JPS58215649A - エツチングレジスト - Google Patents

エツチングレジスト

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Publication number
JPS58215649A
JPS58215649A JP9221483A JP9221483A JPS58215649A JP S58215649 A JPS58215649 A JP S58215649A JP 9221483 A JP9221483 A JP 9221483A JP 9221483 A JP9221483 A JP 9221483A JP S58215649 A JPS58215649 A JP S58215649A
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JP
Japan
Prior art keywords
gelatin
photocrosslinkable
reactant
substance
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP9221483A
Other languages
English (en)
Inventor
メルビン・ア−サ−・シ−ボ−ン
ロス・アレクサンダ−・バルフオ−
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OOTOTAIPU INTERN Ltd
Original Assignee
OOTOTAIPU INTERN Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by OOTOTAIPU INTERN Ltd filed Critical OOTOTAIPU INTERN Ltd
Publication of JPS58215649A publication Critical patent/JPS58215649A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/04Chromates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はゼラチンを基剤とするエツチングレジストに関
する。感光性の顔料を含ませたゼラチン被覆をエツチン
グレジストの製造に用いることは古くから確立された技
法である。これは主として、水溶性のコロイドのうちゼ
ラチンのみが清浄な銅の表面に対してすぐれた接着性を
示すこと、及びエツチング段階の過程でやはりゼラチン
のみが非常に繊細な示差的制御をもたらすことによる。
ゼラチンを基剤とするレジストは、回転式写真グラビア
印刷シリンダー及びプレートの製造に特に有用である。
上記の目的のためにゼラチンを感光性にする方法は二通
りある。無機の重クロム酸塩を用いる方′法と、有機の
光反応開始剤と組合せてエチレン状不飽和モノマーを用
いる一方法とである。
i りo ム酸塩による増感処理は、フィルム又は紙の
上に塗布されたゼラチン層に重クロム酸塩を吸収させる
か、又は塗布の段階でゼラチン溶液に重クロム酸塩を加
えるかのいずれかの方法にょっ〜て行うことができる。
この増感方法の詳細については、「ライト−センシティ
ブ システムズ」(Light−8ensitive 
Systems ) (1966年ウィリー(Wiry
 )発行〕という本にコサール(Kosar)が記述し
′Cいる。モノマーによる増感は、特定モノマーの微細
液滴をセ゛ラチン溶液に分散させ、フィルム支持体上に
組成物km布する前に、化学線で活性化される有機光反
応開始剤系を加えることからなる。この後者の方法につ
いては、英国特許第1,290,727号、第1,29
1,970号及び第1,483,391号各明細書に開
示されている。
慣用のグラビア印刷の場合、感光性のレジスト層は化学
線に2回露光される。1回の露光は慣゛用あホワイト−
ラインスクリーンを通して行い、その後次の露光を連続
階調透明ポジを通して行う0次にエツチングすべき表面
を水で濡らし、湿潤銅表面にゼラチンを接触させて紙又
はフィルムにローラーで圧力をかりるなどして露光ずみ
の層を該表面に移す。次に裏地のフィルム又は紙を取除
く。
重クロム酸塩で増感したレジストの場合には、約45℃
の水で非露光コロイドを現像する。次いで残った像を乾
燥し、引続き塩化第二銅のエツチング剤で処理する。こ
のエツチング剤が示差的にレジスト内に浸透し、金属シ
リンダー上に凹版面を生じる。一方モツマー含有の増感
系の場合には、現像工程が割愛され、単にシリンダー上
に前記のごとくレジスト物質移し、その後直ちにエツチ
ング処理を行う。
前記の主要形態のうちのいずれにおいても、公知の方法
はゼラチン−重クロム酸塩又はゼラチン−モノマー混合
物が不安定であることによる制約を受ける。前者の場合
、暗反応が常温で起こり、2〜6日の間に増感レジスト
が硬化してしまう。
それによυ、写真感度が非制御的に増進し、ついには塗
膜全体が現像工程で不溶性となるに到る。
従って重クロム酸塩で増感したレジスト物質は、製造後
数時間又は2〜6日以内に使いきるか、又は低温、典型
的には一20℃で増感物質を保存することが必要である
ゼラチン−モノマーミックスの場合には、暗反応が急速
に起こり、レジストは不溶性となって現像不能になる。
モノマ一対ゼラチンの比率を高くすることにより、示差
的な光硬化が依然として起こるようにすると共に現像段
階を省略する。非常に硬いホトレジストが形成されるた
め、エツチング剤が層内に浸透するのは遅く、エツチン
グ時間が異常に長ひき、階調(tonal grada
tion )全般に亘る制御が充分に行えないことにな
る。
重クロム酸塩法の基本となる写真化学的原理が、化学線
