JPS58201002A - セラミツクス製測定器具 - Google Patents
セラミツクス製測定器具Info
- Publication number
- JPS58201002A JPS58201002A JP8701082A JP8701082A JPS58201002A JP S58201002 A JPS58201002 A JP S58201002A JP 8701082 A JP8701082 A JP 8701082A JP 8701082 A JP8701082 A JP 8701082A JP S58201002 A JPS58201002 A JP S58201002A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- measuring tool
- base material
- spraying
- measuring instrument
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B1/00—Measuring instruments characterised by the selection of material therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセラミックス製の測定器具に関するものである
。更にくわしくは、定盤、ストレートエツジ、ブロック
等の測定器具の基材がセラミック成形体であり、その精
度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕上げされ
て成るセラミックス製測定器具に関するものである。
。更にくわしくは、定盤、ストレートエツジ、ブロック
等の測定器具の基材がセラミック成形体であり、その精
度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕上げされ
て成るセラミックス製測定器具に関するものである。
従来より定盤、ストレートエツジ、門型ブロック、■ブ
ロック、水準器のベース、スコヤ等の測定器具は、はと
んどが金属製であるため耐食性、耐摩耗性等に劣り、錆
たりすり滅ったすする欠点があった。また傷ついた場合
には、その周囲が盛り上って使用不能となったり、ある
いは経年変化によって精度低下したりする欠点もあった
。
ロック、水準器のベース、スコヤ等の測定器具は、はと
んどが金属製であるため耐食性、耐摩耗性等に劣り、錆
たりすり滅ったすする欠点があった。また傷ついた場合
には、その周囲が盛り上って使用不能となったり、ある
いは経年変化によって精度低下したりする欠点もあった
。
このような欠点を補うため石材製の定盤、あるいはセラ
ミックス製の定盤やVブロックが市販されている。しか
し、定盤等はかなり大型形状でなければならず、測定面
に本W的に要求される硬度、強度、低吸水性、仕上げ精
度等の特性が十分には満足されていない。
ミックス製の定盤やVブロックが市販されている。しか
し、定盤等はかなり大型形状でなければならず、測定面
に本W的に要求される硬度、強度、低吸水性、仕上げ精
度等の特性が十分には満足されていない。
本発明は上記の欠点に罐みなされたもので、定盤、スト
レートエツジ、ブロック等の測定器具をセラミックスで
構成するものである。
レートエツジ、ブロック等の測定器具をセラミックスで
構成するものである。
すなわち、測定器具の基材をセラミックス成形体とし、
そのtUtを必要とする面にセラミックス溶射を1籍す
ことによって、測定器具としての必要な性能を向上させ
るものである。
そのtUtを必要とする面にセラミックス溶射を1籍す
ことによって、測定器具としての必要な性能を向上させ
るものである。
不発明によるセラミックス製測定器具は、その基材とし
ては、セラミックスの特徴のうち軽量、高剛性、低熱膨
張性、低熱伝導性、耐食性非磁性、更に経年変化のない
点等を生かしたセラミックス成形体を用い、そして精度
を必要とする面にG−基材の上に、高硬度、耐摩耗性、
錆ない、かえりが生じない、リンキングしない等の特徴
を有するセラミックスの溶射層を形成し精密仕上げ加工
を行なったものである。従って本発明のセラミックス製
測定器具ではセラミックスの持っている各棟の特徴が、
測定器具に十分に生かされて、性能の優れたものとなっ
ている。
ては、セラミックスの特徴のうち軽量、高剛性、低熱膨
張性、低熱伝導性、耐食性非磁性、更に経年変化のない
