JPS58210928A - コロナ放電方法 - Google Patents
コロナ放電方法Info
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- JPS58210928A JPS58210928A JP9277082A JP9277082A JPS58210928A JP S58210928 A JPS58210928 A JP S58210928A JP 9277082 A JP9277082 A JP 9277082A JP 9277082 A JP9277082 A JP 9277082A JP S58210928 A JPS58210928 A JP S58210928A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corona discharge
- roll
- dielectric constant
- high dielectric
- layer
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/10—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01T—SPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
- H01T19/00—Devices providing for corona discharge
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコロナ放電方法に関し、特に写真乳剤層の如き
親水層を疎水性表面を有する支持体に塗布するに際し、
該疎水性表面を親水化するために用いられるめに適した
コロナ放電方法に関する。
親水層を疎水性表面を有する支持体に塗布するに際し、
該疎水性表面を親水化するために用いられるめに適した
コロナ放電方法に関する。
写真感光材料は一般に支持体上にノ・ロゲン化釦乳剤層
を少なくとも一層塗布することによって製造され、支持
体としてポリエチレン被覆紙、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム等疎水性表面を有する種々のものが目的に
応じて使用されている。一方これらの支持体表面に塗布
される写真層は通常親水性であるため、疎水性面に直接
塗布しても接着しないので、塗布するに際し支持体の疎
水性表面を親水化するのが普通である。親水化する方法
として、疎水性表面に接着し、かつ親水性層にも接着す
ることのできる組成物を塗布するいわゆる下引法、コロ
ナ放電処理法、火炎処理法、紫外線照射法、グロー放電
処理法等積々の方法があるが、操作性、安全性、コスト
等の実用面から、近年コロナ放電処理法が特にポリエチ
レン被覆紙では広く使用されている。
を少なくとも一層塗布することによって製造され、支持
体としてポリエチレン被覆紙、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム等疎水性表面を有する種々のものが目的に
応じて使用されている。一方これらの支持体表面に塗布
される写真層は通常親水性であるため、疎水性面に直接
塗布しても接着しないので、塗布するに際し支持体の疎
水性表面を親水化するのが普通である。親水化する方法
として、疎水性表面に接着し、かつ親水性層にも接着す
ることのできる組成物を塗布するいわゆる下引法、コロ
ナ放電処理法、火炎処理法、紫外線照射法、グロー放電
処理法等積々の方法があるが、操作性、安全性、コスト
等の実用面から、近年コロナ放電処理法が特にポリエチ
レン被覆紙では広く使用されている。
しかしながら、コロナ放電処理法にも種々の欠点がある
。写真感光材料の製造に於ける大きな問題の１つは、放
電ムラに起因する不均一帯電によって、塗布された写真
層に塗布ムラが発生することである。写真層は一般に数
ミクロンないし数十ミクロン程度の薄層であるため、塗
布ムラは写真特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質
を著しく低下させる。
。写真感光材料の製造に於ける大きな問題の１つは、放
電ムラに起因する不均一帯電によって、塗布された写真
層に塗布ムラが発生することである。写真層は一般に数
ミクロンないし数十ミクロン程度の薄層であるため、塗
布ムラは写真特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質
を著しく低下させる。
従来、このような塗布ムラを除去あるいは減少させる方
法として、塗液をコロナ放電による不均一帯電の影響を
受けにくいような塗液に改良する方法、コロナ放電処理
後塗液を塗布するまで一定期間放置して帯電状況を均一
化させる方法、コロナ放電処理後塗液を塗布する迄にコ
ロナ帯電面を加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一
化きせる方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばかりでなく、塗布ムラの除去は困難である。
法として、塗液をコロナ放電による不均一帯電の影響を
受けにくいような塗液に改良する方法、コロナ放電処理
後塗液を塗布するまで一定期間放置して帯電状況を均一
化させる方法、コロナ放電処理後塗液を塗布する迄にコ
