JPS58216147A - 光学活性なn−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フエニルグリシンのラセミ化方法 - Google Patents
光学活性なn−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フエニルグリシンのラセミ化方法Info
- Publication number
- JPS58216147A JPS58216147A JP9926582A JP9926582A JPS58216147A JP S58216147 A JPS58216147 A JP S58216147A JP 9926582 A JP9926582 A JP 9926582A JP 9926582 A JP9926582 A JP 9926582A JP S58216147 A JPS58216147 A JP S58216147A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4
−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシンのラセミ化方
法に関し、更に詳しくは。
−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシンのラセミ化方
法に関し、更に詳しくは。
光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒド
ロキシメチル)フェニシダリシン全2fi量以上のアル
カリ金属水酸化物水溶液(以下。
ロキシメチル)フェニシダリシン全2fi量以上のアル
カリ金属水酸化物水溶液(以下。
アルカリ水溶液と略記する)中で加熱して光学不活性な
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−DL−フェニルグリシンを製造する方法に関する
。
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−DL−フェニルグリシンを製造する方法に関する
。
N−7セチルー3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−DL−フェニルグリシンハ、免疫賦活剤3−ヒド
ロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−L−フェニルグリ
シンの製造中間体として有用である。
ル)−DL−フェニルグリシンハ、免疫賦活剤3−ヒド
ロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−L−フェニルグリ
シンの製造中間体として有用である。
先に本発明者等は、N−アセチル−3−ヒドロキシ−4
−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシンにア
、ミノアンラーゼを作用させて不斉加水分解し、3−ヒ
ドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−L−フェニルグ
リシンヲ製造する方法を提供した(特開昭55−973
8)。
−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシンにア
、ミノアンラーゼを作用させて不斉加水分解し、3−ヒ
ドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−L−フェニルグ
リシンヲ製造する方法を提供した(特開昭55−973
8)。
この方法においては、出発原料N−アセチル−3−ヒド
ロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグ
リシン中のL−異性体のみが利用され、D−異性体は利
用されない。 従って、このD−異性体をラセミ化さ
せて不斉加水分解に利用することは、産業上大きな価値
を有するものである。
ロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグ
リシン中のL−異性体のみが利用され、D−異性体は利
用されない。 従って、このD−異性体をラセミ化さ
せて不斉加水分解に利用することは、産業上大きな価値
を有するものである。
従来、光学活性なN−アシルフェニルグリシンのラセミ
化方法として、光学活性なN−アシルフェニルグリシン
をアルカリ水溶液中で加熱する方法が知られている(特
公昭54−3860 )。
化方法として、光学活性なN−アシルフェニルグリシン
をアルカリ水溶液中で加熱する方法が知られている(特
公昭54−3860 )。
この公知方法においては、アルカリ水溶液の使用量は1
〜1.5当量が適当とされており、2当量以上のアルカ
リ水溶液の使用は脱アシル化を起すので不適当であった
(比較例1参照)。
〜1.5当量が適当とされており、2当量以上のアルカ
リ水溶液の使用は脱アシル化を起すので不適当であった
(比較例1参照)。
本発明者は光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−
4−(ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシンをア
ルカリ水溶液中で加熱するラセミ化反応を鋭意検討した
ところ、全く意外にも、1〜1.5当量のアルカリ水溶
液中ではラセミ化反応が進行せず、一方2当量以上のア
ルカリ水溶液を使用するとすみやかにラセミ化反応が進
行することを見出した。 また、2当量以上のアルカ
リ水溶液を使用する条件下では。
4−(ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシンをア
ルカリ水溶液中で加熱するラセミ化反応を鋭意検討した
ところ、全く意外にも、1〜1.5当量のアルカリ水溶
液中ではラセミ化反応が進行せず、一方2当量以上のア
ルカリ水溶液を使用するとすみやかにラセミ化反応が進
行することを見出した。 また、2当量以上のアルカ
リ水溶液を使用する条件下では。
ラセミ化反応とともに一部脱アシル化を起こすが、この
脱アシル化はアルカリ金属酢酸塩もしくはホウ酸を添加
することによって抑制されることを見出し2本発明を完
成した。
