JPS5819472A - シリンダ−の表面処理方法 - Google Patents
シリンダ−の表面処理方法Info
- Publication number
- JPS5819472A JPS5819472A JP56115400A JP11540081A JPS5819472A JP S5819472 A JPS5819472 A JP S5819472A JP 56115400 A JP56115400 A JP 56115400A JP 11540081 A JP11540081 A JP 11540081A JP S5819472 A JPS5819472 A JP S5819472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder
- film
- stainless steel
- magnetic recording
- friction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシリンダーの表面処理方法に関し、更に詳細に
は、ビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）の如き磁気記録
装置において１回転ヘラＶの上下にあって磁気記録媒体
をその外周に溢つ【案内するシリンダ一部材の表面処理
方法に関する。
は、ビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）の如き磁気記録
装置において１回転ヘラＶの上下にあって磁気記録媒体
をその外周に溢つ【案内するシリンダ一部材の表面処理
方法に関する。
ヘリカルスキャン鳳のビデオテープレコーダーにおいて
、シリンダーの摩擦係数を小さくし且つ優れた防錆性を
持たせることが要求され【いる。
、シリンダーの摩擦係数を小さくし且つ優れた防錆性を
持たせることが要求され【いる。
従来、このシリンダーには非磁性で軽量なアルミニウム
を主成分とするシｌ８Ａ２２１Ｂやハイ／そシールミン
系の合金の展伸材料又は金聾鋳物が研削され表面処理を
施すことなく使用されている。
を主成分とするシｌ８Ａ２２１Ｂやハイ／そシールミン
系の合金の展伸材料又は金聾鋳物が研削され表面処理を
施すことなく使用されている。
ＪＩＳＡ２２１Ｂ−ＦＤ（Ｈ４１４０）等のアル建ニウ
ム合金や純アルミニウムの研削品は磁気テープとの静摩
擦係数が約０．２５とかなり小さいものである。
ム合金や純アルミニウムの研削品は磁気テープとの静摩
擦係数が約０．２５とかなり小さいものである。
このようなシリンダーに磁気テープを巻きつけたまま高
温多湿の雰囲気中に長時間放置すると（たとえば、６０
Ｃ，９０憾ＲＨ，９０時間）、磁気テープとシリンダー
間に露結した水分によりシリンダーが腐蝕を受けて発錆
し、シリンダー表面として 。
温多湿の雰囲気中に長時間放置すると（たとえば、６０
Ｃ，９０憾ＲＨ，９０時間）、磁気テープとシリンダー
間に露結した水分によりシリンダーが腐蝕を受けて発錆
し、シリンダー表面として 。
必要な表面の平滑性を失うのみならず、この錆が磁気テ
ープの磁性塗膜にくいこんで、テープを引剥す際に磁性
塗膜が剥離されることがある。
ープの磁性塗膜にくいこんで、テープを引剥す際に磁性
塗膜が剥離されることがある。
本発明者達は、この問題はＪＩＳＡ ２２１８或いはハ
イＡ−ンルミン系の合金中に含まれるＣＩｌ＆が耐蝕性
を劣化させることに起因するのではないかと考え、Ｃ酪
を含まない高純度アルミニウム（９９，９９−純度）及
びＣ１６を含まないＭ？添加のＪＩＳＡ５０５６などを
テストしたが、腐食の問題はなくならなかった。
イＡ−ンルミン系の合金中に含まれるＣＩｌ＆が耐蝕性
を劣化させることに起因するのではないかと考え、Ｃ酪
を含まない高純度アルミニウム（９９，９９−純度）及
びＣ１６を含まないＭ？添加のＪＩＳＡ５０５６などを
テストしたが、腐食の問題はなくならなかった。
次に％化学皮膜は、耐摩耗性は劣るが、比較的簡単な処
理で皮膜形成が可能（陽極酸化皮膜にくらべて低コスト
で皮膜形成が可能）で、膜厚が小さいにもかかわらず耐
蝕性が良く且つ外観が均一で美しいことに着目して、シ
リンダーに化学皮膜を施した。同時に陽極酸化皮膜も比
較した。その結果、化学皮膜、陽極酸化皮膜共に磁気テ
ープシリンダー関の摩擦が大きくなりテープは円滑に走
行しないことがわかった。また、陽極酸化皮膜は腐蝕防
止に有効ではあったが、化学皮膜は長持間走行すると耐
蝕性がやや劣ってくることが認められた。
理で皮膜形成が可能（陽極酸化皮膜にくらべて低コスト
で皮膜形成が可能）で、膜厚が小さいにもかかわらず耐
蝕性が良く且つ外観が均一で美しいことに着目して、シ
リンダーに化学皮膜を施した。同時に陽極酸化皮膜も比
較した。その結果、化学皮膜、陽極酸化皮膜共に磁気テ
ープシリンダー関の摩擦が大きくなりテープは円滑に走
行しないことがわかった。また、陽極酸化皮膜は腐蝕防
