JPS58201002A - セラミツクス製測定器具 - Google Patents
セラミツクス製測定器具Info
- Publication number
- JPS58201002A JPS58201002A JP8701082A JP8701082A JPS58201002A JP S58201002 A JPS58201002 A JP S58201002A JP 8701082 A JP8701082 A JP 8701082A JP 8701082 A JP8701082 A JP 8701082A JP S58201002 A JPS58201002 A JP S58201002A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- measuring tool
- base material
- spraying
- measuring instrument
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B1/00—Measuring instruments characterised by the selection of material therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセラミックス製の測定器具に関するものである
。更にくわしくは、定盤、ストレートエツジ、ブロック
等の測定器具の基材がセラミック成形体であり、その精
度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕上げされ
て成るセラミックス製測定器具に関するものである。
。更にくわしくは、定盤、ストレートエツジ、ブロック
等の測定器具の基材がセラミック成形体であり、その精
度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕上げされ
て成るセラミックス製測定器具に関するものである。
従来より定盤、ストレートエツジ、門型ブロック、■ブ
ロック、水準器のベース、スコヤ等の測定器具は、はと
んどが金属製であるため耐食性、耐摩耗性等に劣り、錆
たりすり滅ったすする欠点があった。また傷ついた場合
には、その周囲が盛り上って使用不能となったり、ある
いは経年変化によって精度低下したりする欠点もあった
。
ロック、水準器のベース、スコヤ等の測定器具は、はと
んどが金属製であるため耐食性、耐摩耗性等に劣り、錆
たりすり滅ったすする欠点があった。また傷ついた場合
には、その周囲が盛り上って使用不能となったり、ある
いは経年変化によって精度低下したりする欠点もあった
。
このような欠点を補うため石材製の定盤、あるいはセラ
ミックス製の定盤やＶブロックが市販されている。しか
し、定盤等はかなり大型形状でなければならず、測定面
に本Ｗ的に要求される硬度、強度、低吸水性、仕上げ精
度等の特性が十分には満足されていない。
ミックス製の定盤やＶブロックが市販されている。しか
し、定盤等はかなり大型形状でなければならず、測定面
に本Ｗ的に要求される硬度、強度、低吸水性、仕上げ精
度等の特性が十分には満足されていない。
本発明は上記の欠点に罐みなされたもので、定盤、スト
レートエツジ、ブロック等の測定器具をセラミックスで
構成するものである。
レートエツジ、ブロック等の測定器具をセラミックスで
構成するものである。
すなわち、測定器具の基材をセラミックス成形体とし、
そのｔＵｔを必要とする面にセラミックス溶射を１籍す
ことによって、測定器具としての必要な性能を向上させ
るものである。
そのｔＵｔを必要とする面にセラミックス溶射を１籍す
ことによって、測定器具としての必要な性能を向上させ
るものである。
不発明によるセラミックス製測定器具は、その基材とし
ては、セラミックスの特徴のうち軽量、高剛性、低熱膨
張性、低熱伝導性、耐食性非磁性、更に経年変化のない
点等を生かしたセラミックス成形体を用い、そして精度
を必要とする面にＧ−基材の上に、高硬度、耐摩耗性、
錆ない、かえりが生じない、リンキングしない等の特徴
を有するセラミックスの溶射層を形成し精密仕上げ加工
を行なったものである。従って本発明のセラミックス製
測定器具ではセラミックスの持っている各棟の特徴が、
測定器具に十分に生かされて、性能の優れたものとなっ
ている。
ては、セラミックスの特徴のうち軽量、高剛性、低熱膨
張性、低熱伝導性、耐食性非磁性、更に経年変化のない
