JPS58193630U - Cvd装置 - Google Patents

Cvd装置

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Publication number
JPS58193630U
JPS58193630U JP9198582U JP9198582U JPS58193630U JP S58193630 U JPS58193630 U JP S58193630U JP 9198582 U JP9198582 U JP 9198582U JP 9198582 U JP9198582 U JP 9198582U JP S58193630 U JPS58193630 U JP S58193630U
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JP
Japan
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heat block
reaction
reaction tube
reaction gas
cvd apparatus
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Pending
Application number
JP9198582U
Other languages
English (en)
Inventor
「野」口 和行
Original Assignee
三洋電機株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP9198582U priority Critical patent/JPS58193630U/ja
Publication of JPS58193630U publication Critical patent/JPS58193630U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の減圧CVD装置のブロック図、第2図
は、本考案減圧CVD装置のブロック図、第3図、第4
図はヒートブロックの斜視図である。 5・・・反応管、6・・・ウェハ、8・・・予熱領域、
9・・・ヒートブロック、10・・・通路、11・・・
予備加熱機構。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応管内に反応ガスを供給してこの反応管内に設定され
    たウェハ上に気相成長膜を形成するCVD装置において
    、反応管内のウェハ載置部上流に、反応ガスの流れをさ
    えぎる状態で配備され、反応ガスが流れる多数の通路が
    形成されたヒートブロックと、反応管外からこのヒート
    ブロックを加熱する予備加熱機構とを備え、この予備加
    熱機構で上記ヒートブロックを加熱することにより、ヒ
    ートブロックの通路を流れる反応ガスを均一に加熱する
    ことを特徴としたCVD装置。
JP9198582U 1982-06-18 1982-06-18 Cvd装置 Pending JPS58193630U (ja)

Priority Applications (1)

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JP9198582U JPS58193630U (ja) 1982-06-18 1982-06-18 Cvd装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9198582U JPS58193630U (ja) 1982-06-18 1982-06-18 Cvd装置

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JPS58193630U true JPS58193630U (ja) 1983-12-23

Family

ID=30100203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9198582U Pending JPS58193630U (ja) 1982-06-18 1982-06-18 Cvd装置

Country Status (1)

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JP (1) JPS58193630U (ja)

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