止に有効ではあったが、化学皮膜は長持間走行すると耐
蝕性がやや劣ってくることが認められた。
それ故に１本発明の目的は、Ｗｉ気記鍮媒体を円滑に走
行させ且つ耐蝕性に優れた磁気記録装置用シリンダーの
製造方法に関する。本発明の別の目的は寸法精度及び切
ｌｌｌ１１面形状を良好に維持した磁気記録装置用シリ
ンダーの製造方法を提供するにある。
行させ且つ耐蝕性に優れた磁気記録装置用シリンダーの
製造方法に関する。本発明の別の目的は寸法精度及び切
ｌｌｌ１１面形状を良好に維持した磁気記録装置用シリ
ンダーの製造方法を提供するにある。
本発明者等は上記の目的は、アル１＝ウム表面に化学処
理皮膜を施し、更にその上にり目ム又はステンレススチ
ールのススツタ−膜で被覆するととにより【達成される
ことを見い出した。
理皮膜を施し、更にその上にり目ム又はステンレススチ
ールのススツタ−膜で被覆するととにより【達成される
ことを見い出した。
ここで化学処理被膜を得るための方法とは、電気的な方
法によらないで旭埋液とアルミニウムとの化学反応を利
用して被膜を化成する方法である。
法によらないで旭埋液とアルミニウムとの化学反応を利
用して被膜を化成する方法である。
たとえば、アルミニウムを熱湯中又は水蒸気中に入れる
と、下式の Ａｊ ＋４Ｈ，０−＋Ａｊ、０．−Ｈ，ρ（ベーマイト
）＋３４反応が起り、化学Ｊ［＋１哩被膜が得られる。
と、下式の Ａｊ ＋４Ｈ，０−＋Ａｊ、０．−Ｈ，ρ（ベーマイト
）＋３４反応が起り、化学Ｊ［＋１哩被膜が得られる。
かかる被膜形成方法の変型は「アルミニウム表面技術便
覧（＠金属出版（株）１９８０年１０月発行）」に記載
されており、いずれの方法も本発明に適用できる。
覧（＠金属出版（株）１９８０年１０月発行）」に記載
されており、いずれの方法も本発明に適用できる。
本発明における化学処理皮膜は０．２〜５ｓ程度である
。
。
クロム又はステンレススチールのスノッター展の形成条
件は任意に変えられるが、−例を示せば下記の如（であ
る。即ち、真空槽内にクロム又はステンレススチールの
板を置き、これに対向させて処理すべきアルミシリンダ
ーを置く、真空槽内を、たとえば１Ｏ−ｓＴｏｒｒまで
引いた後、アルゴンガスを導入し、 １０ Ｔｏｒｒ
の雰囲気とする。両者の関に直流２ＫＷの電圧をかけ、
アルゴンガスの電離を起させ電離したＡｙ イオンの
衝突作用によりクロム又はステンレススチールの粒子を
はじきだＬｊ％これをアルミシリンダー上に付着させる
。
件は任意に変えられるが、−例を示せば下記の如（であ
る。即ち、真空槽内にクロム又はステンレススチールの
板を置き、これに対向させて処理すべきアルミシリンダ
ーを置く、真空槽内を、たとえば１Ｏ−ｓＴｏｒｒまで
引いた後、アルゴンガスを導入し、 １０ Ｔｏｒｒ
の雰囲気とする。両者の関に直流２ＫＷの電圧をかけ、
アルゴンガスの電離を起させ電離したＡｙ イオンの
衝突作用によりクロム又はステンレススチールの粒子を
はじきだＬｊ％これをアルミシリンダー上に付着させる
。
１０００Ａの膜厚を約３分かけて形成させることができ
る０本発９４におけるスノツター膜は５００〜２ｏｏｏ
Ｘ 程度でよく、この厚さは５粒子をはじきだす時間を
変化させてコントロールすることができる。
る０本発９４におけるスノツター膜は５００〜２ｏｏｏ
Ｘ 程度でよく、この厚さは５粒子をはじきだす時間を
変化させてコントロールすることができる。
本発明の方法をアＡ／建及びアルミ合金の表面処理とし
て説明したが、アルミ以外の軽くて、錆びやすい金属た
とえば、！ダネシウム又はその合金についても表面を化
学処理（化成化）した後、クロム又ハステンレススチー
ルのスパッター被膜ヲ設けるととＫよって同様の目的を
達成することができる。
て説明したが、アルミ以外の軽くて、錆びやすい金属た
とえば、！ダネシウム又はその合金についても表面を化
学処理（化成化）した後、クロム又ハステンレススチー
ルのスパッター被膜ヲ設けるととＫよって同様の目的を
達成することができる。
次の実施例で示すよ５に化学処理皮膜または陽極酸化皮
膜のみでは磁気テープとシリンダーの間の摩擦係数が大
きすぎ、化学ｌ＆埋皮膜では、摩擦係数と皮膜の耐久性
に問題がある。他方クロムまたはステンレススチールの
ス／々ツダー膜のみでは。
膜のみでは磁気テープとシリンダーの間の摩擦係数が大
きすぎ、化学ｌ＆埋皮膜では、摩擦係数と皮膜の耐久性
に問題がある。他方クロムまたはステンレススチールの
ス／々ツダー膜のみでは。
摩擦係数は現状使用され【いるものほぼ等しいが。
防蝕効果は十分でない。
本発明の構成する所により、該シリンダー等に要求され
る緒特性を兼ね備え、而も比較的低コストの表面処理法
が完成された。
る緒特性を兼ね備え、而も比較的低コストの表面処理法
が完成された。
実施例
ＪＩＳＡ２２１８−ＦＤ−Ｔ６（Ｈ４１４０）の鍛造品
および高純度の９９．９９１ＡｊをＶ、Ｈ，Ｓ ｆｉ
