JPS58184103A - 光フアイバ用被膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ファイバに関し、特にファイバの気密被膜に
関すするものである。被覆し°〔いない裸の光ファイバ
は摩耗を受けて表面に引っかき優ができやすいというこ
とはよく知られ゛〔いる。これらの引っかき纒があると
光ファイバの側面から大量の光が失われ、また光ファイ
バの破損の原因となる。光ファイバは破損しやすい。そ
の理由は光ファイバが比較的もろい材料でつくられてい
るということ、ならびに一般に直径が極め°〔小さく、
また曲げや引張り等のストレスを受けるからである。

これらのストレスによって亀裂や引っかき島が広がり、
それによつＣ歪みや亀裂の先端にある化学的結合部分に
集中するようになる。その結果、引っかき傷や亀裂が大
きくなり、鐘終的には破損し光ファイバの機能は突然失
なわれる。このためシリコーンのような耐摩耗性物質で
光ファイバを被覆することにより光ファイバの摩耗を防
止することが一般的になっている。又、この耐摩耗性被
覆を光ファイバに施す際には、ｆｅ置と光フアイバ表面
とが接触しないようになつ°Ｃいる。

光ファイバはまた腐食を受けやすいということが、酸近
認識され°（いる。水な初めとする各種の化学物質は光
ファイバと反応しＣその光特性を損ない、かつその機械
的強度ならびに静的疲労抵抗を弱める作用がある。光フ
ァイバの表面に微小な亀裂があると、特に光ファイバが
ストレスを受け〔いる際に化学的に侵されやすい。光フ
ァイバにストレスがかかると亀裂が広がり、それによつ
′〔亀裂の先端にある化学結合部分に歪みが集中するこ
とになる。このように歪みを受けた結合部分は一層化学
的に損傷を受けやすくなり、それによつ（腐食がこの微
小亀裂を広げることになる。微小亀裂が大きくなると光
ファイバの強度が弱くなっＣ静的疲労や突然の破壊をも
たらすことになる。

通常の温湿度において静的ストレスσ１　の下での光フ
ァイバの破壊時間１．に対する応力腐食の効果はｌｏｇ
ｔ＠とｌｏｇσ榔の一次関係に帰着する。

すなわち ｌｏｇ　ｔｌ＝−ｎ　ｌｏｇ（Ｆｓ＋　ｌｏｇＢ−１−
（ｎ　−２）　１ｏｇＳｉ゛−ヒ記式中、Ｂはガラスお
よび試験条件によって与えられる定数であり、ｎは亀裂
速度指数であり、Ｓｉ　は不活性環境における破損強度
である（　Ｊ　、Ｅ。

Ｒｉｔｔｅｒ、　Ｊｒ、、　Ｆｉｂｅｒ　ａｎｄ−Φｎ
ｔ　、　０ｐｔｉｃｓ、　１３８７（１９７８）、参照
入 この亀裂速度指数ｎは一般に光ファイバを評価する有用
なパラメータである。一般にｎの値が大きい光ファイバ
は通常の大きさの応力が生じる場合、大きなｔｓ　ｒｆ
Ｌをもつ°Ｃいる。さらに、ｎの値が大きい光ファイバ
はσ１に対するｔ−の変動が大きい。このためｎの値が
大きい光ファイバはそれｆ””　ｌｌｌ１１ が使用中に受けるようなストレスよりもわずかに大きい
ストレスをかけ、例えば数日間程度の合理的な試験時間
で試験を行うことができる。光ファイバがこの試験時間
中に破損しない場合にはｎが大きく、ｌｏｇ　ｔ＠はｌ
ｏｇ−に対し°〔急激に減少するため、特定の使用条件
におい°〔長時間持ちこたえることは明らかである。従
ってこのような光）゛ｒイパは品質管理を目的とする試
験を容易に行うことができる。

光ファイバを摩耗から保鏝するが腐食からは保護しない
ような各種の塗料がある。このような塗料は光ファイバ
の腐食を防止するものではないので、従来の多くの方法
では高価な方法な用い・Ｃ微小亀裂の数な減らすことに
より、微小亀裂による崩壊を減らそうとし°〔いる。ま
た光ファイバの用途はストレスの低い用途に限定される
ことが多い。

