JPS58215409A - ケイ素原子を有するアクリル系重合体 - Google Patents

ケイ素原子を有するアクリル系重合体

Info

Publication number
JPS58215409A
JPS58215409A JP9808982A JP9808982A JPS58215409A JP S58215409 A JPS58215409 A JP S58215409A JP 9808982 A JP9808982 A JP 9808982A JP 9808982 A JP9808982 A JP 9808982A JP S58215409 A JPS58215409 A JP S58215409A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
formula
structural units
lower alkyl
acrylic polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9808982A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhide Saigo
斉郷 和秀
Shigeyoshi Suzuki
成嘉 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP9808982A priority Critical patent/JPS58215409A/ja
Priority to US06/501,201 priority patent/US4551417A/en
Priority to IE1339/83A priority patent/IE54731B1/en
Priority to CA000429834A priority patent/CA1207216A/en
Priority to EP83303324A priority patent/EP0096596B2/en
Priority to DE8383303324T priority patent/DE3363914D1/de
Publication of JPS58215409A publication Critical patent/JPS58215409A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な化合物でおる次式: (1) %式% で表わされる構造単位からなるケイ素原子を導入したア
クリル系重合体に関する。
式(IIにおいてルは水′lA原子、低級アルキル基を
表わし 1%/はメチル基、エチル基、プロピル基ブチ
ル基等の低級アルキル基を表わし、X及びYは各憚成単
位のモル比を表わし、X=0の場合は、ケイ素原子を有
するアクリル酸誘導体の単独重合体を意味する。
式(1)における単量体単位Aはアクリルと共重合し得
る松傾のエチVン性不飽和化合物で具体例として下記の
化合省が挙げられる。アクリル酸及びメタクリル酸誘導
体8例えばアクリル酸及びメタクリル酸のメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル。
グリシジル、ビニル、アリルエステル等、スチレン誘導
体9例えばジビニルベンゼン10−、’FF1−。
又はp−クロルメチルスチレン、m−及びp−混合物ク
ロルメチルスチレン、α−メチルスチレン。
他に酢酸ビニル、メチルビニルケトン、N−ビニルピロ
リド/、ビニルピリジン等が含まれる。
本発明において式filの構造単位からなる重合体は上
記の犀量体の重合に1通常採用される公^知のラジカル
開始剤例えば過酸化物、アジド化合物を用いてl1li
造することが出来る。
本発明の重合体は次の点で有用な化合切である。
本発明の重合体中にトリアルコキシシリル基を含むため
ガラス表面もしくはシリコーン基板上IC接着力が著し
く向上される。したがって密着性の良い塗料1強靭な接
着剤となり、はがれを生じないフィルムを形成すること
が出来る。
さら罠本発明の重合体はケイ素原子を含有するため、酸
素プラズマに対する耐性が着しく向上する@重合体中に
ケイ素原子t@むと(?lIえはポリジメチルクロキサ
ン)耐#木プラズマ性が向上することはすでに知られて
いる0(G−N−Taylorand T、M、Wol
f 、 Polymer Kng・8ci−,20゜1
087(1980))  Lかしながらこの種の公知の
物質、たとえばポリジメチルクロキサンはガラス転移点
が低いため他の性能2例えばフィルム形成能岬が悪く取