点等を生かしたセラミックス成形体を用い、そして精度
を必要とする面にG−基材の上に、高硬度、耐摩耗性、
錆ない、かえりが生じない、リンキングしない等の特徴
を有するセラミックスの溶射層を形成し精密仕上げ加工
を行なったものである。従って本発明のセラミックス製
測定器具ではセラミックスの持っている各棟の特徴が、
測定器具に十分に生かされて、性能の優れたものとなっ
ている。
本発明によるセラミックス測定器具は、例えば石材製の
定盤に比較して強度、硬度が大であり、緻密であり、組
織が均質である。またセラミックス製定盤に比べると、
硬度が大で緻密であり、特に耐摩耗性に優れた特徴があ
る。
定盤に比較して強度、硬度が大であり、緻密であり、組
織が均質である。またセラミックス製定盤に比べると、
硬度が大で緻密であり、特に耐摩耗性に優れた特徴があ
る。
以下本発明について詳述する。
本発明によるセラミックス製測定器具に用いられる基材
はアルミナ質、シリカ質、アルミナ−シリカ質、マグネ
シア買、あるいはそれらの組合せによる酸化物系材質や
、炭素質、炭化物窒化物、扉i化物等の非酸化@系の材
質でも良く特に限定したものではない。これら材質のも
のを原料として既知の添加材、結合剤、焼結剤等を配合
し、混練、成形した後焼成して焼結体とする。焼結は必
要に応じて酸化雰囲気あるいは還元雰囲気で行う。場合
によっては低温熱処理のみを行う不焼成品も基材として
使用可能である。なお基材は必要とする強度を有するも
のであれば、多孔質として軽量化を計ったものでもよい
。
はアルミナ質、シリカ質、アルミナ−シリカ質、マグネ
シア買、あるいはそれらの組合せによる酸化物系材質や
、炭素質、炭化物窒化物、扉i化物等の非酸化@系の材
質でも良く特に限定したものではない。これら材質のも
のを原料として既知の添加材、結合剤、焼結剤等を配合
し、混練、成形した後焼成して焼結体とする。焼結は必
要に応じて酸化雰囲気あるいは還元雰囲気で行う。場合
によっては低温熱処理のみを行う不焼成品も基材として
使用可能である。なお基材は必要とする強度を有するも
のであれば、多孔質として軽量化を計ったものでもよい
。
本発明によるセラミックス製測定器具の精度を必要とす
る面へのセラミック溶射の材料としては前述の特徴を有
する アルミナ質、アルミナ−シリカ質、スピネル質ジルコニ
ア質、マグクロ質、チタニア質、フォルステライト質等
、あるいはそれらの混合物が適する。
る面へのセラミック溶射の材料としては前述の特徴を有
する アルミナ質、アルミナ−シリカ質、スピネル質ジルコニ
ア質、マグクロ質、チタニア質、フォルステライト質等
、あるいはそれらの混合物が適する。
溶射方法は炎溶射でも可能であるが、使用する溶射材料
がS=点であるためプラズマ溶射が適当である。溶射材
料が酸化物であるのでプラズマ溶射はガスプラズマ溶射
、水プラズマ溶射いずれも使用し得るが、水プラズマ溶
射が好ましい。水プラズマ溶射はガスプラズマ溶射に比
較して、プラズマ炎の温度が高いのでより高融点の物質
の溶射が行なえる、溶射能力が10倍以上もあり能率的
で娶る、可能な溶射厚みが20〜30關もあり、ガスプ
ラズマ溶射のIff程度より抜群に大きい、作動源が水
でありガスプラズマのようにアルゴンやヘリウム等の高
価なガスを必要とせず経済的に優れている等の特徴を有
する。更に水プラズマ溶射装置を使用する溶射では溶射
厚みが大きく取れるため、基材面に多少の凹凸があって
ち溶射後加工によって平担にできる利点もある。
がS=点であるためプラズマ溶射が適当である。溶射材
料が酸化物であるのでプラズマ溶射はガスプラズマ溶射
、水プラズマ溶射いずれも使用し得るが、水プラズマ溶
射が好ましい。水プラズマ溶射はガスプラズマ溶射に比
較して、プラズマ炎の温度が高いのでより高融点の物質
の溶射が行なえる、溶射能力が10倍以上もあり能率的
で娶る、可能な溶射厚みが20〜30關もあり、ガスプ
ラズマ溶射のIff程度より抜群に大きい、作動源が水
でありガスプラズマのようにアルゴンやヘリウム等の高
価なガスを必要とせず経済的に優れている等の特徴を有
する。更に水プラズマ溶射装置を使用する溶射では溶射
厚みが大きく取れるため、基材面に多少の凹凸があって
ち溶射後加工によって平担にできる利点もある。
本発明のセラミックス製測定器具ではセラミックス基材
へ溶射を行う際、熱間溶射を行うこともできる。熱間溶
射とは、基材を11口熱した状態で溶射するか、溶射液
滴の通路を加熱した状態で溶射するか、あるいはその両