尤ファイバに水が浸透するのを防止するもう１つの方法
は、光ファイバに金属被膜を適用することである。冷却
されると気密被膜を形成するような溶融錫または溶融ア
ルミニウムの金属シールを適用することがこれ一゛でｉ
Ｃ提案されている。しかし金属は多結晶質固体を形成す
る傾向があり、この多結晶質固体自身が、著しく強化さ
れた結晶粒界拡散によつＣ急速に腐食される。この結晶
粒界の構造に比較的隙間があるため、イオンが容易に移
動できるような通路を与え、イオンが５ｉＯｚ表面に達
して亀裂の核をつくり、あるいはまた亀裂を生長させる
ことになる。金属被膜はまた光ファイバに沿つ〔一般に
好ましくない電気的な通路を与える。さらに、多くの金
属はＳｉ　（ｈと反応して金属酸化物を生成する。この
ような金属酸化物からなる研摩性粒子は５ｉ０２表面を
荒し、ストレスを大きくするように作用し°〔潜在的な
亀裂の核生成域を４える。

光フアイバ用の気密シールとし°Ｃ幾つかの非金緘被膜
が使用され°Ｃいる。例えば窒化珪＊（１９７７年６月
７日発行の１）ｉＶｉｔａらの１先導波管フアイバの処
理方法”という名称の米国特許第４ρ２８，０８０号参
照）あるいは炭素（１９８０年１月１５日発行のＫａｏ
らの”耐水性高強度ファイバという名称の米国特許ａｇ
４，１８３，６２１号参照）を用い°〔光ファイバを気
密シールすることが行われている。

しかしながら室温条件で使用するのに適する被膜は、よ
り高い温度あるいはまた高い圧力で使用する場合には必
ずしも適切なものではない。光ファイバの用途は拡大し
°〔おり、これまでの条件とは鴫なる条件で光ファイバ
が使用されるようになつ〔いる。例えば光ファイバをさ
く井の工程記録操作に用いる場合には（すなわち油井な
掘削する装置からのデータな蓄積するような場合）、光
ファイバは一般的な油井内部の条件、すなわち２００℃
程度の温度ならびに２０，０００ｐｓｉ　　程度の圧力
の条件下で有効な耐用年数にわたつ°〔機能を果たさな
ければならない。光ファイバを１日８時間、２年間にわ
たって使用するためには、このような極端な条件下で４
０００時間の使用に耐える必要がある。

油井の中に降ろされるケーブルは一般に３％の企みを受
けるので、その気密被膜はこのような歪を与え゛〔，９
５℃／気圧の比較的温和な条件で水に浸漬すると、静的
疲労あるいは腐食亀裂によつ°Ｃその有用な耐用時間は
３日〜４日に制限される。

油井内部の極端な圧力によつ°〔水が耐摩耗性被膜を通
し゛（浸透するので、２００℃、０．１４　Ｘ　１０’
　Ｎ　７ｍ２の圧力で水中に浸漬される場合でも有効な
耐用期間中、元の状態を保つような気密被膜が必要とさ
れる。

光ファイバな水中に浸漬するとｌｏｇｔｌ、　　Ｋ対す
るｌｏｇ　ｔ■の関係は空気中で示される直線関係とは
異なる。第３図に、種々の温度におい゛〔水中に浸漬し
た普通の光ファイバの静的疲労の実験データ％の歪み）
においＣ１日程度であること、ならびにこれらの曲線は
ストレスが２．４　Ｘ　１０”Ｎ／ｍ’の付近で曲がり
°〔いることがわかる。窒化珪素で被覆した光ファイバ
につい゛〔も同じような曲線が得られる。３％の歪みで
これらの繊維も数日以内に破損する。この光ファイバを
楕円ｉ＊、法によって調べると、光ファイバの使用中に
窒化珪素被膜の厚さが著しく薄くなることがわかる。従
つ゛〔窒化珪素はさく井工程記録における条件下で使用
するには適切なものではないことがわかった。炭素で被
覆した光ファイバについ°Ｃも同様に試験がなされｔ二
。スパッタリングによつ°（蒸着した３００Ａの炭素被
膜の場合、亀裂速度指数ｎはわずかに３０．３に過ぎな
いことがわかった（Ｍ、Ｌ、５ｔｅｉｎら着”　Ｉｏｎ
　Ｐｌａｓｍａ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃａｒ
ｂｏｎ　−Ｉｎｄｉｕｍｔ（ｅｒｍｅｔｉｃ　Ｃｏａｔ
ｉｎｇｓ　ｆｏｒ　０ｐｔｉｃａｌ　Ｆｉｂｅｒｓ　”
、　Ｐｒｏｃ。