ロナ帯電面を加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一
化きせる方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばかりでなく、塗布ムラの除去は困難である。
コロナ放電処理後一定期間放置する方法は中間製品の増
加、工程数の増加となりコストを増大させる。又加電方
法は帯電の均一化が不十分であるという欠点がある。
加、工程数の増加となりコストを増大させる。又加電方
法は帯電の均一化が不十分であるという欠点がある。
本発明の目的は従来の方法が有する欠点がなく、かつ均
一なコロナ帯電を得ることのできるコロナ放電方法を提
供するにある。
一なコロナ帯電を得ることのできるコロナ放電方法を提
供するにある。
本発明の別の目的はコロナ放電処理によって親水化され
た疎水性支持体上に塗布ムラのない親水性塗布層を得る
ことのできるコロナ放電方法を提供するにある。
た疎水性支持体上に塗布ムラのない親水性塗布層を得る
ことのできるコロナ放電方法を提供するにある。
第１図はコロナ放電の模様を模式的に示したものである
。アースロール１は、通常、アースされた金属ロール２
上にシリコンゴム等の絶縁性物質からなる絶縁性被覆層
３を有してなるものが用いられている。コロナ放電電極
４は一般的にはアルミニウム、鉄等の金属が用いられて
いる。放電６はコロナ放電電極４とアースロール１上を
走行する疎水性表面を有する支持体５との間の放電間隔
において発生する。
。アースロール１は、通常、アースされた金属ロール２
上にシリコンゴム等の絶縁性物質からなる絶縁性被覆層
３を有してなるものが用いられている。コロナ放電電極
４は一般的にはアルミニウム、鉄等の金属が用いられて
いる。放電６はコロナ放電電極４とアースロール１上を
走行する疎水性表面を有する支持体５との間の放電間隔
において発生する。
本発明の目的は高、誘電率物質から成る絶縁性被覆層で
金属ロール表面を被覆したアースロールまたはロール電
極を用いることによって達成される。
金属ロール表面を被覆したアースロールまたはロール電
極を用いることによって達成される。
本発明はコロナ放電そのものを均一にし、均一な帯電を
得るものであるので、前述したような不均一帯電をコロ
ナ放電処理後、何らかの手段で不均一性を除去する従来
の方法とは異なり、不均一性を除去するために生じる不
都合はない。
得るものであるので、前述したような不均一帯電をコロ
ナ放電処理後、何らかの手段で不均一性を除去する従来
の方法とは異なり、不均一性を除去するために生じる不
都合はない。
本発明の−２の態様について図１で説明すれば絶縁性被
覆層３として高誘電率物質からなる層を用いる。本発明
の別の態様は、第１図の電極４の代りにコロナ放電電極
としてロール電極（図示していないが第１図のアースロ
ールと同様の形態のもの。）を用いる場合には、そのロ
ール電極表面に高誘電率物質からなる絶縁性被覆層を設
ける。但し、この場合アースロールは絶縁性被覆層はな
くてもよい。
覆層３として高誘電率物質からなる層を用いる。本発明
の別の態様は、第１図の電極４の代りにコロナ放電電極
としてロール電極（図示していないが第１図のアースロ
ールと同様の形態のもの。）を用いる場合には、そのロ
ール電極表面に高誘電率物質からなる絶縁性被覆層を設
ける。但し、この場合アースロールは絶縁性被覆層はな
くてもよい。
本発明に用いられる高誘電率物質は比誘電率２０以上の
ものが好ましい。本発明に用いるに好ましい高誘電率物
質としてはチタン酸バリウム磁器（比誘電率１１５０〜
３２００） 、チタン酸ジルコニウム磁器（同５５）、
チタン磁器（同３０〜９０）等のセラミックが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの高誘電率物質の
うちチタン酸バリウム磁器が最も好ましい。この様な、
高誘電率物質によるアースロール被覆層の作成について
は、溶射法などいくつかの方法が考えられるが、本発明
では、作成方法により限定されることはない。また、高
誘電率物質から成る絶縁性被覆層の厚みについては、０
．５ｎ〜５闘程度が適当であるが、特に限定されること
はない。
ものが好ましい。本発明に用いるに好ましい高誘電率物
質としてはチタン酸バリウム磁器（比誘電率１１５０〜
３２００） 、チタン酸ジルコニウム磁器（同５５）、
チタン磁器（同３０〜９０）等のセラミックが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの高誘電率物質の
うちチタン酸バリウム磁器が最も好ましい。この様な、
高誘電率物質によるアースロール被覆層の作成について
は、溶射法などいくつかの方法が考えられるが、本発明
では、作成方法により限定されることはない。また、高
誘電率物質から成る絶縁性被覆層の厚みについては、０
．５ｎ〜５闘程度が適当であるが、特に限定されること
はない。
尚、本発明でへう比誘電率は周波数１００ ＫＨ２で測
定した値を示す。
定した値を示す。
本発明のコロナ放電方法は写真乳剤層の如き厳密なその
均一性を要求される親水性の薄層を疎水性表面を有する
支持体に塗布するための親水化方法として好適である。
均一性を要求される親水性の薄層を疎水性表面を有する
支持体に塗布するための親水化方法として好適である。
本発明が適用できる疎水性表面を有する支持体としては
ポリエチレン、ポリプロピレン、工チレンープテン共重
合体等のポリオレフィン系重合体を紙、他の合成フィル
ムあるいは金属箔等の基本の両面又は片面にラミネート