扱いが困難であり、レジストとしての感度も十分でなく
使用範囲が限られている。本発明重合体は通常の有機溶
剤1例えばアセトン。
ベンゼン、エーテル、クロロホルム吟に癖%L。
有機素材、無機素材」:に均一で固い、優れ九フィルム
を形成することが出来る。さらに本発明の重合体(たと
えばPo1y (SiMA−0M8)、Po1y (S
iMA−GMA)などの共重合体)は電子ビームに対し
て高感度で、高解像度(サブミクロン程度)のパターン
を形成することが出来、優れたレジスト材料と々る。し
かもレジスト材料として広く一般に用いられているノボ
ラック樹脂(たとえばAZ−1350J(商品名))と
酸素プラズマ耐性に対して比較するときわめてすぐれて
いることがわかった。偽えH,o2の反応性スパッタエ
ツチングによる膜減りは前記ノボ2ツク11脂が1.5
μmエツチングされる間にPoly(GM人go−8i
MAzo )は0.22 /jln #Po l y 
(G M A s o −3IMλ5o)は620Aし
かエツチングされなかったり 以下、実施例によね本発明を説明する。。
実施例1 窒素吹込み管、コンデンサー及び温度計を取りつけ&1
00m1三つロフラスコ中に、水素化カルシウム上で蒸
留精製した無水3−トリメトキシシリルクロビルメタク
リレート(SiMA)3.07’(0,012モル)#
 金属す) IJウムで脱水した無水ベンゼン30m/
及びクロロホルム−メタノール5− 系で再tJ:、#精製した過酸化ベンゾイル(BPO)
0.0087 ’/ (0,3モル%)を添加し、8時
l!1短流温度で反応させた0反応終了俵0反応液を多
量の石油エーテル中に投入し枯11j液体の重合体を下
1―に得た。」−ノ一部をデカンテーションした後ベン
4フ50m/Ic再度醍解させ、多量の石油エーテルに
この生成物の分析籠れ以下の様である。
O赤外線スペクトル(フィルム): 1230.110
0゜1020ffi−’ Q核娼気共鳴スペクトル(CI)CIB、’l’M8)
 :δ0.5〜1.2(br、311.Cll3) 、
 ]。5〜2.2(br、6H。
3CH2)、3.52(’お91−1 s 3 C1l
 20 ) −18〜4,0(b r I211 、 
CH20CO)6分子量及び分子量分布(ゲルパーミッ
ションクロマトグラフィにより測定。以下の実施例も同
じ):Mw=45,000.Mn”21,000゜Mw
/ M n = 2.14 0ケイ素含有量:11.57%(単量体からの計算6− 値1t、z9%) 以上の分析結果よシ重合体の組成は次の様になる。
CH3 ■ −(−CH2−C± −0 CH2 CH2 CH2 Cf(30S 1()CH3 CH3 実施fli2 実施例1に記載した装置にa iMA 5. Of (
0,02モル)、水素化カルシウム上で蒸留精製したク
ロルメチルスチレン(CH8)3.07((1,(12
モル)。
BPo 0.028F(0,3モル+1)、無水ベンゼ
ン50m/を添加し、8時間還流温度で反応させた。
反応終了後2反応液を石油エーテル中に投入し白色粉末
の重合体を得た。重合体をう別しふたたびベンゼンsO
m/Kmかし石油エーテル中に投入この生成物の分析値
は次の様である。
Q赤外線スペクトル(KBr ): 1250,121
5゜1110.1050備−1 ・核磁気共鳴スペクトル(CDCl 3 、TM8 )
 :δ0.6〜1.2 (br、 3ムl 、 C1(
3) 、 1.4〜2.0(br、1011.40H2
及びArCH) 、 3.s (8゜90.01130
)、4.4(br、2H,CH2C1)−6,2〜7.
2 (br、41Lc6114 )O分子1及び分子成
分布:Mw−140,000゜Mn鋼63,000 、
 Mw/hln−2,22・ケイ素含有量;666チ 以上の分析結釆工多生成物の組成及びx、ylは次の様
になる。
CH3 譬 c、H2ci        。
亀 CH2 CH2 CH2 CH308i 0 CH3 ct−i3 実施例3 実施例1で記載した装置に8 i MA3.7 f (
0,015モル)、GMSs3f(0,035モル)、
BPOo、035y−(03モルチ)、無水ベンゼン5
0m1t添加し。
還流温度で8時間反応させた。反応終了後反応液この生
成物の分析値は次の様である。
9− O赤外線スペクトkc K、Br )1270.121
5゜1130.1050鋼−1 ・ケイ重含有量!4.4tl優 以上の分析結果よシ組成及びx、ylは次の様になる。
−CH3 l12 elf□ ell□ C1(30−8l −QCH3 麿 CH3 実施例4 実施例1で記載した装置に51MA3.07(0,02
