JPS5822077Y2 - 高温高純度ガス雰囲気炉 - Google Patents
高温高純度ガス雰囲気炉Info
- Publication number
- JPS5822077Y2 JPS5822077Y2 JP7909279U JP7909279U JPS5822077Y2 JP S5822077 Y2 JPS5822077 Y2 JP S5822077Y2 JP 7909279 U JP7909279 U JP 7909279U JP 7909279 U JP7909279 U JP 7909279U JP S5822077 Y2 JPS5822077 Y2 JP S5822077Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- gas atmosphere
- heating chamber
- purity gas
- atmosphere furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は金属及びセラミックの焼結、ロウ付、焼なまし
、表面光輝処理等の熱処理に使用する高温高純度ガス雰
囲気炉に関する。
、表面光輝処理等の熱処理に使用する高温高純度ガス雰
囲気炉に関する。
従来より高温高純度の還元性及び中性雰囲気を必要とす
る熱処理炉では、低露点の水素ガスやアルゴンガス等が
用いられており、該熱処理炉は前後又は片方に真空置換
室を接続した金属製の密閉型加熱室の内側に高純度のア
ルミナ質煉瓦を内張し、該内張煉瓦の内側に発熱体を設
け、空気、不活性ガス、還元ガス等の順に炉内を置換し
昇温しで所望の低露点に到達後、前記真空置換室より処
理物を出入して各種の熱処理がなされているが、内張煉
瓦なるため強還元雰囲気中での煉瓦は酸化物等の不純物
が反応して雰囲気を汚染し、炉内が所望の低露点に到達
するには、大量の置換ガスと時間、加へて昇温電力等極
めて経済性に劣る欠点がある。
る熱処理炉では、低露点の水素ガスやアルゴンガス等が
用いられており、該熱処理炉は前後又は片方に真空置換
室を接続した金属製の密閉型加熱室の内側に高純度のア
ルミナ質煉瓦を内張し、該内張煉瓦の内側に発熱体を設
け、空気、不活性ガス、還元ガス等の順に炉内を置換し
昇温しで所望の低露点に到達後、前記真空置換室より処
理物を出入して各種の熱処理がなされているが、内張煉
瓦なるため強還元雰囲気中での煉瓦は酸化物等の不純物
が反応して雰囲気を汚染し、炉内が所望の低露点に到達
するには、大量の置換ガスと時間、加へて昇温電力等極
めて経済性に劣る欠点がある。
本考案の目的は高温高純度ガス雰囲気炉のガス置換時に
おいて、低露点到達時間の短縮を計ることにより、大巾
な置換ガスと時間、ならびに昇温電力の節減が可能な経
済性に優る炉を提供することである。
おいて、低露点到達時間の短縮を計ることにより、大巾
な置換ガスと時間、ならびに昇温電力の節減が可能な経
済性に優る炉を提供することである。
即ち本考案の高温高純度ガス雰囲気炉は、従来炉の内張
煉瓦方式と異り、ステンレス鋼、耐熱鋼等の金属製密閉
型加熱室の外側周囲を保温材等で包被し、該加熱室の内
側周囲にモリブデン、タンタル、耐熱鋼等の金属製反射
板を適当な空間を保持して単層又は重層に設け、更に該
反射板の内側にモリブデン、タングステン等の発熱体を
配置した構造を特徴とする。
煉瓦方式と異り、ステンレス鋼、耐熱鋼等の金属製密閉
型加熱室の外側周囲を保温材等で包被し、該加熱室の内
側周囲にモリブデン、タンタル、耐熱鋼等の金属製反射
板を適当な空間を保持して単層又は重層に設け、更に該
反射板の内側にモリブデン、タングステン等の発熱体を
配置した構造を特徴とする。
以下本考案の一実施例を添付図面で説明すると、第１図
は従来炉及び本考案実施例の全体配置を示す説明図で、
処理物装入部の真空置換室２と同取出部の真空置換室２
′ヲ前後に接続した密閉型加熱室１と、装入部各プッシ
ャー３、取出部各プッシャー３′及び戻０コンベヤー４
からなるガス雰囲気炉で、処理物は上記各装置により自
動的に処理される。
は従来炉及び本考案実施例の全体配置を示す説明図で、
処理物装入部の真空置換室２と同取出部の真空置換室２
′ヲ前後に接続した密閉型加熱室１と、装入部各プッシ
ャー３、取出部各プッシャー３′及び戻０コンベヤー４
からなるガス雰囲気炉で、処理物は上記各装置により自
動的に処理される。
第２図、第３図は従来炉加熱室の部材構成を示す断面図
で、鋼板製密閉型加熱室１１の内側に高アルミナ質煉瓦
１２を内張し、該内張煉瓦の内側周囲にモリブデンヒー
ター１４を取付け、室内中央に高アルミナ緻密質レール
煉瓦１５を配列して、処理物１６を片方から連続装入す
る構造である。
で、鋼板製密閉型加熱室１１の内側に高アルミナ質煉瓦
１２を内張し、該内張煉瓦の内側周囲にモリブデンヒー
ター１４を取付け、室内中央に高アルミナ緻密質レール
煉瓦１５を配列して、処理物１６を片方から連続装入す
る構造である。
次に第４図、第５図は本考案の加熱室の部材構成を示す
断面図で、ステンレス鋼製の密閉型加熱室２１の外周を
汎用のウール材２２で包被し、加熱室２１の内側にモリ
ブデン製反射板２３を４層に配置１ル、更に該反射板２
３の内側にモリブデンヒーター２４を取付け、加熱室２
１の中央に同じくモリブデン製のガイドレール２５を設
置して処理物２６を片方から連続装入する構造である。
断面図で、ステンレス鋼製の密閉型加熱室２１の外周を
汎用のウール材２２で包被し、加熱室２１の内側にモリ
ブデン製反射板２３を４層に配置１ル、更に該反射板２
３の内側にモリブデンヒーター２４を取付け、加熱室２
１の中央に同じくモリブデン製のガイドレール２５を設
置して処理物２６を片方から連続装入する構造である。
上記のように本考案の炉は密閉型加熱室内に耐人物が全
く存在せず、反射板をもって熱遮断され、更に外部への
