JPS5818991B2 - 管内めつき処理装置 - Google Patents
管内めつき処理装置Info
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- JPS5818991B2 JPS5818991B2 JP54066610A JP6661079A JPS5818991B2 JP S5818991 B2 JPS5818991 B2 JP S5818991B2 JP 54066610 A JP54066610 A JP 54066610A JP 6661079 A JP6661079 A JP 6661079A JP S5818991 B2 JPS5818991 B2 JP S5818991B2
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- plating
- treated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1614—Process or apparatus coating on selected surface areas plating on one side
- C23C18/1616—Process or apparatus coating on selected surface areas plating on one side interior or inner surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S118/00—Coating apparatus
- Y10S118/10—Pipe and tube inside
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、管の内面に化学めっきをほどこす管内めっき
処理装置に関する。
処理装置に関する。
管の内面に化学めっきをほどこす場合の従来の問題点を
下記する。
下記する。
（１）化学めっき方法は、電気めっき方法に比べて被め
つぎ体表面の金属析出速度が遅いため、多数本の被処理
管をそれぞれ単独的に処理する場合、その処理に長時間
を要する。
つぎ体表面の金属析出速度が遅いため、多数本の被処理
管をそれぞれ単独的に処理する場合、その処理に長時間
を要する。
（２）めっき処理の時間経過にともない、めっき溶液循
環ポンプの回転子や軸受部分に金属の還元析出反応を生
じ、それらの部分の回転摩擦が犬きくなってポンプは約
５ないし６時間の連続運転で停止される。
環ポンプの回転子や軸受部分に金属の還元析出反応を生
じ、それらの部分の回転摩擦が犬きくなってポンプは約
５ないし６時間の連続運転で停止される。
停止はポンプはこれを分解し、洗浄する必要があり、た
とえば銅めっきの場合、濃硝酸洗浄をおこなうものであ
るが、複数本の管内面を同時にめっき処理する場合、そ
の被処理管の数だけポンプを使用すると、ポンプ洗浄作
業に多くの労力を要し、めっき処理の能率も低下する。
とえば銅めっきの場合、濃硝酸洗浄をおこなうものであ
るが、複数本の管内面を同時にめっき処理する場合、そ
の被処理管の数だけポンプを使用すると、ポンプ洗浄作
業に多くの労力を要し、めっき処理の能率も低下する。
本発明の目的は、以上の点を考慮し、多数の管内面な効
率よく化学めっきすることができ、保守管理が容易で、
しかも品質バラツキの少ない被・処理管料得ることので
きる管内めっき処理装置を提供しようとするものである
。
率よく化学めっきすることができ、保守管理が容易で、
しかも品質バラツキの少ない被・処理管料得ることので
きる管内めっき処理装置を提供しようとするものである
。
本発明の要旨は、長尺管内面を化学めっきする際、めっ
き溶液を複数の管内部に導入および管内部から流出する
ための管端接続部材を管両端に接続し、めっき溶液貯溜
槽かつ単一のポンプにて吐出されためつき溶液をめっき
溶液分配箱を介して長尺管内面に供給し、さらに長尺管
より吐出されためつき溶液集合箱に集合させてめっき溶
液貯溜槽に還流するように構成された管内めっき処理装
置において、上記分配箱を上記集合箱より低い位置に置
きかつ長尺管を傾斜配置してなることを特徴とする管内
めつぎ処理装置にある。
き溶液を複数の管内部に導入および管内部から流出する
ための管端接続部材を管両端に接続し、めっき溶液貯溜
槽かつ単一のポンプにて吐出されためつき溶液をめっき
溶液分配箱を介して長尺管内面に供給し、さらに長尺管
より吐出されためつき溶液集合箱に集合させてめっき溶
液貯溜槽に還流するように構成された管内めっき処理装
置において、上記分配箱を上記集合箱より低い位置に置
きかつ長尺管を傾斜配置してなることを特徴とする管内
めつぎ処理装置にある。
以下、本発明を、図面の一実施例により説明する。
第１図は本発明装置の正面図、第２図は同平面図である
。
。
図において、１はめつき溶液貯溜槽、２はめつき溶液貯
溜槽１内に投入されたモニター試料、３はめつき溶液貯
溜槽１の外周を包囲した恒温槽、４は恒温槽３内の液を
循環させるポンプ、５はその循環液を加熱するヒータで
ある。
溜槽１内に投入されたモニター試料、３はめつき溶液貯
溜槽１の外周を包囲した恒温槽、４は恒温槽３内の液を
循環させるポンプ、５はその循環液を加熱するヒータで
ある。
なお、めっき溶液の加熱手段は、直接加熱、間接加熱の
いずれを問わない。
いずれを問わない。