点等を生かしたセラミックス成形体を用い、そして精度
を必要とする面にＧ−基材の上に、高硬度、耐摩耗性、
錆ない、かえりが生じない、リンキングしない等の特徴
を有するセラミックスの溶射層を形成し精密仕上げ加工
を行なったものである。従って本発明のセラミックス製
測定器具ではセラミックスの持っている各棟の特徴が、
測定器具に十分に生かされて、性能の優れたものとなっ
ている。
本発明によるセラミックス測定器具は、例えば石材製の
定盤に比較して強度、硬度が大であり、緻密であり、組
織が均質である。またセラミックス製定盤に比べると、
硬度が大で緻密であり、特に耐摩耗性に優れた特徴があ
る。
定盤に比較して強度、硬度が大であり、緻密であり、組
織が均質である。またセラミックス製定盤に比べると、
硬度が大で緻密であり、特に耐摩耗性に優れた特徴があ
る。
以下本発明について詳述する。
本発明によるセラミックス製測定器具に用いられる基材
はアルミナ質、シリカ質、アルミナ−シリカ質、マグネ
シア買、あるいはそれらの組合せによる酸化物系材質や
、炭素質、炭化物窒化物、扉ｉ化物等の非酸化＠系の材
質でも良く特に限定したものではない。これら材質のも
のを原料として既知の添加材、結合剤、焼結剤等を配合
し、混練、成形した後焼成して焼結体とする。焼結は必
要に応じて酸化雰囲気あるいは還元雰囲気で行う。場合
によっては低温熱処理のみを行う不焼成品も基材として
使用可能である。なお基材は必要とする強度を有するも
のであれば、多孔質として軽量化を計ったものでもよい
。
はアルミナ質、シリカ質、アルミナ−シリカ質、マグネ
シア買、あるいはそれらの組合せによる酸化物系材質や
、炭素質、炭化物窒化物、扉ｉ化物等の非酸化＠系の材
質でも良く特に限定したものではない。これら材質のも
のを原料として既知の添加材、結合剤、焼結剤等を配合
し、混練、成形した後焼成して焼結体とする。焼結は必
要に応じて酸化雰囲気あるいは還元雰囲気で行う。場合
によっては低温熱処理のみを行う不焼成品も基材として
使用可能である。なお基材は必要とする強度を有するも
のであれば、多孔質として軽量化を計ったものでもよい
。
本発明によるセラミックス製測定器具の精度を必要とす
る面へのセラミック溶射の材料としては前述の特徴を有
する アルミナ質、アルミナ−シリカ質、スピネル質ジルコニ
ア質、マグクロ質、チタニア質、フォルステライト質等
、あるいはそれらの混合物が適する。
る面へのセラミック溶射の材料としては前述の特徴を有
する アルミナ質、アルミナ−シリカ質、スピネル質ジルコニ
ア質、マグクロ質、チタニア質、フォルステライト質等
、あるいはそれらの混合物が適する。
溶射方法は炎溶射でも可能であるが、使用する溶射材料
がＳ＝点であるためプラズマ溶射が適当である。溶射材
料が酸化物であるのでプラズマ溶射はガスプラズマ溶射
、水プラズマ溶射いずれも使用し得るが、水プラズマ溶
射が好ましい。水プラズマ溶射はガスプラズマ溶射に比
較して、プラズマ炎の温度が高いのでより高融点の物質
の溶射が行なえる、溶射能力が１０倍以上もあり能率的
で娶る、可能な溶射厚みが２０〜３０關もあり、ガスプ
ラズマ溶射のＩｆｆ程度より抜群に大きい、作動源が水
でありガスプラズマのようにアルゴンやヘリウム等の高
価なガスを必要とせず経済的に優れている等の特徴を有
する。更に水プラズマ溶射装置を使用する溶射では溶射
厚みが大きく取れるため、基材面に多少の凹凸があって
ち溶射後加工によって平担にできる利点もある。
がＳ＝点であるためプラズマ溶射が適当である。溶射材
料が酸化物であるのでプラズマ溶射はガスプラズマ溶射
、水プラズマ溶射いずれも使用し得るが、水プラズマ溶
射が好ましい。水プラズマ溶射はガスプラズマ溶射に比
較して、プラズマ炎の温度が高いのでより高融点の物質
の溶射が行なえる、溶射能力が１０倍以上もあり能率的
で娶る、可能な溶射厚みが２０〜３０關もあり、ガスプ
ラズマ溶射のＩｆｆ程度より抜群に大きい、作動源が水
でありガスプラズマのようにアルゴンやヘリウム等の高
価なガスを必要とせず経済的に優れている等の特徴を有
する。更に水プラズマ溶射装置を使用する溶射では溶射
厚みが大きく取れるため、基材面に多少の凹凸があって
ち溶射後加工によって平担にできる利点もある。
本発明のセラミックス製測定器具ではセラミックス基材
へ溶射を行う際、熱間溶射を行うこともできる。熱間溶
射とは、基材を１１口熱した状態で溶射するか、溶射液
滴の通路を加熱した状態で溶射するか、あるいはその両
者を併用する方法で、緻密、尚強度、高接着強度の溶射