者を併用する方法で、緻密、尚強度、高接着強度の溶射
層を得ることができ、前述の性能を更に向上させること
ができる。またAljOll、’[’102では熱間溶
射を行うことにより、結晶形の安定した緻密な硬度の高
い溶射体が得られる。この加熱温度は1ooot!以上
が好ましい。なお熱間溶射を行う場合には、基材の焼成
を兼ねることも可能である。熱間溶射を行う他に、室温
で溶射した後に再度焼成することによって、基材と溶射
層との接着強度を改善することも、できる。
へ溶射を行う際、熱間溶射を行うこともできる。熱間溶
射とは、基材を11口熱した状態で溶射するか、溶射液
滴の通路を加熱した状態で溶射するか、あるいはその両
者を併用する方法で、緻密、尚強度、高接着強度の溶射
層を得ることができ、前述の性能を更に向上させること
ができる。またAljOll、’[’102では熱間溶
射を行うことにより、結晶形の安定した緻密な硬度の高
い溶射体が得られる。この加熱温度は1ooot!以上
が好ましい。なお熱間溶射を行う場合には、基材の焼成
を兼ねることも可能である。熱間溶射を行う他に、室温
で溶射した後に再度焼成することによって、基材と溶射
層との接着強度を改善することも、できる。
本発明によるセラミックス測定器具は定盤、ストレート
エツジ、各他ブロック、水準器のベース、スコヤ等に使
用することが可能で、金属性のものと比較して耐摩耗性
である、経年変化による精度低下がない、耐食性であり
錆を生じない、軽量である、傷がついてもかえりが生じ
ない、非磁性のためマグネットスタンドが使える、磁化
することがないので鉄粉の付層がない、測定物を摺動し
てもリンキングを生じない等の特徴を有している。
エツジ、各他ブロック、水準器のベース、スコヤ等に使
用することが可能で、金属性のものと比較して耐摩耗性
である、経年変化による精度低下がない、耐食性であり
錆を生じない、軽量である、傷がついてもかえりが生じ
ない、非磁性のためマグネットスタンドが使える、磁化
することがないので鉄粉の付層がない、測定物を摺動し
てもリンキングを生じない等の特徴を有している。
実施例 1
高アルミナ質耐火物(アルミナ78%、気孔率11.3
%、圧縮強さ1713にV/−を200X200X60
絹の大きさに切断し、200X200mmの面にブラス
ト処理し、次に水プラズマ溶射装置を用いてムライトを
約5 mmの厚さに溶射し、更に平面研削盤加工仕上げ
して小形のセラミック製定盤を作製した。溶射層のビッ
カース硬度は1200であった。また溶射層の吸水率は
2.1%であった。
%、圧縮強さ1713にV/−を200X200X60
絹の大きさに切断し、200X200mmの面にブラス
ト処理し、次に水プラズマ溶射装置を用いてムライトを
約5 mmの厚さに溶射し、更に平面研削盤加工仕上げ
して小形のセラミック製定盤を作製した。溶射層のビッ
カース硬度は1200であった。また溶射層の吸水率は
2.1%であった。
実施例 2
実施例1と同じ耐火物を同じ大きさに切り出し、150
0℃に加熱しながら水プラズマ溶射装置ミラ用いてアル
ミナ(AIROI! 98.6%)を約101g厚さに
溶射した。更に平面研削盤で加工仕上げを行い小型定盤
を作製した。溶射層は吸水率0.2%、圧縮強さ295
0す7cm”sビッカース硬度1700であった。
0℃に加熱しながら水プラズマ溶射装置ミラ用いてアル
ミナ(AIROI! 98.6%)を約101g厚さに
溶射した。更に平面研削盤で加工仕上げを行い小型定盤
を作製した。溶射層は吸水率0.2%、圧縮強さ295
0す7cm”sビッカース硬度1700であった。
実施例 3
マグネシア質耐火@(Mg092%、デ、孔年13.2
%)を50X30X300cmに切り出し、30×30
0順の両面をブラスト処理し、次にこの耐火物を15o
ot:に加熱してブラスト処理した面ヘスピネル(A1
go+ 72% Mg025%)を水プラズマ溶射装
置を用いて約8fl厚さに溶射した。次いで平面研削盤
で4面を加工仕上げしてセラミック製のストレートエツ
ジとした。溶射向のビッカース硬度1400、吸水率2
.3%であった。
%)を50X30X300cmに切り出し、30×30
0順の両面をブラスト処理し、次にこの耐火物を15o
ot:に加熱してブラスト処理した面ヘスピネル(A1
go+ 72% Mg025%)を水プラズマ溶射装
置を用いて約8fl厚さに溶射した。次いで平面研削盤
で4面を加工仕上げしてセラミック製のストレートエツ
ジとした。溶射向のビッカース硬度1400、吸水率2