ｏｆ　　ＣＬＥＵ　　　　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ　　ｏ
ｆ　　　Ｌａ５ｅｒ　　　ａｎｄ　　Ｅｌｅｃｔｒｏｏ
ｐｔｉｃｓ。

〜Ｖａｓｈｉｎｇｔｏｎ、Ｄ、Ｃ，，１９８１年６月１
０日〜１２日参照）。化学真空源４１によりオンライン
で蒸着したｔｏｏ　Ａ−優半Ｊ＝−の被膜の場合、ｎの
直はわずかに８であった。従ってこれらの試験から、炭
素は水に浸漬される光ファイバの気密被膜とし°〔適切
なものではないことがわかる。

炭化珪素ならびに珪素、炭素、窒素および酸素？さまざ
まな比率で含む被膜を水に浸漬し′〔試験、：′１ したところ、窒化珪素や、−素の被膜の寿命より数段優
れた寿命をもつことがわかった。比率を適当に選択する
ことにより、被膜は、水中に浸漬した状態で有効な寿命
全体にわたって気密を保持するだけでなく、水中に浸漬
したときに気密性を保持すると共ＫｒｊＴ能な限りぴっ
たりと光ファイバの物性（例えば体積弾性率や熱膨張係
数など）をふされしいものとする。　− 以下、本発明の実施例な用い°〔詳述する。

第１図は本発明の被覆材を化学真空蒸着（ＣＶＤ）によ
つ（光ファイバに施すのに適した炉が示しＣある。光フ
ァイバは包囲壁１３＆ｃよつ°Ｃ囲まれた反応室１２の
内部に入る。入口１５は反応体ガス源に連結され、反応
室１２に反応体ガスを供給する。得られる被膜の組成は
、反応体ガスの相対的な流速を制御することにより調整
される。排出ボート１４が設けられ、生成物と、未反応
の反応体ガスを排出するようにｔつ（いる。

反応室１２の光ファイバ１１が入つ゛〔（る端部と出〔
いく端部にガスシールが設けられ、反応室１２から周囲
の気体が入り込まないように、また反応体ガスが大気中
に逃げ出さないようになつ°Ｃいる。光ファイバ１１が
入つ゛〔（る側のガスシールは包囲壁１７によつ〔規定
される室１６を備え（Ｓす、包囲壁１７を通して入口１
８から不活性ガスが供給される。周囲の圧力であるいは
これに近い圧力でＣＶＤ反応が起こる場合には、反応室
１２は人口１８から周囲圧力よりわずかに高い圧力で一
１１素のような不活性ガスを供給することによｉ）、周
囲の大気から分離される。

このガスシールは一対の開口１９と１１０を備え（おり
、開口１９．１１０によつ°、〔、光ファイバ１１（１
・このシールを通過し゛〔反応室１２に入り、オンフィ
ンで被膜が塗布される。開口１９，１１０は光ファイバ
１１が横方向に動い°〔包囲壁１７と接触したファイバ
１１に引っかき傷をつくることがないように十分に大き
くし°Ｃおく必要がある。開口１９゜１１０は、これを
通つ°〔室１６から漏れ出す不活性ガスの皺ができるだ
け少なくなるように包囲壁１７どの接ｐ！ｊｉを防止す
るのに必要な程度より太き（し１’ｇいことが望ましい
。室１６は光ファイバ１１が又心室１２に入る場所にお
い°〔もシールされ゛〔いイ）。