層を得ることができ、前述の性能を更に向上させること
ができる。またＡｌｊＯｌｌ、’［’１０２では熱間溶
射を行うことにより、結晶形の安定した緻密な硬度の高
い溶射体が得られる。この加熱温度は１ｏｏｏｔ！以上
が好ましい。なお熱間溶射を行う場合には、基材の焼成
を兼ねることも可能である。熱間溶射を行う他に、室温
で溶射した後に再度焼成することによって、基材と溶射
層との接着強度を改善することも、できる。
へ溶射を行う際、熱間溶射を行うこともできる。熱間溶
射とは、基材を１１口熱した状態で溶射するか、溶射液
滴の通路を加熱した状態で溶射するか、あるいはその両
者を併用する方法で、緻密、尚強度、高接着強度の溶射
層を得ることができ、前述の性能を更に向上させること
ができる。またＡｌｊＯｌｌ、’［’１０２では熱間溶
射を行うことにより、結晶形の安定した緻密な硬度の高
い溶射体が得られる。この加熱温度は１ｏｏｏｔ！以上
が好ましい。なお熱間溶射を行う場合には、基材の焼成
を兼ねることも可能である。熱間溶射を行う他に、室温
で溶射した後に再度焼成することによって、基材と溶射
層との接着強度を改善することも、できる。
本発明によるセラミックス測定器具は定盤、ストレート
エツジ、各他ブロック、水準器のベース、スコヤ等に使
用することが可能で、金属性のものと比較して耐摩耗性
である、経年変化による精度低下がない、耐食性であり
錆を生じない、軽量である、傷がついてもかえりが生じ
ない、非磁性のためマグネットスタンドが使える、磁化
することがないので鉄粉の付層がない、測定物を摺動し
てもリンキングを生じない等の特徴を有している。
エツジ、各他ブロック、水準器のベース、スコヤ等に使
用することが可能で、金属性のものと比較して耐摩耗性
である、経年変化による精度低下がない、耐食性であり
錆を生じない、軽量である、傷がついてもかえりが生じ
ない、非磁性のためマグネットスタンドが使える、磁化
することがないので鉄粉の付層がない、測定物を摺動し
てもリンキングを生じない等の特徴を有している。
実施例 １
高アルミナ質耐火物（アルミナ７８％、気孔率１１．３
％、圧縮強さ１７１３にＶ／−を２００Ｘ２００Ｘ６０
絹の大きさに切断し、２００Ｘ２００ｍｍの面にブラス
ト処理し、次に水プラズマ溶射装置を用いてムライトを
約５ ｍｍの厚さに溶射し、更に平面研削盤加工仕上げ
して小形のセラミック製定盤を作製した。溶射層のビッ
カース硬度は１２００であった。また溶射層の吸水率は
２．１％であった。
％、圧縮強さ１７１３にＶ／−を２００Ｘ２００Ｘ６０
絹の大きさに切断し、２００Ｘ２００ｍｍの面にブラス
ト処理し、次に水プラズマ溶射装置を用いてムライトを
約５ ｍｍの厚さに溶射し、更に平面研削盤加工仕上げ
して小形のセラミック製定盤を作製した。溶射層のビッ
カース硬度は１２００であった。また溶射層の吸水率は
２．１％であった。
実施例 ２
実施例１と同じ耐火物を同じ大きさに切り出し、１５０
０℃に加熱しながら水プラズマ溶射装置ミラ用いてアル
ミナ（ＡＩＲＯＩ！ ９８．６％）を約１０１ｇ厚さに
溶射した。更に平面研削盤で加工仕上げを行い小型定盤
を作製した。溶射層は吸水率０．２％、圧縮強さ２９５
０す７ｃｍ”ｓビッカース硬度１７００であった。
０℃に加熱しながら水プラズマ溶射装置ミラ用いてアル
ミナ（ＡＩＲＯＩ！ ９８．６％）を約１０１ｇ厚さに
溶射した。更に平面研削盤で加工仕上げを行い小型定盤
を作製した。溶射層は吸水率０．２％、圧縮強さ２９５
０す７ｃｍ”ｓビッカース硬度１７００であった。
実施例 ３
マグネシア質耐火＠（Ｍｇ０９２％、デ、孔年１３．２
％）を５０Ｘ３０Ｘ３００ｃｍに切り出し、３０×３０
０順の両面をブラスト処理し、次にこの耐火物を１５ｏ
ｏｔ：に加熱してブラスト処理した面ヘスピネル（Ａ１
ｇｏ＋ ７２％ Ｍｇ０２５％）を水プラズマ溶射装
置を用いて約８ｆｌ厚さに溶射した。次いで平面研削盤
で４面を加工仕上げしてセラミック製のストレートエツ
ジとした。溶射向のビッカース硬度１４００、吸水率２
．３％であった。
％）を５０Ｘ３０Ｘ３００ｃｍに切り出し、３０×３０
０順の両面をブラスト処理し、次にこの耐火物を１５ｏ
ｏｔ：に加熱してブラスト処理した面ヘスピネル（Ａ１
ｇｏ＋ ７２％ Ｍｇ０２５％）を水プラズマ溶射装
置を用いて約８ｆｌ厚さに溶射した。次いで平面研削盤
で４面を加工仕上げしてセラミック製のストレートエツ
ジとした。溶射向のビッカース硬度１４００、吸水率２
．３％であった。
実施例 ４
回転テーブルに＃３２０ のカーボランダムを毎分１ｇ