めつき溶液貯溜槽１には、めっき溶液供給配管６の一端
が開口しており、その他端は、めっき溶液分配箱７に接
続されている。
が開口しており、その他端は、めっき溶液分配箱７に接
続されている。
また、めっき溶液供給配管６の途中には、めっき溶液循
環ポンプ８が配置されている。
環ポンプ８が配置されている。
被処理管である長尺管９は、被処理管取付台１０上に複
数本セットされている。
数本セットされている。
被処理管取付台１０は、当該取付台１００片側の傾斜角
度調節脚１１により、たとえば水平位置から４５度まで
変えられるよう構成されている。
度調節脚１１により、たとえば水平位置から４５度まで
変えられるよう構成されている。
なお、このように、被処理管取付台１０に傾斜角度調節
機構を設けた理由は、めっき処理に際して副生される水
素ガスを被処理管９の上方から排出させるためである。
機構を設けた理由は、めっき処理に際して副生される水
素ガスを被処理管９の上方から排出させるためである。
１２は被処理管９の外周を被覆した断熱材である。
被処理管９のめつき溶液導入側には、管端接続治具’−
１３ａの一端が接続されており、管端接続治具１３ａの
他端は、めっき溶液分配箱７側と接続されている、めっ
き溶液分配箱７には、被処理管９と同数の液出口が形成
されており、めっき溶液分配箱γ内のめつき溶液は、上
記各液出口からそれぞれの被処理管９に同時分配される
。
１３ａの一端が接続されており、管端接続治具１３ａの
他端は、めっき溶液分配箱７側と接続されている、めっ
き溶液分配箱７には、被処理管９と同数の液出口が形成
されており、めっき溶液分配箱γ内のめつき溶液は、上
記各液出口からそれぞれの被処理管９に同時分配される
。
被処理管９のめつき溶液吐出側には、管端接続治具１３
ｂの一端が接続されており、管端接続治具１３ｂの他端
は、めっき溶液集合箱１４側に接続されている。
ｂの一端が接続されており、管端接続治具１３ｂの他端
は、めっき溶液集合箱１４側に接続されている。
１５はめつき溶液集合箱１４に集合しためつき溶液をめ
っき溶液貯溜槽１内に還流させるめっき溶液戻り配管で
ある。
っき溶液貯溜槽１内に還流させるめっき溶液戻り配管で
ある。
以上の構成において、めっき溶液貯溜槽１内の加温めっ
き溶液は、めっき溶液供給配管６およびめっき溶液循環
ポンプ８を介してめっき溶液分配箱７に供給される。
き溶液は、めっき溶液供給配管６およびめっき溶液循環
ポンプ８を介してめっき溶液分配箱７に供給される。
分配箱７忙供給されためっき溶液は、被処理管取付台１
０上にセットされた複数本の被処理管９内罠同時分配さ
れる。
０上にセットされた複数本の被処理管９内罠同時分配さ
れる。
上記複数本の被処理管９内から吐出されためつき溶液は
、めっき溶液集合箱１４に集合され、めっき溶液戻り配
管１５を介して槽１内（（還流される。
、めっき溶液集合箱１４に集合され、めっき溶液戻り配
管１５を介して槽１内（（還流される。
被処理管９の内面にほどこされるめっきの厚さは、槽１
内に投入されたモニター試料２によって管理し、モニタ
ー試料２が目標厚さに達した時点でめっき処理を終了す
ればよい。
内に投入されたモニター試料２によって管理し、モニタ
ー試料２が目標厚さに達した時点でめっき処理を終了す
ればよい。
本発明の効果を下記する。
（１）本発明装置は、一台で複数本の被処理管９を同時
処理するものであるから、短時間で多数の管内面をめっ
き処理することができる。
処理するものであるから、短時間で多数の管内面をめっ
き処理することができる。
（２）複数本の被処理管９にめっき溶液を供給するめつ
き溶液供給配管６を共通配管とし、これにめっき溶液循
環ポンプ８を接続したから、被処理管の数だけポンプを
使用する場合に比較してはるかに経済的であり、ポンプ
洗浄作業も少ない労力で済む。
き溶液供給配管６を共通配管とし、これにめっき溶液循
環ポンプ８を接続したから、被処理管の数だけポンプを
使用する場合に比較してはるかに経済的であり、ポンプ
洗浄作業も少ない労力で済む。
（３）複数本の被処理管９に対してめっき溶液分配箱７
およびめっき溶液集合箱１４を設け、かつ前記分配箱７
を前記集合箱１４より低い位置に置き被処理管９を傾斜
配置したから、谷被処理管９を流れるめっき溶液の水頭
を同じくし流速を均一にすることができると共に、めっ
き時に発生するＨ２ ガスを容易に流出することができ
る。
およびめっき溶液集合箱１４を設け、かつ前記分配箱７
を前記集合箱１４より低い位置に置き被処理管９を傾斜
配置したから、谷被処理管９を流れるめっき溶液の水頭
を同じくし流速を均一にすることができると共に、めっ
き時に発生するＨ２ ガスを容易に流出することができ
る。
その結果、厚さ、色むら、平滑性などの点においていず
れもバラツキの少ない内面めっき管を得ることができる
。
れもバラツキの少ない内面めっき管を得ることができる
。
なお、めっき溶液の流速が不均一であるとその温度分布
が変動することからめつき速度のものが変化し、めっき
膜の特性にバラツキを生じさせることになる。
が変動することからめつき速度のものが変化し、めっき
膜の特性にバラツキを生じさせることになる。
また、集合箱１４の方を分配箱７より低い位置に置くと
、最初被処理内にめっき空気を完全と追い出せないこと
から、めっき溶液が完全に管内面に接触しなくなる。
、最初被処理内にめっき空気を完全と追い出せないこと
から、めっき溶液が完全に管内面に接触しなくなる。
