JPS623939B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS623939B2
JPS623939B2 JP56101832A JP10183281A JPS623939B2 JP S623939 B2 JPS623939 B2 JP S623939B2 JP 56101832 A JP56101832 A JP 56101832A JP 10183281 A JP10183281 A JP 10183281A JP S623939 B2 JPS623939 B2 JP S623939B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
corona discharge
layer
dielectric constant
charging
corona
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56101832A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS584157A (ja
Inventor
Sukehisa Tsukada
Kazuhisa Taguchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP10183281A priority Critical patent/JPS584157A/ja
Publication of JPS584157A publication Critical patent/JPS584157A/ja
Publication of JPS623939B2 publication Critical patent/JPS623939B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
    • G03C1/915Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/10Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はコロナ放電方法に関し、特に写真乳剤
層の如き親水層を疎水性表面を有する支持体に塗
布するに際し、該疎水性表面を親水化するために
用いられるのに適したコロナ放電方法に関する。 写真感光材料は一般に支持体上にハロゲン化銀
乳剤層を少なくとも一層塗布することによつて製
造され、支持体としてポリエチレン被覆紙、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム等疎水性表面を
有する種々のものが目的に応じて使用されてい
る。一方これらの支持体表面に塗布される写真層
は通常親水性であるため、疎水性面に直接塗布し
ても接着しないので、塗布するに際し支持体の疎
水性表面を親水化するのが普通である。親水化す
る方法として、疎水性表面に接着し、かつ親水性
層にも接着することのできる組成物を塗布するい
わゆる下引法、コロナ放電処理法、火災処理法、
紫外線照射法、グロー放電処理法等種々の方法が
あるが、操作性、安全性、コスト等の実用面か
ら、近年コロナ放電処理法が特にポリエチレン被
覆紙では広く使用されている。 しかしながら、コロナ放電処理法にも種々の欠
点がある。写真感光材料の製造に於ける大きな問
題の1つは、放電ムラに起因する不均一帯電によ
つて、塗布された写真層に塗布ムラが発生するこ
とである。写真層は一般に数ミクロンないし数十
ミクロン程度の薄層であるため、塗布ムラは写真
特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質を著し
く低下させる。 従来、このような塗布ムラを除去あるいは減少
させる方法として、塗液をコロナ放電による不均
一帯電の影響を受けにくいような塗液に改良する
方法、コロナ放電処理後塗液を塗布するまで一定
期間放置して帯電状況を均一化させる方法、コロ
ナ放電処理後塗液を塗布する迄にコロナ帯電面を
加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一化させ
る方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばかりでなく、塗布ムラの除去は困難で
ある。コロナ放電処理後一定期間放置する方法
は、中間製品の増加、工程数の増加となりコスト
を増大させる。又加電方法は帯電の均一化が不十
分であるという欠点がある。 本発明の目的は従来の方法が有する欠点がな
く、かつ均一なコロナ帯電を得ることのできるコ
ロナ放電方法を提供するにある。 本発明の別の目的はコロナ放電処理によつて親
水化された疎水性支持体上に塗布ムラのない親水
性塗布層を得ることのできるコロナ放電方法を提
供するにある。 図1はコロナ放電の模様を模式的に示したもの
である。アースロール1は、通常、アースされた
金属ロール2上にシリコンゴム等の絶縁性物質か
らなる絶縁性被覆層3を有してなるものが用いら
れている。コロナ放電電極4は一般的にはアルミ
ニウム、鉄等の金属が用いられている。放電6は
コロナ放電電極4とアースロール1上を走行する
疎水性表面を有する支持体5との間の放電間隔に
おいて発生する。 本発明の目的は高誘電率物質を含有する絶縁性
被覆層で金属ロール表面を被覆したアースロール
またはロール電極を用いることによつて達成され
る。 本発明はコロナ放電そのものを均一にし、均一
な帯電を得るものであるので、前述したような不
均一帯電をコロナ放電処理後何らかの手段で不均
一性を除去する従来の方法とは異なり、不均一性
を除去するために生じる不都合はない。 本発明の一つの態様について図1で説明すれば
絶縁性被覆層3として高誘電率物質を含有させた
ものを用いる。本発明の別の態様は、図1の電極
4の代りにコロナ放電電極としてロール電極(図
示していないが、図1のアースロールと同様の形
態のもの)を用いる場合には、そのロール電極表
面に高誘電率物質を含有させた絶縁性被覆層を設
ける。但し、この場合アースロールは絶縁性被覆
層はなくてもよい。 本発明において絶縁性被覆層の層厚は特に限定
されないが、通常約1〜10mm、好ましくは約2〜
7mmの範囲で使用される。余り薄くするとコロナ
放電時に絶縁破壊が起こりやすく、又経時による
ゴムの物性劣化により絶縁層の耐久期間が短かく
なるという不都合を生じる。又余り部厚くなると
コスト上不利になるだけでなく放電の均一性が悪
くなるので好ましくない。 本発明に用いられる高誘電率物質は比誘電率20
以上の粉体状のものが好ましく、粉体の粒状は直
径約50μ以下、好ましくは約10μ以下のものがよ
い。本発明に用いるに好ましい高誘電率物質とし
てはチタン酸バリウム(比誘電率1150〜3200)、
チタン酸ジルコニウム(同55)等のチタン酸塩及
び酸化チタン(同30〜90)等のセラミツクが挙げ
られるが、これに限定されない。これらの高誘電
率物質のうちチタン酸バリウムが最も好ましい。 高誘電率物質の絶縁性被覆層中の含有量は、通
常、絶縁性被覆層を形成する絶縁性物質1重量部
に対し、約0.3〜約3重量部の範囲で含有させる