熱放散は加熱室の外側を包被したウール材によって防止
される。
く存在せず、反射板をもって熱遮断され、更に外部への
熱放散は加熱室の外側を包被したウール材によって防止
される。
従って本考案炉は従来炉の置換ガス、置換時間、昇温電
力等、浪費の原因となる耐火物の反応が起らないため、
雰囲気ガスの低露点到達時間は加熱室とに送気される低
露点ガス源が不活性ガスを排出させて室内に充満する迄
の時間となり、大巾に短縮されて従来の諸欠点を一拠に
解消することができる。
力等、浪費の原因となる耐火物の反応が起らないため、
雰囲気ガスの低露点到達時間は加熱室とに送気される低
露点ガス源が不活性ガスを排出させて室内に充満する迄
の時間となり、大巾に短縮されて従来の諸欠点を一拠に
解消することができる。
次にほぼ内容積の等しい加熱室を持つ本考案炉と従来炉
について、その特性の比較を次表に示す。
について、その特性の比較を次表に示す。
上記のように本考案炉は従来炉に比し格段の優れた特性
を示し、各数値が示す経済性と到達露点の一６０℃以下
は本炉が持つ最大の特徴である。
を示し、各数値が示す経済性と到達露点の一６０℃以下
は本炉が持つ最大の特徴である。
即ち設備電力は２／３、その到達時間はね、置換ガス量
は百、昇温電力で１／３６、定常ガス使用量で１／４．
５等倒れも本考案の経済的効果を表示し、加えて蓄熱量
の極端に少い本炉は、急熱急冷と緻密な温度制御が可能
である。
は百、昇温電力で１／３６、定常ガス使用量で１／４．
５等倒れも本考案の経済的効果を表示し、加えて蓄熱量
の極端に少い本炉は、急熱急冷と緻密な温度制御が可能
である。
近時ますますより経済的高温高純度のガス雰囲気炉が望
まれるが、本考案炉はその条件を満足し得る最適の炉と
云え、各種熱処理技術の分野に多大の利益をもたらすこ
とができる。
まれるが、本考案炉はその条件を満足し得る最適の炉と
云え、各種熱処理技術の分野に多大の利益をもたらすこ
とができる。
第１図は高温高純度ガス雰囲気炉の概略配置を示す説明
図、第２図は従来炉加熱室の断面図、第３図は第２図の
Ａ−Ａ線断面図で、第４図は本考案炉加熱室の断面図、
第５図は第４図のＢ−Ｂ線断面図である。 １．１１，２１・・・・・・密閉型加熱室、１２・・・
・・・内張煉瓦、２２・・・・・・ウール材、２３・・
・・・・反射板、１４．２４・・・・・・ヒーター １
５・・・・・・レール煉瓦、２５・・・・・・ガイドレ
ール、１６，２６・・・・・・処理物。
図、第２図は従来炉加熱室の断面図、第３図は第２図の
Ａ−Ａ線断面図で、第４図は本考案炉加熱室の断面図、
第５図は第４図のＢ−Ｂ線断面図である。 １．１１，２１・・・・・・密閉型加熱室、１２・・・
・・・内張煉瓦、２２・・・・・・ウール材、２３・・
・・・・反射板、１４．２４・・・・・・ヒーター １
５・・・・・・レール煉瓦、２５・・・・・・ガイドレ
ール、１６，２６・・・・・・処理物。
Claims (1)
- 前後又は片方に真空置換室を接続した金属製の密閉型加
熱室で、該加熱室の外側周囲を保温材で包被し内側周囲
に金属製反射板を設け、更に該反射板の内側に発熱体を
設けたことを特徴とする高温高純度ガス雰囲気炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7909279U JPS5822077Y2 (ja) | 1979-06-12 | 1979-06-12 | 高温高純度ガス雰囲気炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7909279U JPS5822077Y2 (ja) | 1979-06-12 | 1979-06-12 | 高温高純度ガス雰囲気炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55178700U JPS55178700U (ja) | 1980-12-22 |
| JPS5822077Y2 true JPS5822077Y2 (ja) | 1983-05-11 |
Family
ID=29312519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7909279U Expired JPS5822077Y2 (ja) | 1979-06-12 | 1979-06-12 | 高温高純度ガス雰囲気炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822077Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5839702A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 連続減圧雰囲気焼結炉 |
| JPS5845304A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 連続真空焼結炉 |
| JPS58167702A (ja) * | 1982-03-29 | 1983-10-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光エネルギ−焼結法 |
| JPS5947303A (ja) * | 1982-09-08 | 1984-03-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 焼結炉 |
-
1979
- 1979-06-12 JP JP7909279U patent/JPS5822077Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55178700U (ja) | 1980-12-22 |
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