モル)、水素化カルシウム上で蒸留精製したアリルメタ
クリレート(AM)2.5j’(o、o2−v−u)。
lO− 1うPoo、028i(0,3モル係)、無水ベンゼン
50m1′t−添加し0M流温度で2時間半反応させた
反応終了後1反応液を多量の石油エーテルに投入この生
成管の分析値の次の様である。
O赤外線吸収スペクトル(KBr):1730゜112
0.1040,930α−1 ・核磁気共鳴スペクトル(CDC13,TM8):δ0
.5〜1.4(br、6H,2ci(3)、1.5〜2
.2(br。
8H14CH2)、3.6(8,9H,0CH3)、3
.7〜4.0(br、2H,CH20CO)、4.3〜
4.5(br、2H−OCH2CH=CH2)、5.1
〜6.1(br I3H,CH2=CH)。
O分子量及び分子量分布:Mw−103,000゜Mn
=4 s、o 00 、 MW/Mn=2.150ケイ
素含有量:6.93% 以上の分析結果より組成及びX、Y値に次の様になる。
(”II、C113 C112cH2 Cム1 s O−8t  OCH3 星 CH3 実施例5 実mfll 1 ニ記載した装置K 81MA3.7 
L?(0,015モル)、AM4.47(0,035モ
ル)、BPOo、035ff(0,3モル% ) 、無
水−zン−vy5oml ’を添加し、還流温度で1時
間半反応させた。反応終了後反応液を多量の石油エーテ
ルに投入して白色粉末この生成物の分析11[a次の様
である。
・赤外線吸収スペクトル(KBr ):1720゜11
20.1000.930ffi” 0分子量及び分子量分布:Mw=147,000゜Mn
=59,000 、Mw=Mn=2.490ケイ素含有
量:5.26チ 以上の結果より組成及びX、Y@は次の様になる。
CH30H3 C=OC=0 1 θ          0 1 CH2CH2 1 CHCH2 II           1 CH2CH2 CH30−−81−OCH3 OCH3 実施例6 実施例1に記載した装置に81MA3.o L?(0,
02モ13− ル)、水素化カルシウム上で蒸留精製したグリシジルメ
タクリレート(GMA ) 2.8 f (0,021
−ル) 。
BPOo、028 f (03モに’16 ) * 1
Ii=水ベンゼン50m/を添加し還流温度で8時間反
応させた。反応終了後反応液を多電の石油エーテルに投
入し白色この生成物の分析値は次の様である。
O赤外線吸収スペクトル(KBr ):1730゜12
50.10109O” O核磁気共鳴スペクトル(CDC13、TM8):δ(
l B−1−3(L) r 、611 T 2 CH3
) 、14〜2.2 (br 。
1011 、5 CH2) 、 2.5〜2.7 (b
r、 IH。
uilpoxy ) e 2.7〜2.e (brel
H,Ii!poXy ) 。
3.1〜3.3 (br、 IH,hlpoxy ) 
、 3.55 (8゜9H13CH30) −3,8〜
4−0 (br e 2HaCH20CO) 、4.1
〜4.4 (br 12H,CH2=CH)口分子邊及
び分子量分布!Mw−109,000゜Mn−51,0
00、Mw/MH−2,140ケイ素含*ms’t、3
a4 −14= 以上の分析結果より組成及びX、Y値は次の様になる。
c=oC−0 1 0 CH30−840CH3 CH3 実施例7 実施例1で記載した装置に84MA377(o、01s
モル)、0M人4.9デ(o、 035モル)、BPO
O,035%(0,3モル%)、無水ペンゼア 50m
lを添加し、R流温度で8時間反区させた。反応終了後
1反応液を多量の石油エーテル中に投入し白色粉末の重
合体を得、実験例2に記載した様に槓この生成物の分析
随は次の様である。
O赤外線吸収スペクトル:1730,1270゜105
01−1 0分子量及び分子量分布2八fw−96,000。
h4n−54,000、Mw/Mn=1.780ケイ素
含引1$5.07% 以上の結果より生成−及びX、Y値は次の様になる。
C1l 30−− S i −OCH30C口3 実施例8 実施例1で記載した装置にSiMAo、38ゾ(0,0
16モル)、水素化カルシウム上で蒸−ms製シft、
Jfh)タフI) v−) (MfviA ) 1.6
デ%(0,016モル) 、 BPOo、014 f 
(0,3モル係)、無水ベンゼン50mj’を添加しR
流温度で 8時間反応させた。反応終了後1反応液を多
量の石油エーテル生成物の分析値は次の様でおる。
O赤外線吸収スペクトル(KMr ):1730゜1?