脱アシル化はアルカリ金属酢酸塩もしくはホウ酸を添加
することによって抑制されることを見出し2本発明を完
成した。
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−D−フェニルグリシンヲlJL定水酸化ナトリウ
ム中で加熱した際の、ラセミ化に要する時間と脱アセチ
ルの生成率を表記する。 ラセミ化は反応液の旋光
度が変化しなくなった時点で終結したとみなし、脱アセ
チル体は反応液を高速液体クロマトグラフィーにかけて
定量した。
ル)−D−フェニルグリシンヲlJL定水酸化ナトリウ
ム中で加熱した際の、ラセミ化に要する時間と脱アセチ
ルの生成率を表記する。 ラセミ化は反応液の旋光
度が変化しなくなった時点で終結したとみなし、脱アセ
チル体は反応液を高速液体クロマトグラフィーにかけて
定量した。
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒト本発明にお
けるアルカリ金属とは、ナトリウムもしくはカリウムを
示す。
けるアルカリ金属とは、ナトリウムもしくはカリウムを
示す。
本発明方法においては、光学活性なN−アセチル−3−
ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシ
ン1当量に対して、2当量以上のアルカリ水溶液が使用
され、好適には2〜5当量使用される。 アルカリ水
溶液の多すぎる使用量は、脱アセチル化を起こし易いと
いう点からみても好ましく々い。 アルカリ 5− 水溶液の濃度は特に制限はないが、濃度が薄いと脱アセ
チル化を起こし易い傾向があ多、また濃度が濃すぎると
反応液の粘度が増して均一に反応が進行しないので、3
〜12規定溶液が適当である。
ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシ
ン1当量に対して、2当量以上のアルカリ水溶液が使用
され、好適には2〜5当量使用される。 アルカリ水
溶液の多すぎる使用量は、脱アセチル化を起こし易いと
いう点からみても好ましく々い。 アルカリ 5− 水溶液の濃度は特に制限はないが、濃度が薄いと脱アセ
チル化を起こし易い傾向があ多、また濃度が濃すぎると
反応液の粘度が増して均一に反応が進行しないので、3
〜12規定溶液が適当である。
ラセミ化速度は、室温では長時間を要するが。
加熱によって促進される。 反応は一般に40〜10
0 Cで行なわれ、また必要なら加圧下に100C以上
の温度で行女うこともできる。
0 Cで行なわれ、また必要なら加圧下に100C以上
の温度で行女うこともできる。
脱アシル化防止のための、アルカリ金属酢酸塩もしくは
ホウ酸は、光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−
4−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシンに1当量に
対して、好ましくは0.5〜3当量、必要ならばそれ以
上の適当量が使用される。 ホウ酸にかえて、ホウ砂
、メタホウ酸ナトリウムなどのホウ酸塩を使用すること
もでき、この場合ホウ酸塩から生成するアルカリイオン
に対応する量のアルカリ水溶液を節減することができる
。
ホウ酸は、光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−
4−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシンに1当量に
対して、好ましくは0.5〜3当量、必要ならばそれ以
上の適当量が使用される。 ホウ酸にかえて、ホウ砂
、メタホウ酸ナトリウムなどのホウ酸塩を使用すること
もでき、この場合ホウ酸塩から生成するアルカリイオン
に対応する量のアルカリ水溶液を節減することができる
。
ラセミ化反応液からN−アセチル−3−ヒドロキシー4
−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシンの単
離は9反応液に塩酸を加えて酸性となし、析出する目的
物を戸数するか、あるいは塩酸酸性にした反応液から有
機溶媒によって抽出することによって行なわれる。
−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシンの単
離は9反応液に塩酸を加えて酸性となし、析出する目的
物を戸数するか、あるいは塩酸酸性にした反応液から有
機溶媒によって抽出することによって行なわれる。
これらの分離方法によって、脱アセチル生成物は塩酸塩
となって水層に移行し、除去される。
となって水層に移行し、除去される。
以下に実施例および比較例によって1本発明を具体的に
説明する。
説明する。
実施例1゜
〔α)、:0−2o6°(c 1.0 、 FitOH
lのN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシ
メチル)−D−フェニルグリシン120fおよび酢酸ナ
トリウム41rを8規定水酸化ナトリウム156tRt
に溶かし、 ’20t:’にて2時間30分加熱攪拌
した。
lのN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシ
メチル)−D−フェニルグリシン120fおよび酢酸ナ
トリウム41rを8規定水酸化ナトリウム156tRt
に溶かし、 ’20t:’にて2時間30分加熱攪拌
した。
反応液に6規定塩酸310−を加えて氷冷し、析出晶を
戸数、水洗すると、〔α〕っ○(cl、o。
戸数、水洗すると、〔α〕っ○(cl、o。
xtoa )+ m、p、 185 c (分解)のN
−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル
)−DL−フェニルグリシン1otyヲ得fc。 母
液を酢酸エチルにて抽出し、抽出物を水から再結晶して
、更に4.8fのN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−
(ヒドロキシメチル)−DL−7エニルグリシンを得た
(収率93%)。
−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル
)−DL−フェニルグリシン1otyヲ得fc。 母
液を酢酸エチルにて抽出し、抽出物を水から再結晶して
