JPS6339676B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6339676B2 JPS6339676B2 JP57079332A JP7933282A JPS6339676B2 JP S6339676 B2 JPS6339676 B2 JP S6339676B2 JP 57079332 A JP57079332 A JP 57079332A JP 7933282 A JP7933282 A JP 7933282A JP S6339676 B2 JPS6339676 B2 JP S6339676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- chamber
- chambers
- semiconductor substrate
- preliminary
- Prior art date
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- Expired
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079332A JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079332A JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58197280A JPS58197280A (ja) | 1983-11-16 |
| JPS6339676B2 true JPS6339676B2 (cs) | 1988-08-05 |
Family
ID=13686930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079332A Granted JPS58197280A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58197280A (cs) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2656467B2 (ja) * | 1985-04-24 | 1997-09-24 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理方法 |
| JP3696442B2 (ja) * | 1999-07-19 | 2005-09-21 | 松下電器産業株式会社 | ドライエッチング方法および装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141570A (en) * | 1979-04-18 | 1980-11-05 | Anelva Corp | Dry etching apparatus |
-
1982
- 1982-05-11 JP JP57079332A patent/JPS58197280A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58197280A (ja) | 1983-11-16 |
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