JPS58197280A - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
- Publication number
- JPS58197280A JPS58197280A JP57079332A JP7933282A JPS58197280A JP S58197280 A JPS58197280 A JP S58197280A JP 57079332 A JP57079332 A JP 57079332A JP 7933282 A JP7933282 A JP 7933282A JP S58197280 A JPS58197280 A JP S58197280A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- etching
- cassette
- chambers
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- Granted
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079332A JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079332A JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58197280A true JPS58197280A (ja) | 1983-11-16 |
| JPS6339676B2 JPS6339676B2 (cs) | 1988-08-05 |
Family
ID=13686930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079332A Granted JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58197280A (cs) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61247031A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置のクリ−ニング方法 |
| JP2001035836A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Matsushita Electronics Industry Corp | ドライエッチング方法および装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141570A (en) * | 1979-04-18 | 1980-11-05 | Anelva Corp | Dry etching apparatus |
-
1982
- 1982-05-11 JP JP57079332A patent/JPS58197280A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141570A (en) * | 1979-04-18 | 1980-11-05 | Anelva Corp | Dry etching apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61247031A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置のクリ−ニング方法 |
| JP2001035836A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Matsushita Electronics Industry Corp | ドライエッチング方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6339676B2 (cs) | 1988-08-05 |
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