実験例
本発明装置を用いて内径１０．８ｍｍ、肉厚０．８６ｒ
ＩＬｍＸ長さ４０００ｙｕｔのジルカロイ−２核燃料棒
被覆管１０本に同時に銅メツキ処理をほどこした結果を
表１に示す。
ＩＬｍＸ長さ４０００ｙｕｔのジルカロイ−２核燃料棒
被覆管１０本に同時に銅メツキ処理をほどこした結果を
表１に示す。
表１から明らかなように、１０本の核燃料棒被覆管のめ
つき厚さのバラツキは少なく、色むら、平滑性にも大き
なバラツキはみられなかった。
つき厚さのバラツキは少なく、色むら、平滑性にも大き
なバラツキはみられなかった。
以上、本発明は、多数の管内面を効率よく化学めっきす
ることができ、保守管理が容易で、しかも品質バラツキ
の少ない被処理管を得ることができるという顕著な効果
を奏する。
ることができ、保守管理が容易で、しかも品質バラツキ
の少ない被処理管を得ることができるという顕著な効果
を奏する。
第１図は本発明装置の一実施例を示す正面図、第２図は
同平面図である。 １・・・・・・めっき溶液貯溜槽、２・・・・・・モニ
ター試料、３・・・・・・恒温槽、５・・・・・化−タ
、６・・・・・・めっき溶液供給配管、７・・・・・・
めっき溶液分配箱、８・・・・・・めっき溶液循環ポン
プ、９・・・・・・被処理管、１０・・・・・・被処理
管取付台、１３ａおよび１３ｂ・・・・・・管端接続治
具、１４・・・・・・めっき溶液集合箱、１５・・・・
・・めっき溶液戻り配管。
同平面図である。 １・・・・・・めっき溶液貯溜槽、２・・・・・・モニ
ター試料、３・・・・・・恒温槽、５・・・・・化−タ
、６・・・・・・めっき溶液供給配管、７・・・・・・
めっき溶液分配箱、８・・・・・・めっき溶液循環ポン
プ、９・・・・・・被処理管、１０・・・・・・被処理
管取付台、１３ａおよび１３ｂ・・・・・・管端接続治
具、１４・・・・・・めっき溶液集合箱、１５・・・・
・・めっき溶液戻り配管。
Claims (1)
- １ 長尺管内向を化学めっきする際、めっき溶液を複数
の管内部に導入および管内部から流出するための管端接
続部材を管両端に接続し、めっき溶液貯溜槽から単一の
ポンプにて吐出されためっき溶液をめっき溶液分配箱を
介して長尺管内面に供給し、さらに長尺管より吐出され
ためつき溶液をめっき溶液集合箱に集合させてめっき溶
液貯溜槽に還流するように構成された管内めっき処理装
置において、上記分配箱を上記集合箱より低い位置に置
きかつ長尺管を傾斜配置してなることを特徴とする管内
めっき処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54066610A JPS5818991B2 (ja) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | 管内めつき処理装置 |
| US06/152,298 US4309959A (en) | 1979-05-29 | 1980-05-22 | Apparatus for applying chemical plating to inner surfaces of tubular members |
| DE3020259A DE3020259C2 (de) | 1979-05-29 | 1980-05-28 | Vorrichtung zur stromlosen Metallisierung der Innenflächen von Rohrelementen |
| SE8003962A SE437274B (sv) | 1979-05-29 | 1980-05-28 | Anordning for stromlos metallisering av innerytan av rorelement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54066610A JPS5818991B2 (ja) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | 管内めつき処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55158296A JPS55158296A (en) | 1980-12-09 |
| JPS5818991B2 true JPS5818991B2 (ja) | 1983-04-15 |
Family
ID=13320834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54066610A Expired JPS5818991B2 (ja) | 1979-05-29 | 1979-05-29 | 管内めつき処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4309959A (ja) |
| JP (1) | JPS5818991B2 (ja) |
| DE (1) | DE3020259C2 (ja) |
| SE (1) | SE437274B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021149783A1 (ja) | 2020-01-21 | 2021-07-29 | 株式会社 潤工社 | チューブ及びそれを用いたポンプ |
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|---|---|---|---|---|