したものがその代表的なものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリスチレン等その他の疎水性フィルム
にも適用することができる。これらの疎水性重合体層に
は二酸化チタン、カーボンブラック等の顔料、その他染
料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含有されていても
よい。これらの支持体の疎水性表面は粗面化されたもの
であってもよい。
ポリエチレン、ポリプロピレン、工チレンープテン共重
合体等のポリオレフィン系重合体を紙、他の合成フィル
ムあるいは金属箔等の基本の両面又は片面にラミネート
したものがその代表的なものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリスチレン等その他の疎水性フィルム
にも適用することができる。これらの疎水性重合体層に
は二酸化チタン、カーボンブラック等の顔料、その他染
料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含有されていても
よい。これらの支持体の疎水性表面は粗面化されたもの
であってもよい。
本発明のコロナ放電方法により疎水性表面を有する支持
体に塗布される塗層としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀等のハロゲン化銀乳剤層およびハレーショ
ン防止層、下引層、バック層等種々の親水性コロイド含
有層がその代表的なものであり、親水性コロイドとして
はゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ド／、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルメチルエ
ーテル、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体等積々のものが
使用される。これらの親水性コロイド含有層にはハイド
ロキノン、１−フェニル−３−ピラゾリドンの如き現像
主薬、カーボンブック、二酸化チタン、シリカ、タルク
、クレー、硫酸バリウム、酸化亜鉛、米でんぷん等の顔
料やマット化剤、ホルマリン、クロム明パン等の硬化剤
、湿油剤、カプラー、銀錯塩拡散転写用銀沈殿核等が必
要により含有される。
体に塗布される塗層としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀等のハロゲン化銀乳剤層およびハレーショ
ン防止層、下引層、バック層等種々の親水性コロイド含
有層がその代表的なものであり、親水性コロイドとして
はゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ド／、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルメチルエ
ーテル、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体等積々のものが
使用される。これらの親水性コロイド含有層にはハイド
ロキノン、１−フェニル−３−ピラゾリドンの如き現像
主薬、カーボンブック、二酸化チタン、シリカ、タルク
、クレー、硫酸バリウム、酸化亜鉛、米でんぷん等の顔
料やマット化剤、ホルマリン、クロム明パン等の硬化剤
、湿油剤、カプラー、銀錯塩拡散転写用銀沈殿核等が必
要により含有される。
本発明が適用される塗布方式としては、ディーツブ方式
、エアーナイフ方式、キス方式、ビード方式、カーチン
方式等種々の方式があるが、ビード方式、カーチン方式
等の高速塗布方式に有利である。本発明の実施に際して
上記親水性有機コロイド溶液は単液層あるいは複数の液
層として塗布される。
、エアーナイフ方式、キス方式、ビード方式、カーチン
方式等種々の方式があるが、ビード方式、カーチン方式
等の高速塗布方式に有利である。本発明の実施に際して
上記親水性有機コロイド溶液は単液層あるいは複数の液
層として塗布される。
次に本発明の実施例を示すがこれに限定されるものでは
ない。
ない。
実施例
第１図に示したコロナ放電装置において、゛鉄製金属ロ
ールの表面を下表に示した絶縁性物質で被覆したアース
ロールを使用した。このアースロール上を坪量１６０ｇ
／？Ｆ１″の紙基体の両面を３０μ厚のポリエチレン層
で被覆した支持体を６０ｍ／分の速度で矢印の方向に走
行させながら、コロナ周波数１１０ＫＨｚ、放電電流１
．ＯＡでコロナ放電を行った。絶縁性被覆層厚は全て２
５鰭とし、放電電極の先端部と支持体表面との間隔は５
００μとした。
ールの表面を下表に示した絶縁性物質で被覆したアース
ロールを使用した。このアースロール上を坪量１６０ｇ
／？Ｆ１″の紙基体の両面を３０μ厚のポリエチレン層
で被覆した支持体を６０ｍ／分の速度で矢印の方向に走
行させながら、コロナ周波数１１０ＫＨｚ、放電電流１
．ＯＡでコロナ放電を行った。絶縁性被覆層厚は全て２
５鰭とし、放電電極の先端部と支持体表面との間隔は５
００μとした。
コロナ放電処理後の支持体ポリエチレン層表面のコロナ
帯電状態を観察するため、着色顔料としてカーボンブラ
ックを０５％の濃度で含む電子写真用液体現像剤にコロ
ナ放電処理を行った前記試料を浸漬し、ポリエチレン層
表面のトナーによる着色状態にてコロナ帯電の状態を判
定し、その結果を下表に示した。
帯電状態を観察するため、着色顔料としてカーボンブラ