４プＶ、Ｔ、Ｒ用の回転シリンダーの所定寸法に加工し
た。その後、陽極酸化皮膜、化学処理皮膜を施した。母
材の組成と皮膜生成の条件は次の通り。
および高純度の９９．９９１ＡｊをＶ、Ｈ，Ｓ ｆｉ
４プＶ、Ｔ、Ｒ用の回転シリンダーの所定寸法に加工し
た。その後、陽極酸化皮膜、化学処理皮膜を施した。母
材の組成と皮膜生成の条件は次の通り。
（母材組成）
Ａ２２１８ ： Ｂ＊ ：０．４９ 、 Ｆ＃ ：α２
６．Ｃμ： （Ｌ４１ 。
６．Ｃμ： （Ｌ４１ 。
Ｍｓ ： ０．０４． Ｍｆ ： ｔ６． Ｏｒ ：
Ｑ、０１ 。
Ｑ、０１ 。
Ｎｉ ： １．９．２％：０．０４．残！！ 単位：（
ｗｔ、１高純度アルミニウム：９９．９５ｖｔ憾Ａｊ（
化学処理皮膜、陽極酸化皮膜の生成条件）（１） イー
メイト法 アルミシリンダーをトリクレン（溶剤）で脱脂処理をし
たのち、純水中に１５ ）／Ｊ のトリエタノールアミ
ンをとかした液中につけ１００Ｃで３０分処理して表面
に化成被膜をつくる。
ｗｔ、１高純度アルミニウム：９９．９５ｖｔ憾Ａｊ（
化学処理皮膜、陽極酸化皮膜の生成条件）（１） イー
メイト法 アルミシリンダーをトリクレン（溶剤）で脱脂処理をし
たのち、純水中に１５ ）／Ｊ のトリエタノールアミ
ンをとかした液中につけ１００Ｃで３０分処理して表面
に化成被膜をつくる。
その後、このサンプルシリンダーを５勺Ｘ♂の圧力の水
蒸気雰囲気中で２０分間処理（刺孔処理）を行った。
蒸気雰囲気中で２０分間処理（刺孔処理）を行った。
（２） リン酸・クロム酸法
（１］と同じく、トリクレンで脱脂。
ＰＯ””５．５憾（ｖｔ）−Ｃｒ０ａ ｔ２ ％−Ｆ−
０，３％ ヲ含む水溶液をつくる。このときのｐＨは１
７〜ｔ９とした。この水溶液を５０Ｃに加熱、アルミシ
リンダーをこの中に１５分浸漬処理した（刺孔なし）。
０，３％ ヲ含む水溶液をつくる。このときのｐＨは１
７〜ｔ９とした。この水溶液を５０Ｃに加熱、アルミシ
リンダーをこの中に１５分浸漬処理した（刺孔なし）。
次に化学皮膜処理および陽極酸化皮膜処理した該シリン
ダーに以下に示す条件で比較のため全（下地処理しない
ものと共にクロムおよびステンレススチールのス／壁ツ
ター膜を被覆した。
ダーに以下に示す条件で比較のため全（下地処理しない
ものと共にクロムおよびステンレススチールのス／壁ツ
ター膜を被覆した。
（スノツター条件）ニクロム、ステンレススチール同一
条件 真空度 １０ Ｔｏｒｒ 投入電力 ２ＫＷ 設定。
条件 真空度 １０ Ｔｏｒｒ 投入電力 ２ＫＷ 設定。
これらのサンプルにつき、６０とのテンションをかけて
磁気テープを巻きつけ、６０Ｕ、９０ＲＨ，の寥囲気で
、 ５Ｈｒ摩擦摺動させた後９０Ｈｒ同条件のす−モに
入れ【腐蝕の結果を調べ、磁気テープとシリンダー接触
部の面積の５ち腐蝕の発生している面積の比率優を測定
した。現状で使用′ されているものは約５（嘔）であ
る。
磁気テープを巻きつけ、６０Ｕ、９０ＲＨ，の寥囲気で
、 ５Ｈｒ摩擦摺動させた後９０Ｈｒ同条件のす−モに
入れ【腐蝕の結果を調べ、磁気テープとシリンダー接触
部の面積の５ち腐蝕の発生している面積の比率優を測定
した。現状で使用′ されているものは約５（嘔）であ
る。
またこれらのサンプルにつき、磁気テープを１、ｂｙ’
？）で摺動させその静摩擦係数を測定した。
？）で摺動させその静摩擦係数を測定した。
現状品のそれは約Ｑ、２５である。
その結果を次表に示す。
この結果から明らかな通り１本発明の構成の２例共に、
耐蝕性に優れ、摩擦係数も小さく、全膜厚も比較的小さ
く、実用上優れた表面処理方法であることがわかる。
耐蝕性に優れ、摩擦係数も小さく、全膜厚も比較的小さ
く、実用上優れた表面処理方法であることがわかる。
手続補正書
昭和５６年特許願第 １１５４００号
２、発明の名称
シリンダーの表面処理方法
３、補正をする者
事件との関係：特許出願人
名称 （５２０）富士写真フィルム株式会社霞が関ビル
内郵便局 私書箱第４９号 ７、補正の対象
内郵便局 私書箱第４９号 ７、補正の対象
Claims (1)
- 金属又は合金の表面に化学処理皮膜を施し、該皮膜をク
ロム又はステンレススチールのスパッター膜で被覆する
ことを特徴とするシリンダーの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56115400A JPS5819472A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | シリンダ−の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56115400A JPS5819472A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | シリンダ−の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5819472A true JPS5819472A (ja) | 1983-02-04 |
