JPS58185293A - 光記憶用薄膜 - Google Patents

光記憶用薄膜

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JPS58185293A
JPS58185293A JP57068801A JP6880182A JPS58185293A JP S58185293 A JPS58185293 A JP S58185293A JP 57068801 A JP57068801 A JP 57068801A JP 6880182 A JP6880182 A JP 6880182A JP S58185293 A JPS58185293 A JP S58185293A
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JP
Japan
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light
thin film
carbon
hydrogen
irradiated
Prior art date
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Application number
JP57068801A
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JPS6337720B2 (ja
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Masami Miyagi
宮城 雅美
Norihiro Funakoshi
宣博 舩越
Susumu Fujimori
進 藤森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPS58185293A publication Critical patent/JPS58185293A/ja
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    • G11B7/004Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
    • G11B7/0045Recording
    • G11B7/00451Recording involving ablation of the recording layer
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    • G11B7/0045Recording
    • G11B7/00455Recording involving reflectivity, absorption or colour changes

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光情報の簀込みおよび読出しをなすために用い
られる光記憶用薄膜に関する。
従来、この釉の光記憶用薄膜としては、透光性または不
透光性を有する基板上に光−磁気効果を有するMn−B
1薄膜が何されているものや、上記基板上に光吸収によ
って屈折率髪化を呈する感光性物質の薄膜が付されてい
るものなとが提案されている。
しかるに、前者の場合、薄膜が化学的に不安定であるた
めに、光情報の瞥込みおよび耽出しの信頼性に欠けると
共に、感度が低いという欠点を有している。また、後者
の場合、光吸収の波長依存性が太きいために、特許の波
長の光に対する感度が低いと共に、化学的に不安定であ
るという欠点を有している。
本発明は透光性または不透光性を有する基板上に光を吸
収して消失または熱分解を起こし光の反射率が変化する
性質を有する水素含有炭素薄膜を形成することによυ、
上述した従・米の欠点を除去し得る艮好な光記憶用薄膜
全提供することを目的とする。
前記の目的全達成するた&:)、本発明は光を吸収して
消失又は、熱分FJ[ニーEこし光の反射率が変化する
性質を有する水素含有炭素薄膜を、透光性又は不透光性
を有する基板上に形成すること金特徴とする光記憶用薄
膜を発明のを旨とするものである。
次に本発明の実施?llを際附図面についで欺明する。
なお実施例は一つの例示であって、本発明の精神を逸脱
しない範囲内で、柚々の変更あるいは改良を行いうるこ
とは太うまでもない。
第1図は本発明の実施例を示す。図において、1は透光
性または不透光性の基板であシ、2は基板1上に膜厚約
1pmで形成された光me憶用水素含有炭素薄膜であシ
、3は薄膜2上にレンズ糸4を介して照射されるレーザ
収束光でろる0以上の構成において水素含有炭素薄膜2
上の光照射を受けた領域では光の吸収により発熱し、2
50℃を超えると熱分解により膜中の水素が逃出し、炭
素のみが残り黒化する。1だ、さらに元の強度を増加さ
せ700℃を超えると、光照射都の炭素は炭酸ガスとな
って消失する。これで光情報の書込みが完了し光記憶が
行なわれる。
次に、この光情報を耽出す場合には、水素含有薄膜2に
おける黒化部分あるいは消失部分と光の未照射部との光
の反射率が異なること全利用して外部から収束光を照射
し、反射光の強さを測定すれはよい。また、透光性基板
上Vこ形成した水素含有薄膜の消失による記憶を行なっ
た場合には、透過光にょる絖出しも可能である。
なお、不発明においては水素含有炭素薄膜中の水素含有
薄膜10〜4o%at%にすることが好ましい。その理
由は、40%を超えた場合には光の吸収係数が減少し、
10%未満では光照射都の炭素膜との反射率の差が低下
するためである010〜40%at%の水素含有量を有
する水素含有炭素薄膜はCH4,CtHa等の炭化水累
〃スを用いてプラズマCVD法で形成する。
次に不発明の実施例について説明する。
実施例(1) ガラス基板上にCH,’ii原料として膜厚約1μmの
水素含有炭素薄膜を形成させた。この膜の水素含有量は
約40%であシ、アルゴンレーザ光長すなわち5145
^における吸収係数は約10’/ crnであった。か
くして得た本発明光記憶用薄膜に100mWのアルゴン
レーザ光を1μmφニジばって0.1μs照射すること
にょp、照射領域の反射率が顕著に変化することが確認
された。
実施例(2) ガラス基板上にC* Hzk原料として膜厚約1μmの
水素含有炭素薄ll!i!全形成させた。この膜の水素
含有量は約10%であ凱波長5145^における吸収係
数は約10’/ cmであった。かくして得た本発明光
記憶用薄膜に10mWのアルゴンレーザ光を1μmφに
しほって0.1μS照射することにより、照射領域の反
射率が顕著に変化することが確認された。
実施例(3) 実施例(2)と同様の形成条件により、膜厚約500O
Aの水素含有炭素薄膜を形成させた。かくして得た不発
明光記憶用薄膜に10mWのアルゴンレーザ元金1μm
φにしはって0.8μS照射することによシ、照射部分
が消失することが確認された。
上記の実施例においてガラス基板を用いた場合について
説明したが、不透光性基板ヶ用いうることは云うまでも
ない。
以上説明したように本発明によれば、薄膜の熱分解ある
いは昇華を利用するものであるから、化学的に安定で信
頼性に富み、しかも高感度な光記憶用薄膜を提供するこ
とが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は不発明にかかる光記憶用薄膜の一実施例を示す
。 1・・・・・・透光性または不透光性の基板、2・・・
・・・光記憶用薄膜、3・・・・・・レーザ光、4・・
・・・・レンズ系 特許出願人 日本電信電話公社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (リ 光を吸収して消失又は、熱分解を起こし光の反射
    率が変化する性質を有する水素含有炭素薄膜を、透光性
    又は不透光性を有する基板上に形成することを特徴とす
    る光記憶用薄膜。 (2)水素含有炭素薄膜において水素含有量が10〜4
    0at%の範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の光記憶用薄膜。
JP57068801A 1982-04-26 1982-04-26 光記憶用薄膜 Granted JPS58185293A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57068801A JPS58185293A (ja) 1982-04-26 1982-04-26 光記憶用薄膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57068801A JPS58185293A (ja) 1982-04-26 1982-04-26 光記憶用薄膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58185293A true JPS58185293A (ja) 1983-10-28
JPS6337720B2 JPS6337720B2 (ja) 1988-07-26

Family

ID=13384182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57068801A Granted JPS58185293A (ja) 1982-04-26 1982-04-26 光記憶用薄膜

Country Status (1)

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JP (1) JPS58185293A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0229650A2 (de) * 1986-01-15 1987-07-22 BASF Aktiengesellschaft Optisches Aufzeichnungsmedium, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung als Read Only Memory-Informationsträger

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0229650A2 (de) * 1986-01-15 1987-07-22 BASF Aktiengesellschaft Optisches Aufzeichnungsmedium, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung als Read Only Memory-Informationsträger

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Publication number Publication date
JPS6337720B2 (ja) 1988-07-26

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