にさらすことによって重クロム酸塩中のりD ム(vI
) カフ0 ム(Ire)に還元され、このクロム(2
)がゼラチン分子中の活性基(主としてカルボン酸基と
考察される)と反応して露光領域内に不溶性の層を形成
することにあるということは一般に認められている。暗
反応は、光の不存在下においてもクロム(Vl)イオン
のクロム(2)への化学的還元を徐々に引きおこすゼラ
チン内の活性官能基、恐ら(−NH2基によって生じる
ものと考察される。またゼラチン−モノマー組合せの場
合には、モノマーの存在下で−NU2基が架橋反応を起
こして塗膜の急速不溶性化をきたすものと考察される。
重クロム酸塩増感系の安定性を改善するために多くの提
案がなされた。それらの例として、塗布エマルションの
PHを高くする方法(前記のコ丈−ルの著書に記載)、
乾燥アンモニアガスの雰囲気内に増感物質を保存する方
法(日本国特許第八664,918号)、及びくえん醗
、修酸又は酒石酸のような錯化剤を添加する方法(仏画
特許第1,572,207号)?:あけることができる
。これらの方法は層の感光度を相当低下させ、従ってエ
ツチングレジストの製造に必要な露光時間を異常に長び
かせる。
還元されたクロムイオンによって金属イオン封鎖剤が次
第に飽和されるようになシ、そして、その現象が起きる
と常温での急速エージングが進行するので、保存寿命に
関して得られる利得も制限される。
ある種の化学的に変性されたゼラチンを用いることによ
り、常温における増感製品の保存寿命安定性が実質的に
改善された予備増感エツチングレジストを製造しうろこ
とが今回発見された。
本発明による、光増感ゼラチン組成物の層を有する支持
体からなる、エツチングレジストとして用いるのに適し
た元架橋性物質は、ゼラチンのアミン基の置換全惹起す
る反応体を用いた処理によってゼラチンが変性ずみであ
ることを特徴とするものである。
本発明に用いうるように変性されたゼラチンは、硬化現
象(tanning ) f生じる暗反応を起こすこと
ができない。反応体は、特に有用であることがすでに認
められているイソシアン酸であるのが望ましい。適当な
変性ゼラチンの他の例は、有機無水物、例えば無水フタ
ル酸又は無水こはく酸ど反応させて製造したもの(米国
特許第2.525.753号を参照されたい)、又は有
機酸クロライドと反応させたものである。また、ゼラチ
ンをイソシアネ。
−ト、例えはアルカリ金属のインシアン酸塩又はフェニ
ルイソシアネートと反応させることによっても変性処理
を行うことができ、後者の場合にはアミン基がフェニル
−尿素鰐導体に変換される(米国特[yT、第2,59
2,263号を参照されたい)0多ぐの場合、変性処理
により低PH値におけるゼラチンのコアセルベーション
が起きる。残念なことに、この性質は特に明部(hig
b、11ghtarea)において、酸性条件下におけ
るレジストの膨潤性欠如に起因してエツチング剤の浸透
に悪影響を及はす。その結果としてエツチング時間が長
くなり、このようなゼラチンを用いて製造した印刷プレ
ート又はシリンダーの明部と暗部(shadow ar
θa)との間の階調が許容限界外となる。非常に高いコ
ントラストが生じる恐れがあシ、そして暗部のトーン分
@ (shadow tone 5eparat1on
 )における損失勿きたす。安定性と良好な明部のエツ
チング性とを許容範囲内で両立させるためには、化学的
に変性されたゼラチンと、置換してないゼラチンとを混
合してエツチング特性を修正すればよい。
しかし、これによって製品の保存寿命は若干低下する。
さらにまた、これらの化学的に変性したゼラチンは、す
でに述べたとお9増感生成物の保存寿命を実質的に改善
するけれども、レジストをエツチングするのに要する時
間は意外に延長されず、しかも階調的エツチング性がす
ぐれていることが見いだされた。
本発明の一害施に用いられるゼラチンの好ましい変性法
はイソシアン酸による処理を包合し、該インシアン酸を
適当な塩その他の化合物(イソシアン酸を制御された状
態で放出しうる物質)からその場で発生させるのが最も
有利碌方法である。イソシアン酸は、ゼラチンに含まれ
るアミン基を対応する非置換尿素に変換する。これによ
って前記の暗反応が阻止され、低PH値におけるコアセ
ルベーションが回避されるので、変性されたゼラチ、ン
はエツチング剤の塩化第二鉄の制御された浸透を可能に
し、良好なエツチング性を得ることができる。イソシア
ン酸又はその前駆体と反応させて変性したゼラチンを製
造することについては米国特許第2,816.0.99
号明細書に開示されているが、このような変性ゼラチン
をエツチングレジストに応用することは今までに提案さ
れたことがない〇アミン基が変性されているゼラチンを
用いることの重要な利点の一つは、有機光反応開始剤系
と併用した際、適当なエチレン状不飽和モノマーを選ぶ
ことによシ、ゼラチン層内の不溶化現象を回避しうろこ
とである。その際得られるホトレジストは、良好な保存
寿命を有すると共に、正常なエツチング時間を発揮し、
しかも階調制御が良好に達成される。
前記の塗布製品には、顔料、可塑剤及び界面活性剤のご
とき添加剤が通常含まれる。
本発明に呵る光架橋性物質の好ましい態様においては、
支持体は化学的に変性したゼラチンを塗布したフィルム
又は紙で構成し、光架橋性の層から剥がすことができる
ようにする。ゼラチンは慣用の手段によって増感させる
ことができる。好適な増感剤には、化学線によって活性
化されうる光反応開始剤と共に用いら益るエチレン状不
飽和モノマーの溶液又は分散液と、無機の重クロム酸塩
との両者が包含される。
本発明が充分に理解されるように、例示のみを目的とし
ていくつかの例を記載する。例1及び5は従来技術を表
わす比較例で、l、例2〜4及び6は本発明についての
実施例である。