| JPS59173260A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-01 | Canon Inc | 無電解メツキ装置の配管方法 |
| DE10154402B4 (de) * | 2001-10-10 | 2008-08-07 | Schott Ag | Verfahren zum Innenverspiegeln von Glasrohren, insbesondere für Sonnenkollektoren |
| US8387555B2 (en) * | 2009-06-26 | 2013-03-05 | Glenn H. Wang | Apparatus and method for electroless nickel coating of tubular structures |
| CN102978591B (zh) * | 2012-12-14 | 2014-10-22 | 中国建筑材料科学研究总院 | 多孔陶瓷管的内外壁压差化学镀设备及其镀膜方法 |
| CN104384075A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-03-04 | 济南洁瑞热能科技有限公司 | 新型空气预热器搪瓷管内壁注浆设备 |
| JP6720915B2 (ja) * | 2017-05-09 | 2020-07-08 | 株式会社豊田自動織機 | 太陽熱集熱管の製造方法 |
| CN117071041B (zh) * | 2023-10-13 | 2023-12-29 | 苏州派普机械有限公司 | 一种石化零件的电镀设备 |
Family Cites Families (7)
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| US1354418A (en) * | 1920-02-06 | 1920-09-28 | Frank W Pershing | Holder for use in coating rods for electric welding |
| US2222676A (en) * | 1938-09-12 | 1940-11-26 | Aloe Co As | Pipette cleaner |
| US2888374A (en) * | 1955-05-17 | 1959-05-26 | Mannesmann Ag | Process for depth-hardening of long tubes or the like |
| DE1521293B2 (de) * | 1966-10-26 | 1972-02-17 | Heye, Hermann, 4962 Obernkirchen | Verfahren und vorrichtung zum stromlosen vernickeln der innenseite eines hohlkoerpers |
| US3934054A (en) * | 1969-08-25 | 1976-01-20 | Electro Chemical Engineering Gmbh | Electroless metal plating |
| DE2523257C2 (de) * | 1975-05-26 | 1982-10-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Beschichtung von Innenflächen bei rohrförmigen Hohlkörpern mit Tantal durch chemische Dampfphasenabscheidung |
-
1979
- 1979-05-29 JP JP54066610A patent/JPS5818991B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-05-22 US US06/152,298 patent/US4309959A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-05-28 DE DE3020259A patent/DE3020259C2/de not_active Expired
- 1980-05-28 SE SE8003962A patent/SE437274B/sv not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021149783A1 (ja) | 2020-01-21 | 2021-07-29 | 株式会社 潤工社 | チューブ及びそれを用いたポンプ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3020259C2 (de) | 1982-10-28 |
| US4309959A (en) | 1982-01-12 |
| SE437274B (sv) | 1985-02-18 |
| SE8003962L (sv) | 1980-11-30 |
| DE3020259A1 (de) | 1980-12-04 |
| JPS55158296A (en) | 1980-12-09 |
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