| JPH0220703B2 JPH0220703B2 (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=14661620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56115400A Granted JPS5819472A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | シリンダ−の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5819472A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0191351A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Showa Alum Corp | アルミニウム合金製テープレコーダ用シリンダーの表面処理法 |
| JPH01140414A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-06-01 | Thomson Csf | ビデオ信号記録／再生用ヘッドの製造方法ならびにこの方法を応用した装置 |
| JPH01171151A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Showa Alum Corp | アルミニウム合金製テープレコーダ用シリンダー及びその表面処理法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5142578A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-10 | Hitachi Electronics | Iyoshinchireeshonzokenshitsuki |
| JPS5541315A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-24 | Fuji Electric Co Ltd | Apparatus for preventing cavitation in boiler water feed pump |
-
1981
- 1981-07-24 JP JP56115400A patent/JPS5819472A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5142578A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-10 | Hitachi Electronics | Iyoshinchireeshonzokenshitsuki |
| JPS5541315A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-24 | Fuji Electric Co Ltd | Apparatus for preventing cavitation in boiler water feed pump |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0191351A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Showa Alum Corp | アルミニウム合金製テープレコーダ用シリンダーの表面処理法 |
| JPH01140414A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-06-01 | Thomson Csf | ビデオ信号記録／再生用ヘッドの製造方法ならびにこの方法を応用した装置 |
| US5013580A (en) * | 1987-10-27 | 1991-05-07 | Thomson-Csf | Video recording/play-back head, method for making it and apparatus applying said method |
| JPH01171151A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Showa Alum Corp | アルミニウム合金製テープレコーダ用シリンダー及びその表面処理法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0220703B2 (ja) | 1990-05-10 |
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