、更に4.8fのN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−
(ヒドロキシメチル)−DL−7エニルグリシンを得た
(収率93%)。
実施例2゜
光学的に活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン12.0
rおよびホウ酸3.1fに5規定水酸化す) IJウム
30−を加えて、95cにて4時間加熱攪拌した。
反応液に1.5規定塩酸160−を加えて氷冷し、析出
晶を戸数、水洗すると。
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン12.0
rおよびホウ酸3.1fに5規定水酸化す) IJウム
30−を加えて、95cにて4時間加熱攪拌した。
反応液に1.5規定塩酸160−を加えて氷冷し、析出
晶を戸数、水洗すると。
光学的に不活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−
(ヒドロキシメチル)−DL−7エニルグリシン10.
C1’を得た。 母液から水を減圧留去し、残留物を
酢酸エチル抽出して、抽出物を水から再結晶すると、更
に1.2fの光学的に不活性fxN−アセチルー3−ヒ
ドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニル
クリシンヲ得た(収率93%)。
(ヒドロキシメチル)−DL−7エニルグリシン10.
C1’を得た。 母液から水を減圧留去し、残留物を
酢酸エチル抽出して、抽出物を水から再結晶すると、更
に1.2fの光学的に不活性fxN−アセチルー3−ヒ
ドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL−フェニル
クリシンヲ得た(収率93%)。
実施例3゜
光学的に活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(
ヒドロキシメチル)−D−7エニルグリシン1.0 f
およびメタホウ酸ナトリウム・4水和物6.91に3規
定水酸化す) IJウム25−を加えて95tll’に
4時間加熱攪拌反応させた。
ヒドロキシメチル)−D−7エニルグリシン1.0 f
およびメタホウ酸ナトリウム・4水和物6.91に3規
定水酸化す) IJウム25−を加えて95tll’に
4時間加熱攪拌反応させた。
実施例2と同様の後処理を行なって、光学的に不活性な
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−DI、−フェニルグリシン11、jMを得た(収
率94チ)。
N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−DI、−フェニルグリシン11、jMを得た(収
率94チ)。
実施例4゜
光学的に活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(
ヒドロキシメチル)−D−7エニルグリシン19.21
Pを8規定水酸化ナトリウム25−に溶かし、68〜’
70tll’にて2時間加熱攪拌した。
ヒドロキシメチル)−D−7エニルグリシン19.21
Pを8規定水酸化ナトリウム25−に溶かし、68〜’
70tll’にて2時間加熱攪拌した。
反応液に6規定塩酸5oゴを加えて氷冷し、析出晶を戸
数、水洗すると、光学的に不活性な 9− N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−’DL−フェニルクリシン16.’7 f ヲ得
た(収率87%)。
数、水洗すると、光学的に不活性な 9− N−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチ
ル)−’DL−フェニルクリシン16.’7 f ヲ得
た(収率87%)。
実施例5゜
光学的に活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン4.78f
を12規定水酸化ナトリウム5−に溶かし、40Cにて
4時間加熱攪拌すると。
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン4.78f
を12規定水酸化ナトリウム5−に溶かし、40Cにて
4時間加熱攪拌すると。
旋光計の読みは、 −5,43から一〇、56になっ
た。
た。
また反応液を高速液体クロマトグラフィーにて測定した
脱アセチル化率d5%であった。
脱アセチル化率d5%であった。
反応液に2規定塩酸を加えてpH1に調整後氷冷し、析
出晶を戸数、水洗すると、光学的に不活性なN−7セチ
ルー3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL
−フェニルクリシン4.Ofを得た(収率84%)。
出晶を戸数、水洗すると、光学的に不活性なN−7セチ
ルー3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)−DL
−フェニルクリシン4.Ofを得た(収率84%)。
実施例6゜
実施例5と同様な実験を、2.5規定水酸化すトリウム
2o−中で、95Cに2時間加熱攪拌して行なうと、旋
光針の読みは−1,64がら一〇、o4になシ、脱アセ
チル化率は28%であった。
2o−中で、95Cに2時間加熱攪拌して行なうと、旋
光針の読みは−1,64がら一〇、o4になシ、脱アセ
チル化率は28%であった。
反応液を実施例5と同様の後処理を行なうと光学的に不
活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキ
シメチル)−DL−フェニルグリシン2.5Btを得た
(収率54%)。
活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキ
シメチル)−DL−フェニルグリシン2.5Btを得た
(収率54%)。
実施例7゜
実施例4における水酸化ナトリウムにかえて水酸化カリ
ウムを用い、同様の操作を行なうと。
ウムを用い、同様の操作を行なうと。
光学的に不活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−
(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシン16.