のがよい。含有量を多くするに伴いコロナ帯電の
均一性が向上するが、余り多くなると絶縁性被覆
層の耐久性が劣化したり、又高誘電率物質の分散
が不均一になるので、実用的にはこれらを考慮し
て決定すればよい。 絶縁性被覆層を形成する絶縁性物質としては、
通常、シリコンゴム、エチレンプロピレンゴム、
ハイパロン等のゴムが用いられるが、これらに限
定されない。これらのゴムの比誘電率は、通常、
約8以下である。 尚、本発明でいう比誘電率は、周波数100KHZ
で測定した値を示す。 本発明のコロナ放電方法は写真乳剤層の如き厳
密なその均一性を要求される親水性の薄層を疎水
性表面を有する支持体に塗布するための親水化方
法として好適である。 本発明が適用できる疎水性表面を有する支持体
としてはポリエチレン、ポリプロピレン、エチレ
ン−ブテン共重合体等のポリオレフイン系重合体
を紙、他の合成フイルムあるいは金属箔等の基体
の両面又は片面にラミネートしたものがその代表
的なものであるが、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン等その他の疎水性フイルムにも
適用することができる。これらの疎水性重合体層
には二酸化チタン、カーボンブラツク等の顔料、
その他染料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含
有されていてもよい。これらの支持体の疎水性表
面は粗面化されたものであつてもよい。 本発明のコロナ放電方法により疎水性表面を有
する支持体に塗布される塗層としては、塩化銀、
臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等のハロゲン化銀乳
剤層およびハレーシヨン防止層、下引層等種々の
親水性コロイド含有層がその代表的なものであ
り、親水性コロイドとしてはゼラチン、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアク
リルアミド、ガルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリビニルメチルエー
テル、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体等
種々のものが使用される。これらの親水性コロイ
ド含有層にはハイドロキノン、1−フエニル−3
−ピラゾリドンの如き現像主薬、カーボンブラツ
ク、二酸化チタン、シリカ、タルク、クレー、硫
酸バリウム、酸化亜鉛、米でんぷん等の顔料やマ
ツト化剤、ホルマリン、クロム明バン等の硬化
剤、湿潤剤、カプラー、銀錯塩拡散転写用銀沈殿
核等が必要により含有される。 本発明が適用される塗布方式としては、デイツ
プ方式、エアナイフ方式、キス方式、ビード方
式、カーテン方式等種々の方式があるが、ビード
方式、カーテン方式等の高速塗布方式に有利であ
る。本発明の実施に際して上記親水性有機コロイ
ド溶液は単液層あるいは複数の液層として塗布さ
れる。 次に本発明の実施例を示すが、これに限定され
るものではない。 実施例 図1に示したコロナ放電装置において、鉄製金
属ロールの表面を、絶縁性物質のハイパロン1重
量部に対し、下表に示した量の平均粒径約5μの
チタン酸バリウム粉末を均一に分散含有させた絶
縁性被覆層で被覆したアースロールを使用した。
このアースロール上を坪量160g/m2の紙基体の
両面を30μ厚のポリエチレン層で被覆した支持体
を60m/分の速度で矢印の方向に走行させなが
ら、コロナ周波数110KHZ、放電電流1.0Aでコロ
ナ放電を行つた。絶縁性被覆層厚は全て4mmと
し、放電電極の先端部と支持体表面との間隔は
500μとした。 コロナ放電処理後の支持体ポリエチレン層表面
のコロナ帯電状態を観察するため、着色顔料とし
てカーボンブラツクを0.5%の濃度で含む電子写
真用液体現像剤にコロナ放電処理を行つた前記試
料を浸漬し、ポリエチレン層表面のトナーによる
着色状態にてコロナ帯電の状態を判定し、その結
果を下表に示した。
【表】 尚、コロナ帯電状態は帯電ムラのない最良のも
のを1とし、全面にムラのある不良のものを4と
して評価した4段階法による値である。 上記表からアースロールのロール絶縁性被覆層
に高誘電率物質を含有させるとポリエチレン層表
面のコロナ帯電ムラが改良され、均一なコロナ帯
電が得られることがわかる。 次に本実施例の上記方法と全く同じ要領でコロ
ナ放電処理した直後に支持体のコロナ帯電面にゼ
ラチン−ハロゲン化銀乳剤を塗布した。試料No.1
は全面に塗布ムラが発生したが、試料No.2は部分
的にしか塗布ムラが見られなかつた。試料No.3は
塗布ムラがほとんど目立たず良好であり、試料No.
4〜6は塗布状態が極めて良好であつた。
【図面の簡単な説明】
図1はコロナ放電の模様の模式的説明した断面
図。 1……アースロール、2……アースロールの金
属ロール、3……アースロールの絶縁性被覆層、
4……コロナ放電電極、5……疎水性表面を有す
る支持体、6……放電。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 比誘電率20以上の高誘電率物質を含有する絶
    縁性被覆層で金属ロール表面を被覆したアースロ
    ールまたはロール電極を用いることを特徴とする
    コロナ放電方法。 2 高誘電率物質がセラミツクである特許請求の
    範囲第1項記載のコロナ放電方法。
JP10183281A 1981-06-30 1981-06-30 コロナ放電方法 Granted JPS584157A (ja)

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JP10183281A JPS584157A (ja) 1981-06-30 1981-06-30 コロナ放電方法

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JPS584157A JPS584157A (ja) 1983-01-11
JPS623939B2 true JPS623939B2 (ja) 1987-01-28

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5322735A (en) * 1976-08-16 1978-03-02 Bexford Ltd Photographic film base and method of producing same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5322735A (en) * 1976-08-16 1978-03-02 Bexford Ltd Photographic film base and method of producing same

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JPS584157A (ja) 1983-01-11

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