例  1 240Iブルームライム化(bloom limed 
)骨質ゼラチン            9011水 
                        3
50Fグリセリン           15.9★ 「ルコニルプラウy (Luconyl Brown)
 295 J    8 g及りロム酸カリウム   
          6g★「ルコニル」はBASFの
商標。
高剪断ミキサーを用い、上記の成分を45°Cで2分間
混ぜ合せた後、得られたエマルジョンのPHが中性にな
るように調節した。次に140 gsmの印画紙又は適
当に下塗り処理を施し声厚さ125μのポリエステルか
ら力る剥離可能な支持体上に、乾燥塗膜の厚さが45μ
となるように前記混合物を塗布した。
得られたフィルムの試料に対する露光処理を、バーキー
(Berkey )の「アダルックス」(Addalu
x ) 2 KW金属ハライド光源から120αの距離
で6.5分間ホワイトライングラビアスクリーン(60
条/crn)を用いて行った後、1.75から0.60
の範囲の光透過濃度(optical tranF3m
issioraeneity )を組込んだグラビアグ
レー階段光学くさび(gravure grey st
ep−wedge )に等しい露光を行うことによって
達成した。
フル光ずみのエマルジョンを化学的に清浄化した銅の鉄
面に常法を用いて転移させ、45℃の水中で現像してレ
ジス)Th製造した。21°Cにおいてボーメ39.2
°に調節した「ブルーラベルJ (BluθLabe1
)〔N■ハントケミカル(Hunt Ohemioal
)の商品名〕の塩化第二鉄エツチング剤中で前記のレジ
ストに対するエツチングを行ったところ、300秒でエ
ツチングが完了した。これは0.6のポジの明部濃度に
相当する0 感光性の塗膜を21°±1°C/60%±5%相対湿度
の状態に保持し、一定の間隔を置いてフィルムの別の試
料について前記の方法を実施した。最高4日までは現像
されたレジス)t−生成することが可能であるが、それ
をこすと塗膜が不溶性となってしまい、もはや役に立た
ないことが認められた。
例  2 1  前記の例1に記載した方法でエマルジョンを製造
して塗布したが、ゼラチンを無水7タル酸と反応させる
ことにより、有効−NH2098%が置換される程度に
ゼラチンを変性した。
例1に記載のごとく加工した塗膜は、同じ条件の下で1
000秒の濃度ファクターが0.6であるエツチング時
間を示した。しかしながら、例1において特定した条件
下に塗膜を保持した場合、10日間に亘ってレジストは
エツチングの目的に適う現像が可能であった。無水7タ
ル酸によるゼラチンの変性処理によジ、レジスト物質の
使用可能時間が実質的に延長される0 例  6 前記例1に記載の方法でエマルジョンの製造及び塗布を
行ったが、有効−NH2基の97%が置換される程度に
ゼラチンをフェニルイソシアネートと反応させて変性し
た。
例1に記載のごとく加工した塗膜は、2000秒の濃度
ファクターが0.3であるエツチング時間を示し、前記
の条件下において最高12日までエツチング用の現像が
可能であった。
例  4 前記例1に記載の方法でエマルジョンの製造及び塗布を
行ったが、有効−NH2基の98%が置換される程度に
ゼラチンをイソシアン酸カリウムと反応させて変性した
例1に記載のごとく加工した塗膜は、500秒の濃度フ
ァクターが0.6のエツチング時間を示し、20日間に
亘って現像可能なレジストを生じた0例  5 溶液1 240gブルームライム化骨質セ゛ラチン      
50  F水                   
      500  gジエチレングリコール   
           5gビクトリアブルー(Vic
toria Blue  )B     Q、3 g(
カラーインデックス 44055 )溶液2 ペンタエリトリトールトリアクリレート     6U
J   g2−クロロチオキサントン        
    0.05gエチル−〇−ジメチルアミノベンゾ
エー)          0.10.F溶液1及び2
を別個に調製したうえ、45°Cにおいて高速高剪断分
散機でブレンドし、ゼラチン溶液中に油相が分散した均
一のエマルジョンを製造した。pi(を中性に調節した
後、下塗p処理した適尚なポリエステル支持体にこの混
合物を塗布し、乾燥時の厚さが25μとなるようにした
いずれの場合にも露出時間を60秒とした以外は、例1
のごとく露光処理を施した。清浄な銅の表面にフィルム
を転移させ、支持体を取除い゛た。
水による現像段階を省略し、20℃でボーメ40゜に調
節された「ブルーラベル」エツチング剤中テ露光層を直
接エツチングした。グレースクール段階に対応するトー
ンの浸透を第1表に示す。エツチングを継続して凹像(
intaglio image )を得た。第1表に得
られた結果を贋約して示す。
第  1  表 欄(1)に示すそれぞれ3通シの透過濃度における浸透
時1’+Uを測定した後〔測定時間は欄(2)に示すと
おυ〕、21°±1゛C及び60裂土5%RHに24時
間保持した後の塗膜について同じ試験を行ったところ、
欄(3)に示すとおりエツチング時間が長くなった。こ
のようにエツチング時間が長くなったこトハ、コロイド
とモノマーとが相互作用を続けて溶解性を低下させたこ
とに起因するものである0例  6 イソシアン酸と反応させて製造したゼラチン誘導体(米
国特許第2.816.099号明細誉記載の方法による
)を用いた以外は、例5に記載したようにエマルジョン
を製造して塗布した。
例5に記載のごとく露光及び処理を行ったところ、第2
表に示すようなエツチング時間が得られた0 この場合における欄(3)に示した浸透時間は、例5に
記載の条件下に20日間エージングした後の測定値であ
る。
代理人 浅 村   皓