5fを得た(収率86%)。 この場合の脱アセチル
化率は11%であった。
(ヒドロキシメチル)−DL−フェニルグリシン16.
5fを得た(収率86%)。 この場合の脱アセチル
化率は11%であった。
比較例1゜
光学的に活性なN−アセチル−D−フェニルグリシン9
.65Fを6規定水酸化ナトリウム5〇−中にて、70
Cで2時間加熱反応した。 反応液を高速液体クロマ
トグラフィーにより脱アセチル化率を測定したところ2
8%であった。
.65Fを6規定水酸化ナトリウム5〇−中にて、70
Cで2時間加熱反応した。 反応液を高速液体クロマ
トグラフィーにより脱アセチル化率を測定したところ2
8%であった。
反応液に6規定塩酸60づを加えて氷冷し。
析出晶をp取、水洗すると光学的に不活性なN−アセチ
ル−DL−フェニルクリシン6、Ofを得た。
ル−DL−フェニルクリシン6、Ofを得た。
比較例2゜
光学的に活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン12.C1
’を5規定水酸化ナトリウム15−中で95Cに5時間
加熱し9反応液の50倍希釈水溶液の旋光度を測定した
が、全く変化がなかった(旋光度−3,15)。
ヒドロキシメチル)−D−フェニルグリシン12.C1
’を5規定水酸化ナトリウム15−中で95Cに5時間
加熱し9反応液の50倍希釈水溶液の旋光度を測定した
が、全く変化がなかった(旋光度−3,15)。
反応液に6規定塩酸15−を加えて氷冷し。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 り光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒ
ドロキシメチル)フェニルグリシンを2当量以上のアル
カリ金属水酸化物の存在下に、水溶液中で加熱すること
を特徴とする。 光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒド
ロキシメチル)フェニルグリシンのラセミ化方法。 λ光学活性なN−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒ
ドロキシメチル)フェニルグリシンを2当量以上のアル
カリ金属水酸化物の存在下に、0.5当量以上のアルカ
リ金属酢酸塩もしくはホウ酸を添加し、水溶液中で加熱
することを特徴とする。光学活性なN−アセチル−3−
ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フェニルグリシ
ンのラセミ化7[。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9926582A JPS58216147A (ja) | 1982-06-11 | 1982-06-11 | 光学活性なn−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フエニルグリシンのラセミ化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9926582A JPS58216147A (ja) | 1982-06-11 | 1982-06-11 | 光学活性なn−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フエニルグリシンのラセミ化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58216147A true JPS58216147A (ja) | 1983-12-15 |
JPH0314014B2 JPH0314014B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=14242862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9926582A Granted JPS58216147A (ja) | 1982-06-11 | 1982-06-11 | 光学活性なn−アセチル−3−ヒドロキシ−4−(ヒドロキシメチル)フエニルグリシンのラセミ化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58216147A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522014A (ja) * | 2003-04-09 | 2006-09-28 | レ ラボラトワール セルヴィエ | S−インドリン−2−カルボン酸を合成する新規な方法、およびペリンドプリルの合成におけるその適用 |
-
1982
- 1982-06-11 JP JP9926582A patent/JPS58216147A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522014A (ja) * | 2003-04-09 | 2006-09-28 | レ ラボラトワール セルヴィエ | S−インドリン−2−カルボン酸を合成する新規な方法、およびペリンドプリルの合成におけるその適用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0314014B2 (ja) | 1991-02-25 |
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