. Conductive f! L (during the addition of H, it is necessary to add 40 parts by weight or more to 100 parts by weight of the above-mentioned mixture in order to obtain the desired conductivity. M2+4(1
50°C) is preferably 30 to 60; if it is less than 30, the heat deformation resistance will be poor, and if it exceeds 60, the extrusion property will be poor at low pressure. The preparation of a semiconductive composition is conventionally carried out by mixing necessary additives such as an anti-aging agent in the preparation of a composition. N.
I-1~limethyl-1,2-dihydro1]4-noline)I1 is 71-nol-based 2,2゛-methylenebis(/l
-Methyl-6-tert-butylphenol, 2.
6-tert-dityl-1-meJrufuJnor, 4
,4-diAbis(6-tert-butyl-3-methylphenol) etc. are imidazole-based 2-mercar-1
1 to penzimitazole, 2-mercap 1 to qh lead salts of benzimidazole, and other anti-aging agents used for rubber etc. 1. Thus, 14) the resulting semiconductive composition satisfies the properties of the conventional semiconductive composition based on 1-Chiresieve [-1 pyrene rubber], and also has low performance (specifically, 150 to 160°C) with excellent extrusion moldability. From this point of view, the semiconductive f4 composition of the present invention can be used for electric cables, connection parts and terminal parts of electric cables, and electrostatic shields +ATj of electronic equipment and communication cables, and in particular for the inside and outside of electric cables, 1′ conductivity f! What is the preferred layer? Examples of the present invention will be explained below by comparing them with comparative examples. The compounds shown in the upper column of Table 1 were kneaded for 10 minutes at a resin temperature of 15°C using a 6-inch rubber kneader, and then mixed into semiconductive sheets 1 to 1 mm thick. The properties of these semiconductive sheets are shown in the lower part of Table 1. Judgment was made based on the appearance of the string.A sheet-shaped molded product was used to measure the Togi-Mouni viscosity.
In addition, the extrusion string I ~ land string is a sheet-shaped molded product, one-loss pelletizer, C pellets 1 ~, 40 mm tilli.
111k by passing l:j lX, lt. For extrusion, a metering-type scrico with l-, / l) = 22 and compression ratio of 3.5 was used, the rotation speed was 20 rrlm, and the die temperature was [7-].
To measure volume resistivity, water absorption, and thermal deformation at 0°C,
180℃, 100Kg using a press molding machine
/ci, 10 minutes of forming strip f1 to press sheets of 1 mm for the first two and 3 mm for the latter 8, and serve them.1. :. Measurement of volume resistivity is 30 m+ vertically from press sea 1~
, cut out a rectangular sea 1 ~ with a width of 100 mm, and create a rectangular sea 1
Make electrodes by applying conductive paint to both ends of the
0" C was measured. The water absorption rate was measured from press sea 1 to 50 mm in length and 80 mm in width.
Cut out a rectangular sheet 1~ of mm and place it in lake water at 90℃? Soaking-C was left until the water absorption amount was saturated, and calculations were made from the change in labor before and after soaking in oil. The heating deformation rate is 120° (] in accordance with JIS-0305.
's warm If r ill! I decided. The elongation was measured in accordance with JIS-C3005 at a tensile temperature of 200 breaths/min. 8-jsu-1 I was able to explain [Do7J11 etc. clearly 41 ways,
In the present invention, the conventional l-1) rm-based extrusion part Jl cross-linked semi-electrode 1'composition's shortcoming C was low extrusion processing] IIl was carried out in Kaiura, and qiHIJ electric power Rippu 21
Receiving telephone number 171 is like a silk product. 1. Procedural amendment (voluntary) 57.! 5.21 Showa D Month 14 Director General of the Patent Office Haruki Shimada 1982 Patent Application No. 106466 2 Title of the invention Semiconducting composition 3 Person making the amendment 4 Agent 〒】00 Location 2-1-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Telephone: Tokyo (21G) 1611 (main representative) 11- Detailed explanation of the invention in the specification to be amended. The entire text from page 11 of the Specification of Contents of the Amendment is deleted and the following text is corrected. The results obtained from the test are shown in Table 1. Example 1.2 is a composition in which Melt Intex MI 5.0 ethylene-α-olefin polyene copolymer comb and Melt Intex MI 1.8 medium-low pressure polyethylene are blended and subjected to the blending treatment specified in the present invention. This is an example of a thing. The extrudability at 150°C was good, and the volume resistivity, water absorption rate, and thermal deformation rate all showed excellent values as a semiconducting layer for an electric cable. Example 6.4 is a blend of Melt Intex MI 4.0 medium and low pressure polyethylene. Viscosity is reduced and extrudability is improved. Other properties are also good. Although the heating deformation rate increases slightly, this does not pose a practical problem. Examples 5 and 6 were Melt Intex MI 1 o, 0
This is an example using an ethylene/a-olefin-polyene copolymer rubber, and the viscosity is lower and the extrusion processability is improved compared to the example with ■φI5.0. Comparative Example 1.2 has a melt index M that is not specified in the present invention.
This is an example using medium-low pressure polyethylene with I.
Mouni viscosity is high and the extrusion appearance at 150°C is poor. Comparative Examples 6 and 4 are examples in which the blend ratio of medium and low pressure polyethylene was outside the scope of the present invention. When the blend amount of medium-low pressure polyethylene is small as in Comparative Example B, the extruded appearance is poor and the heat deformation rate is large, which causes practical problems. When the amount of blending is large as in Comparative Example 4, the elongation becomes small. Comparative Example 5 is a case where the amount of carbon black is outside the specification of the present invention, and the volume resistivity is high and the heating deformation is large, which causes a practical problem. Comparative Examples 6 and 7 are conventional examples in which ethylene/propylene rubber was used. The viscosity at 150'c was extremely high and extrusion processing was not possible. As is clear from the above explanation, according to the present invention, extrusion processability at low temperatures, which was a drawback of conventional GP rubber-based extrusion-type non-crosslinked semiconducting compositions, can be improved, and in particular, semiconductive compositions for electrical cables can be improved. It is an excellent conductive composition. ” d=4-146--