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  光増感ゼラチン組成物の層を有する支持体か
    らなる、エツチングレジストとして用いるのに適した光
    架橋性物質であって、ゼラチンのアミン基の置換を引き
    おこす反応体を用いた処理によってゼラチンがすでに変
    性されていることを特徴とする前記の光架橋性物質。 (2)反応体かインシアン酸である、特許請求の範囲(
    1)に記載の光架橋性物質。 (3)  反応体が有機酸クロライドである、特許請求
    の範囲(1)に記載の光架橋性物質。 (4)反応体が有機酸無水物である、特許請求の範囲(
    1)に記載の光架橋性物質。 (5)有機酸無水物が無水フクル酸及び無水こはく酸か
    ら選ばれたものである、特許請求の範囲(4)に記載の
    光架橋性物質。 (6)反応体が有機又は無機のイソシアネートである、
    特許請求の範囲(1)に記載の光架橋性物質。 (カ インシアネートがフェニルインシアネート又はイ
    ンシアン酸カリウムから選ばれたものである、特許請求
    の範囲(6)に記載の光架橋性物質。 (8)反応体を用いた処理によって変性された光増感ゼ
    ラチンと、少なくとも1種の置換してないゼラチンとが
    層内に存在している、特許請求の範囲(1)〜(力のい
    ずれか1項に記載の光架橋性物質。 (9)  ゼラチンに対する増感剤が無機の重クロム酸
    塩である、特許請求の範囲(1)〜(8)のいずれか1
    項に記載の光架橋性物質。 00)ゼラチンに対する増感剤がエチレン状不飽和モノ
    マーの溶液又は分散液である、特許請求の範囲(])〜
    (8)のいずれか1項に記載の光架橋性物質0αυ 化
    学線によって活性化される光反応開始剤系が光増感ゼラ
    チン層に混和されている、特許請求の範囲(9)又は住
    0)に記載の光架橋性物質O(1カ  支持体がフィル
    ム又は紙からなυ、露光後に層から剥がしうるものであ
    る、特許請求の範囲(1)〜(iυに記載の光架橋性物
    質。
JP9221483A 1982-05-26 1983-05-25 エツチングレジスト Pending JPS58215649A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8215360 1982-05-26
GB8215360 1982-05-26

Publications (1)

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JPS58215649A true JPS58215649A (ja) 1983-12-15

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ID=10530637

Family Applications (1)

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EP (1) EP0095235A3 (ja)
JP (1) JPS58215649A (ja)

Family Cites Families (7)

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Also Published As

Publication number Publication date
EP0095235A2 (en) 1983-11-30
EP0095235A3 (en) 1984-09-05

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