JPS5820808Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS5820808Y2
JPS5820808Y2 JP1978092575U JP9257578U JPS5820808Y2 JP S5820808 Y2 JPS5820808 Y2 JP S5820808Y2 JP 1978092575 U JP1978092575 U JP 1978092575U JP 9257578 U JP9257578 U JP 9257578U JP S5820808 Y2 JPS5820808 Y2 JP S5820808Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating chamber
water supply
steam generator
supply tank
high frequency
Prior art date
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Expired
Application number
JP1978092575U
Other languages
English (en)
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JPS558872U (ja
Inventor
勉 新井
幸男 川田
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS558872U publication Critical patent/JPS558872U/ja
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は加熱室内に蒸気を供給して調理等を行えるよ
うにした高周波加熱装置に関するもので、とくに加熱室
の高温度から電気部品や外ケースを保護することを目的
とする。
以下この考案を図示一実施例について説明すると、1は
本体で、内部に加熱室3を形成した加熱箱2と、この加
熱箱の上面から周側面を所定の間隔をおいて覆う外ケー
ス4と、加熱箱2を載置した底板5とを備えている。
6.7は加熱室3内の上部と下部にそれぞれ設けたU字
状の電熱ヒータ、8は同じく加熱室3内下部に回転自在
に設けたターンテーブル、9はこのターンテーブルを軸
10を介して回転させるモータ、11は加熱室3の天井
に形成した給電口12を介して加熱室3内と連通した導
波管、13はこの導波管内にアンテナ14を位置させた
マグネトロン、15は加熱室3の外壁面に取り付けた断
熱材、16は底部にU字状のヒータ17を埋設した密閉
容器状の蒸気発生器で、底部−側端部には予め水溜部1
8と給水孔19とを形成している。
20は蒸気発生器16内部と加熱室3内部とを連通させ
る接続チューブ、21は蒸気発生器16の内底面に一体
に形成した凸部、22は全体を合成樹脂の一体成型によ
り形成した給水タンク、23はこの給水タンクの給水口
24に嵌合したキャップ、25はこのキャップの連通孔
26を閉成するように付勢された弁体、27は前記キャ
ップ23の下端面を衝止する水受で、パイプ28により
前記蒸気発生器16の給水孔19に接続されている。
しかしてこれら水受27とキャップ23との位置により
給水タンク22の給水水位は第4図のように凸部21の
上敷mmに設定される。
29は加熱室3の一側面との間に前記給水タンク22と
蒸気発生器16の収容する部屋30を区画形成する金属
製の仕切板で、給水タンク22の載置部となる支持板3
1が取付けられている。
32はこの切仕板をはさんで加熱室3と反対側に設けた
コンテ゛ンサー、33は本体1の前面に設けた操作盤、
34は操作盤の裏側に取り付けられたタイマースイッチ
、35はこのタイマースイッチの操作つまみ、36は高
圧トランス、37,38は底板5に形成した吸気孔であ
る。
しかして、前記操作盤33の裏側には前記タイマースイ
ッチ34の他に調理温度設定スイッチ(図示せず)等の
各種電気部品が取り付けられている。
39は給水タンク22の出入れのため本体1の前面部に
設けた蓋、40は前記加熱室3の前面開口部を塞ぐドア
である。
以上の構成において、今マグネトロン13を駆動すると
導波管11を介して給電口12から加熱室3内へ高周波
が供給されるとともに、図示していないが送風機が運転
され吸気孔37.38から外気が吸引され、マグネトロ
ン13を冷却したのち加熱室3内へ送風される。
また蒸気発生器16のヒータ17に通電すると、蒸気発
生器16内に溜められた少量の水は急速に加熱され、高
温の蒸気となって接続チューブ20から加熱室3内へ放
出される。
このため噴出した蒸気が加熱室3内に充満するから蒸気
加熱調理を行なうことができる。
またヒータ6.7の両方あるいは何れか一方に通電すれ
ば、加熱室3内の雰囲気温度を所定の電熱調理温度に保
つことができるので所望の電熱加熱調理を行なうことが
できる。
以上の各調理時、とくに電熱調理時には加熱室3の壁面
は例えば最高250℃あるいは300℃以上の高温度に
なるが、周囲を断熱材15にて覆っているので加熱室3
からの輻射熱量を少なくできるとともに、給水タンク2
2に貯えた水に加熱室3側がらの輻射熱を吸収させてそ
の部屋30の雰囲気温度の上昇を抑制できるから、操作
盤33の後方に配置したタイマースイッチ34やコンデ
ンサー32あるいは他の電気部品の過熱を防止できる。
さらに給水タンク22が高周波透過性の材料にて形成さ
れているので、高周波加熱時に接続チューブ20等から
漏洩した高周波をその内部に収容した水に消費させ、外
部への漏洩防止を図ることもできる。
以上のようにこの考案によれば高周波調理とスチーム調
理とを効率良く行えるとともに、加熱室の高温度から電
気部品類を保護でき、さらに高周波の漏洩を防止できる
ので長期にわたり動作の安定した安全性の高い高周波加
熱装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す高周波加熱装置の要
部切欠き平面図、第2図は第1図のIIII線断面図、
第3図は同じくその一部切欠き要部側面図、第4図は蒸
気発生器の横断面図である。 図中、1は本体、3は加熱室、4は外ケース、6,7は
ヒータ、16は蒸気発生器、22は給水タンク、29は
仕切板、30は部屋、32はコンテ゛ンサー、34はタ
イマースイッチ、36は高圧トランスである。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)加熱室内へ蒸気発生器から蒸気を供給するように
    したものにおいて、その加熱室の外側を間隔をもって外
    ケースにて覆い、この外ケースと加熱室との間に形成さ
    れる空間内に、前記蒸気発生器と連通した給水タンクを
    設け、この給水タンクをはさんで加熱室と反対側に電気
    部品類を配置するとともに、前記給水タンクの少なくと
    も一部を高周波透過性材料で形成したことを特徴とする
    高周波加熱装置。
  2. (2)外ケースと加熱室との間に形成される空間内に蒸
    気発生器と給水タンクとを収容する部屋を区画形成した
    ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項に記載
    の高周波加熱装置。
JP1978092575U 1978-07-05 1978-07-05 高周波加熱装置 Expired JPS5820808Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP1978092575U JPS5820808Y2 (ja) 1978-07-05 1978-07-05 高周波加熱装置

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JP1978092575U JPS5820808Y2 (ja) 1978-07-05 1978-07-05 高周波加熱装置

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JPS558872U JPS558872U (ja) 1980-01-21
JPS5820808Y2 true JPS5820808Y2 (ja) 1983-05-02

Family

ID=29022878

Family Applications (1)

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JP1978092575U Expired JPS5820808Y2 (ja) 1978-07-05 1978-07-05 高周波加熱装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5203257B2 (ja) * 2009-03-02 2013-06-05 シャープ株式会社 加熱調理器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52118380U (ja) * 1976-03-08 1977-09-08
JPS5827284Y2 (ja) * 1976-04-19 1983-06-14 三菱電機株式会社 蒸し兼用調理器
JPS562081Y2 (ja) * 1976-10-04 1981-01-19

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JPS558872U (ja) 1980-01-21

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