ックを０５％の濃度で含む電子写真用液体現像剤にコロ
ナ放電処理を行った前記試料を浸漬し、ポリエチレン層
表面のトナーによる着色状態にてコロナ帯電の状態を判
定し、その結果を下表に示した。
ここで、コシす帯電状態は帯電ムラのない最良のものを
１とし、全面にムラのある不良のものを４として評価し
た４段階法による値である。
１とし、全面にムラのある不良のものを４として評価し
た４段階法による値である。
上記表からアースロールを高誘電率物質で被覆するとポ
リエチレン層表面のコμす帯電ムラが改良され、均一な
コシす帯電が得られることがわかる。
リエチレン層表面のコμす帯電ムラが改良され、均一な
コシす帯電が得られることがわかる。
次に本実施例の上記方法と全く同じ要領でコロナ放電処
理した直後に支持体のコｐす帯電面にゼラチン−ハロゲ
ン化銀乳剤を塗布した。試料扁１及びＡ２は全面に塗布
ムラが発生したが、試料Ａ３、ム４は塗布状態は極めて
良好であった。
理した直後に支持体のコｐす帯電面にゼラチン−ハロゲ
ン化銀乳剤を塗布した。試料扁１及びＡ２は全面に塗布
ムラが発生したが、試料Ａ３、ム４は塗布状態は極めて
良好であった。
第１図はコロナ放電の模様の模式的に説明した断面図。
ｌ ゛°アースロール
２・・・・アースロールの金属ロール
、３・・ アースロールの高誘電率物質から成る絶縁性
被覆層 し・・・ コロナ放電電極 ５゛ 疎水性表面を有する支持体 ６・・・放 電 第１図
被覆層 し・・・ コロナ放電電極 ５゛ 疎水性表面を有する支持体 ６・・・放 電 第１図
Claims (4)
- （１）高誘電率物質から成る絶縁性被覆層で金属ロール
表面を被覆したアースロールまたはロール電極を用いる
ことを特徴とするコロナ放電方法。 - （２）高誘電率物質の比誘電率が２０以上である特許請
求の範囲第１項記載のコロナ放電方法。 - （３）高誘電率物質がセラミックである特許請求の範囲
第２項記載のコロナ放電方法。 - （４）高誘電率物質がチタン酸バリウム磁器、チタン酸
ジルコニウム磁器、チタン磁器から選ばれる少なくとも
１つである特許請求の範囲第３項記載のコロナ放電方法
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9277082A JPS58210928A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | コロナ放電方法 |
| US06/743,779 US4649097A (en) | 1982-05-31 | 1985-06-12 | Corona discharge apparatus and method for corona discharge treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9277082A JPS58210928A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | コロナ放電方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210928A true JPS58210928A (ja) | 1983-12-08 |
| JPS6126931B2 JPS6126931B2 (ja) | 1986-06-23 |
Family
ID=14063650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9277082A Granted JPS58210928A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | コロナ放電方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210928A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5971337A (ja) * | 1982-10-16 | 1984-04-23 | Kazuyuki Tanaka | 放電加工装置用導電性セラミツクスロ−ル |
| JPS59214673A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-04 | Fujitsu Ltd | プリンタの印字制御方法 |
-
1982
- 1982-05-31 JP JP9277082A patent/JPS58210928A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5971337A (ja) * | 1982-10-16 | 1984-04-23 | Kazuyuki Tanaka | 放電加工装置用導電性セラミツクスロ−ル |
| JPS59214673A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-04 | Fujitsu Ltd | プリンタの印字制御方法 |
| JPH0225344B2 (ja) * | 1983-05-23 | 1990-06-01 | Fujitsu Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6126931B2 (ja) | 1986-06-23 |
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