破膜を塗布するこの方法の場合、ＣＶＤ反応は４００℃
〜１７００℃で進行する。珪素、炭素、窒素および酸素
を含む反応体を供給することにより、Ｓ　ｉｘ　Ｃｙ　
Ｎｚ０ｗの薄い被膜が光ファイバ１１に塗布される。例
えば１４０Ａの直径の光ファイバ１−１を０．６ｍ／Ｓ
の速度でＨｅＯ，１８バール、ｆｌｉＨ４Ｑ、Ｑ２バー
Ａ／、Ｃ５−）１−ｔ　＋、１　／＜　−ル、Ｎ、０．
７／（−ルの分圧をもつ混合物中を移動させることによ
って炭化珪素（ＳｉＣ）の薄いフィルムを塗布した。こ
の光ファイバについ°〔得られた亀裂速度指数は１００
以上であった。

他の被膜反応の結果を第２図のデータ表に示す。

この表は被覆される光ファイバが反応室な通過する速度
ならびに反応体がスの分圧を示している。

被覆した光ファイバの試料を検査し、これらの被覆した
光ファイバのそれぞれについて得られた組成（Ａｕｇｅ
ｒ分析による）、厚さ、および亀裂速度指数を求めた。

”組成”禰にＣ１”公”仕る添え字は試験結果の平均値
を示し°〔おり、誤差圧力（ＥＲ）ｔｒｉ（ＢＡ）ｔｓ
　）は約±２５％である。これらの被覆した光ファイバ
のそれぞれ１ｍの部分をとり、１．８ｘ　ｌＯ’　Ｎ７
ｍ”　　の引張り応力をかけ′〔濃フッ化水素酸に浸漬
することにより、その完全性を試験した。

普通の被覆し°Ｃいない光ファイバは浸漬後１−１０秒
で切れる。これに対して被覆した光ファイバの幾つかの
ものはこれと同じ条件で数時間ないしそれ以上切れずに
もちこたえた。耐久性がこのように１０”〜１０４倍増
加し゛〔いるということは、これらの光ファイバの被膜
にピンホールがないことを示し°〔いる。

実験１〜７で用いた反応体の比率により、普通の光ファ
イバと比べ゛〔ｎの値が太き（かつフッ化水素酸中の耐
久時間が長い光ファイバが得られた。

これに対し°〔実験８〜９で用いた反応体比率ではフッ
化水素酸中の耐久時間はわずかに改良されるか、あるい
は全く改良されず、またｎの値はわずかな改良が見られ
る□’Ｋａぎなかった。

（ これらの試験結果から、ＳｉｘＣｙＮｚＯｗは広範囲の
ｘ、　ｙ、　ｚ　ｇよびＷの値について光ファイバの適
切な気密シーラントであることがわかる。しかしながら
５ｉ−８ｉ、　５ｉ−０および５ｉ−Ｎ結合は化学的に
横１、特に高度に腐食環境において化学的にこ損謳を受
けやすいため、ｙが実質的に０に等しいような被膜はさ
く井工程記録用とし°〔は適切でないことはよく知られ
゛〔いる。同様に実噴８の結果ならびに冒頭に引用した
Ｍ、Ｌ、５ｔｅｉｎらの試験結果は、純粋な炭素被膜も
さく井工程記録用としＣ適切ではないことを示し°〔い
る。従つ゛Ｃ３ｉ−Ｃ結合は気密性の耐腐食性被膜をつ
くるのに必須のものであると思われる。第２図に示した
データから以下の２つの注目すべき効果が明らかである
。

先ず第１に、反応体の成分として酸素が導入されない場
合にもｎｉｌ中に酸素が見い出されるということである
。七〇理由とし°Ｃ考えられることは、酸Ｊ（７）−ｍ
は光７７（バがＣＶＤ＊４１！ｌｆＫ入る際に光ファイ
バの表面１〔酸素が吸着されるということであるが、こ
の考え方よりも、＃素は５１０２フアイバそれ自身から
でＣくるものであり、従つ°Ｃある程度の酸素は、反応
体を選択し、また反応体の分圧を選択し′（も被膜中に
表われＣくる、ということの方が尤もらしい。第２に、
実験２〜６は少ｔ（０１〜２％）の５ｉＨｎＬか含んで
いないのに、被膜中には２１〜２８％の珪素があること
な示し〔いる。このように少普のＳ　ｔ　Ｈ４の添加で
も得られる被膜の厚さは著しく太き（なる。