.3%であった。
実施例 4
回転テーブルに#320 のカーボランダムを毎分1g
の割合で落下させながら実施例1〜3の試料に20 ”
l/ ct:の圧力を加えて15分間摩耗試験を行って
、それぞれの損耗寸法を測定した。
の割合で落下させながら実施例1〜3の試料に20 ”
l/ ct:の圧力を加えて15分間摩耗試験を行って
、それぞれの損耗寸法を測定した。
なお比較例として鋼材(S541)を用いて同じ条件で
測定した。いずれも鋼材より優れた耐摩耗性を示し、特
に熱間溶射を行った試料の耐摩耗性は一段と優れている
。
測定した。いずれも鋼材より優れた耐摩耗性を示し、特
に熱間溶射を行った試料の耐摩耗性は一段と優れている
。
第1表
特許出願人
九州耐火煉瓦株式会社
Claims (2)
- (1) 測定器具の基材がセラミックス成形体であり
、その精度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕
上げされて成ることを特徴とするセラミックス製測定器
具 - (2) セラミックス溶射層が水プラズマ溶射装置に
より溶射され形成されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のセラミックス製測定器具 (31セラミックス溶射層を形成する際に、溶射が熱間
溶射により行なわれることを特徴とする特許請求の範囲
第1項あるいは第2項記載のセラミックス製測定器具
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8701082A JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8701082A JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58201002A true JPS58201002A (ja) | 1983-11-22 |
Family
ID=13902986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8701082A Pending JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58201002A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62200201A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Kyocera Corp | 基準ゲ−ジ |
JPH01137403U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-20 | ||
JPH0454402A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Asahi Seimitsu Kogyo Kk | ハサミゲージ |
JP2020116598A (ja) * | 2019-01-22 | 2020-08-06 | 住友金属鉱山株式会社 | アノード鋳型の水平度測定装置、および、電解用アノードの胴体鋳込み面の水平度調整方法 |
-
1982
- 1982-05-20 JP JP8701082A patent/JPS58201002A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62200201A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Kyocera Corp | 基準ゲ−ジ |
JPH01137403U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-20 | ||
JPH0454402A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Asahi Seimitsu Kogyo Kk | ハサミゲージ |
JP2020116598A (ja) * | 2019-01-22 | 2020-08-06 | 住友金属鉱山株式会社 | アノード鋳型の水平度測定装置、および、電解用アノードの胴体鋳込み面の水平度調整方法 |
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