の割合で落下させながら実施例１〜３の試料に２０ ”
ｌ／ ｃｔ：の圧力を加えて１５分間摩耗試験を行って
、それぞれの損耗寸法を測定した。
の割合で落下させながら実施例１〜３の試料に２０ ”
ｌ／ ｃｔ：の圧力を加えて１５分間摩耗試験を行って
、それぞれの損耗寸法を測定した。
なお比較例として鋼材（Ｓ５４１）を用いて同じ条件で
測定した。いずれも鋼材より優れた耐摩耗性を示し、特
に熱間溶射を行った試料の耐摩耗性は一段と優れている
。
測定した。いずれも鋼材より優れた耐摩耗性を示し、特
に熱間溶射を行った試料の耐摩耗性は一段と優れている
。
第１表
特許出願人
九州耐火煉瓦株式会社
Claims (2)
- （１） 測定器具の基材がセラミックス成形体であり
、その精度を有する部位がセラミックス溶射層を加工仕
上げされて成ることを特徴とするセラミックス製測定器
具 - （２） セラミックス溶射層が水プラズマ溶射装置に
より溶射され形成されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のセラミックス製測定器具 （３１セラミックス溶射層を形成する際に、溶射が熱間
溶射により行なわれることを特徴とする特許請求の範囲
第１項あるいは第２項記載のセラミックス製測定器具
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8701082A JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8701082A JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201002A true JPS58201002A (ja) | 1983-11-22 |
Family
ID=13902986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8701082A Pending JPS58201002A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | セラミツクス製測定器具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201002A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62200201A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Kyocera Corp | 基準ゲ−ジ |
| JPH01137403U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-20 | ||
| JPH0454402A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Asahi Seimitsu Kogyo Kk | ハサミゲージ |
| JP2020116598A (ja) * | 2019-01-22 | 2020-08-06 | 住友金属鉱山株式会社 | アノード鋳型の水平度測定装置、および、電解用アノードの胴体鋳込み面の水平度調整方法 |
-
1982
- 1982-05-20 JP JP8701082A patent/JPS58201002A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62200201A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Kyocera Corp | 基準ゲ−ジ |
| JPH01137403U (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-20 | ||
| JPH0454402A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-21 | Asahi Seimitsu Kogyo Kk | ハサミゲージ |
| JP2020116598A (ja) * | 2019-01-22 | 2020-08-06 | 住友金属鉱山株式会社 | アノード鋳型の水平度測定装置、および、電解用アノードの胴体鋳込み面の水平度調整方法 |
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