被覆した元ファイバな高温高圧で試験すると、これより
温和な条件では見られないような幾つかの庸（べき結果
が得られた。この理由から、さまざまな湿度で空気中で
光ファイバを試験した多数の結果、ならびにその試験の
ために開発された方法は、高温高圧におい°〔水中に浸
漬した元ファイバには適用することができない。例えば
被覆しｔこ光ファイバは一般に空気中でｌｏｇ　ｔ−と
ｌｏｇσＳとの１４に１１ｍ１関係があるので、亀裂速
度指数ｎは動的疲労試験によって決定することができる
。動的疲労試験では光ファイバの２つの試料にストレス
をかけ、このストレスを時間と共に大きくし゛Ｃ光ファ
イバが切れるまで光ファイバを引張る。これらの２つの
試料のそれぞれにはそれぞれ異なる一定の速度で増加す
るストレスがかけられ、２つの試料は２つの異なった時
間に嚢なったストレスな受け°〔切れる。これらの２つ
の異なるデータポイントケ用い（ｌｏｇσ８の関数とし
〔のｌｏｇ　ｔ、のマイナスの傾きとし°〔ｎを計算す
る。これら２つのデータポイントかも得られる一次曲線
を用いて、別のストレスに対応する耐久時間な予１１１
３する。

残念ながら、高温で水中に浸漬した光ファイバについＣ
はこの曲線は一次曲騙ではな（、一般に中間で折れ曲が
った一対のほぼ一部の領域を示す（第３図参照）。動的
疲労試験は一般に分単位の時間で行われるので、このよ
うなデータポイントは＠３図の右下方部分の曲線の直１
１部分の上にある。従つ〔これらの試験から決定された
ｎ　（１）　１１は、ここで間４とし°Ｃいる耐久時間
すなわち８力月程度の耐久時間ｔこおける光ファイバの
挙動を予測するのに使用することはできない。同様の曲
線が、多数の、被覆された光フディパについＣ得られ、
その結果、現在正確な試験は光グブイパの゛試料が切れ
るまで一定のストレスを光ファイバの試料にかける静的
試験を必要とし°〔いる。し゛かじながら、この試験は
新しい保鏝被膜を用゛いた光ファイバｔその耐久時間が
終了するまで静的疲労試験を行う必要があり、そのため
この試験は極め°〔時間がかかり、従つ〔、極端な条件
番こおい（有用な被膜を探しだす進度が遅れるという欠
点がある。曲線に祈れ曲がり部分ＱＳあるために、これ
より短い便宜的な試験時間（数時間ないし数日間程度）
にわたつ（行われる試験によつ°〔決定され゛るｎの籠
は、酸早長い耐用期間を正確に予測するものではないが
、破横したある光ファイバが被覆した他の光ファイバよ
り耐用期間が長いかどうかを示す大ざっばな指標とし゛
（依然とし〔有用である。

４Ｎ覆した光ファイバの強度ならびに耐用期間を観察す
ることにより、最近、耐用期間の唯一の指標とし゛〔の
ｎの有用性も失われ°〔いる。高いストレスがかけられ
た状態では、多数の被覆した光ファイバの強度が小さく
なることが観察され゛〔いる。

光ファイバの直径に比諷°〔薄い被膜は、高いストレス
がかかると、被覆され”〔いない光フアイバ自身がその
応力で切れるよりも藺に壊れ”〔しまうものと推１１１
＃れる。被膜が壊れると光ファイバに対するその接着力
のため光７“１４２表面の被膜が壊れた部分に引っかき
蕩ができ、その結果゛、光ファイバはこの点で速やかに
切れ°Ｃしまりと考えられる。この結果、被膜が十分に
扉＜、光ファイバの一部が被覆され、他の部分が被覆さ
れ・〔いないような場合には高いストレスがかけ゛られ
る−と光ファイバは被覆されＣいる部分で殆ど常に切れ
ることになる。従・つ゛〔高い応力は、被覆された光フ
ァイバの部分に関連する降伏データな知らせるものであ
るが、被膜に隙間があるかどうかを知らせるものでは１
ｇい。