10.1250.1100cjl−1・核磁気共鳴スペ
クトル(CD013.TMS):δ0.5〜1.4(b
r、6H,2CH3)、1.4〜2.5(br、8H1
4C1(2)、3.5(8,9H,3CH30)。
4、1〜4.3 (br 、 3H,CH30CO) 
、4.3〜4.5(bf、2H,cH2oco)。
O分子量及び分子量分布:Mw−131,000゜Mn
=68.o 00 、 Mw/Mn= 1.930ケイ
素含有遺ニア87% 17− 以上の分析結果より生成物の組成及びX、Y値は沃の様
になる。
OU 1 C113CH2 C1(2 署 CH2 (!k13L)−−8i  0CH3 oclt−13 代理人プ;+[向原 晋 18−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 占H2 H2 H2 ■ a’o−s鳳−〇ル′ 0IL! (ただし式中、Aは少なくとも一種のエチレン性不飽和
    化合物から構成される単量体単位を表わし。 Rは水素原子もしくは低級アルキル基を表わし。 R′は低級アルキル基を表わし、X及びYは各構成単位
    のモル比(ただしX=0を含む)を表わt)で示される
    構成単位からなるケイ素原子を導入したアクリル系重合
JP9808982A 1982-06-08 1982-06-08 ケイ素原子を有するアクリル系重合体 Pending JPS58215409A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9808982A JPS58215409A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 ケイ素原子を有するアクリル系重合体
US06/501,201 US4551417A (en) 1982-06-08 1983-06-06 Method of forming patterns in manufacturing microelectronic devices
IE1339/83A IE54731B1 (en) 1982-06-08 1983-06-07 Microelectronic device manufacture
CA000429834A CA1207216A (en) 1982-06-08 1983-06-07 Method of forming patterns in manufacturing microelectronic devices
EP83303324A EP0096596B2 (en) 1982-06-08 1983-06-08 Microelectronic device manufacture
DE8383303324T DE3363914D1 (en) 1982-06-08 1983-06-08 Microelectronic device manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9808982A JPS58215409A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 ケイ素原子を有するアクリル系重合体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58215409A true JPS58215409A (ja) 1983-12-14

Family

ID=14210610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9808982A Pending JPS58215409A (ja) 1982-06-08 1982-06-08 ケイ素原子を有するアクリル系重合体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58215409A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005146131A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Shin Etsu Chem Co Ltd 珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP2009249440A (ja) * 2008-04-02 2009-10-29 Daicel Chem Ind Ltd アルコキシシリル基含有重合体、及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005146131A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Shin Etsu Chem Co Ltd 珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP4718114B2 (ja) * 2003-11-17 2011-07-06 信越化学工業株式会社 珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP2009249440A (ja) * 2008-04-02 2009-10-29 Daicel Chem Ind Ltd アルコキシシリル基含有重合体、及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bohnert et al. Liquid‐Crystalline side‐chain AB block copolymers by direct anionic polymerization of a mesogenic methacrylate
Kondo et al. Convenient synthesis and free-radical copolymerization of p-chloromethylstyrene
US4551417A (en) Method of forming patterns in manufacturing microelectronic devices
US4704438A (en) Novel styrene copolymer
Majumdar et al. Spectroscopic characterization and chiroptical properties of the copolymers of (−) 3‐menthyl acrylate and (−) 3‐menthyl methacrylate with styrene
US5384192A (en) Block and graft copolymers as adhesion promoters
JPS58215409A (ja) ケイ素原子を有するアクリル系重合体
Ishizone et al. Anionic polymerization of monomers containing functional groups, 11. Anionic polymerizations of alkynyl methacrylates
US4528332A (en) Epoxy compounds, process for the preparation thereof and resist materials comprising thereof
US4636454A (en) Method for the preparation of a patterned photoresist layer and a photoresist composition therefor
US4559389A (en) Graft copolymers, process for the preparation thereof and ionizing radiation sensitive resist using such copolymers
US4758640A (en) Vinylsilyl group-containing monodisperse polymeric compound and a method for the preparation thereof
JPH0629323B2 (ja) 二酸化硫黄とビニル化合物から成る多元共重合体
Narita et al. Anionic polymerization of fluorine‐containing vinyl monomers, 5. Polymerization of fluoroalkyl acrylates and methacrylates with delocalized carbanionic initiators
Narita et al. Anionic polymerization of fluorine‐containing vinyl monomers, 6. Polymerizations of fluoroalkyl acrylates and methacrylates initiated by organoaluminium compounds
WO2004101550A1 (en) Oxetane compounds containing maleimide functionality
JPH0374683B2 (ja)
Kim et al. Synthesis of photocrosslinkable polymers using abietic acid and their characterization
Ito et al. A Sensitive, Etch Resistant, Positive Tone E‐Beam Resist System
Gonsalves et al. The cationic polymerization and copolymerization of isopropenylmetallocene monomers
US6486344B1 (en) Polymer coatings with improved adhesion properties on metallic surfaces
JPH0241527B2 (ja)
AU612581B2 (en) Acylation and sulfonation of silylketene acetals
Kato et al. Synthesis of poly {4-[bis (trimethylstannyl) methyl] styrene} and its properties for electron-beam resist
JPS5915419A (ja) シリコン原子を有するスチレン系重合体