Claims (1)

【特許請求の範囲】 11−ヂレン・α−Aレノイン・ポリエン共重合ゴムと
メルトインデックスが1以上て゛ある中11(Jf法ポ
リエヂレンJ−りなり、中低圧法ポリ]−チレンの混合
比率が20〜50 @i1%である混合物100重ih
部に対し、導電性NJ LJ祠を10車m部以上添加し
Cなることを特徴どする半導電性組成物。 2 」−記二[チlノン・α−オレフィン・ポリ丁−ン
共小合ゴムは1−ヂレンど炭素数4〜10のα−オレフ
ィンどポリエンとからイrす、かつJ−ヂレンどα−オ
レフィンのモル比が75/25〜95 / Fiである
ことを特徴とする特♂[h^求の範囲第1項記載の半導
電性組成物。 3 ト記中低圧法ポリf−チレンが[ヂ1ノン・α−A
レノインJL小合係合体あり、かつα−オレフィンの1
大索数が;31メ土C゛あることを特徴とする特8′1
請求の範囲第1項まIζは第2項記載の半導電性組成物
、。 4 .1−記導電す(1イ・」!″j4A1.L尋電性
カーボンブラックで゛あることを1h徴どり−る特許請
求の範囲第1瑣、第2項または第31f4記載の半カフ
11f (ft組成物。 51−記丁轡電↑11組成物のムー二帖度ML2+4(
150’C)が30−60C・あることを特徴とする特
訂前求の範囲第1項、第2拍、第3項または第1項記載
の半導電fノ1組成物3、
[Claims] 11-Dylene/α-A renoin/polyene copolymer rubber with a melt index of 1 or more, and a mixing ratio of 11 (Jf process polyethylene J-rinari, medium/low pressure process poly)-tyrene is 20 ~50@i1% mixture 100w ih
1. A semiconductive composition characterized by adding 10 parts or more of conductive NJ LJ to 1 part of C. 2 - Note 2 [Small synthetic rubber containing thylnon, α-olefin, and polyethylene is composed of α-olefin and polyene having 4 to 10 carbon atoms such as 1-dylene, and J-dylene and α-olefin. - The semiconductive composition according to item 1, characterized in that the molar ratio of the olefin is 75/25 to 95/Fi. 3) The medium-low pressure poly-f-tyrene of
Renoin JL small engagement body and α-olefin 1
Special 8'1 characterized by having a large cable number of 31 meters C.
Claim 1 or Iζ is the semiconductive composition according to claim 2. 4. 1. The half-cuff 11f according to claim 1(4), 2(2) or 31(f4), characterized in that it is made of electrically conductive carbon black. ft composition.
150'C) is 30-60C.Semiconducting f No. 1 composition 3 according to the range 1, 2, 3 or 1 of the special edition request,
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JPS6140349A (en) * 1984-07-31 1986-02-26 Fujikura Ltd Mixture for semiconductive layer
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JPS6140347A (en) * 1984-07-31 1986-02-26 Fujikura Ltd Mixture for semiconductive layer
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6140349A (en) * 1984-07-31 1986-02-26 Fujikura Ltd Mixture for semiconductive layer
JPS6140348A (en) * 1984-07-31 1986-02-26 Fujikura Ltd Mixture for semiconductive layer
JPS6140347A (en) * 1984-07-31 1986-02-26 Fujikura Ltd Mixture for semiconductive layer
JP2011162745A (en) * 2010-02-15 2011-08-25 Hitachi Cable Ltd Conductive rubber composition

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