被覆され〔いない部分は被覆した部分より腐食を受けや
すいので、被覆し°Ｃいない部分の存在は、腐食が主要
な原因となるのに十分に長い耐久時間合には珍しいもの
ではない。というのは被膜は初め離れ離れの島のように
蒸着し生長するからである。島と島の間のこれらの隙間
は被膜が十分に厚く適用された後に初め°〔満たされる
。短時間の耐久性試験によつ°〔決定されたｎの値はこ
のような隙間が存在するかどうかを示すものではないの
で、合理的な試験期間（数日間程度）で実施することが
でき、かつこのような隙間が存在するかどうかがわかる
ような別の試験が必要である。有用な１つの試験方法は
被覆した光ファイバを濃フッ化水。

木酸に浸漬する方法である。被膜に隙間があると光ファ
イバは数秒間で切れる。例えばｇ２図で示した実績ｌ〜
７のフッ化水素酸試験データは破覆しくいないファイバ
ならびに実験８〜９のファイバに比べ゛〔数段改良され
゛〔いることを示し°Ｃいφ。

従つＣ実験１〜７の光ファイバは従来の光ファイバに比
べ°（著しく改良され°Ｃいる。

光ファイバとこのファイバ上や被膜との間の境界な正確
に規定することは困難であるため、実、鹸△ ８の光ファイバの被膜、の厚さは実際には１００まデ・
グー１町１＝−女よりゝも、かなり小さいかもしれない
が、・１００　　　　　　　　　以下と表わしくある。

従つ゛（実験８の炭素被膜の性能が、省−）−（いる理
由の一部は、この被膜が薄いためであると考えられる。

従って冒頭に説明したＧｕｌｆとＷｅｓｔｅｒｎ　によ
る結果と比較し′〔も実ｉｍ８の光ファイバの結果が劣
つ°〔いるということは、気密シールをするのに光ファ
イバに炭素を適用することが、それがＣＶＤ法によつ°
〔適用される場合には特に適切でないことを示し゛〔い
る。

その他の試鹸結釆な検討すると、得られた被膜中の珪素
対炭素の化学量論比はＣＶＤ室中の反応体ガスの珪素対
炭素の比よりもずっと高いことがわかる。例えば実噴４
におい°〔反応体ガス中のＣ：８１の比は約５００　：
　１であるのに対し、得られた被膜中のＣ：　Ｓｉの比
は約３＝１に過ぎない。この結果はシラン（ＳｉＨ４）
反応体分子から珪素原子を引張るのに比べ°〔炭化水素
反応体分子から炭素原子を引張るのが相対的に難しいこ
とを示していると思われる。このようにし°Ｃ得られた
被膜の厚さは、反応体の化学の感受性ヤ関数であること
がわかった。メタンとエタンの反応体をシランと共にＣ
Ｖ［）反応室に供給すると、十分圧厚い被膜が得られな
いことがわかった。、炭化水素鎖が長くなるとシランと
相互作用し′〔光フアイバ上に一層優れた被膜を形成す
ることがわかった。残念ながらブタンより長鎖の炭化水
素は室温で気体ではないので、このような反応体をＣＶ
Ｄ法に使用する場合にはこれを気化させる特別の装置が
必要になる。従つ゛Ｃ低コストの被膜法に使用するには
プロパンとブタンが最も適切であることがわかった。

実験８の結果な他の実験の結果に比べると、珪素原子は
炭素原子よりも容易に蒸着するだけでな（、シラ／が存
在すると炭素の蒸着速度が大きくなることがわかる。従
って５ｉ−Ｃ結合は耐腐食性の被膜の形成に重要なもの
であると思われるだけでなく、珪素はまた蒸着速度を速
める機能な有し〔いる。

第２図のデータは反応体ガス中のＣ：　Ｓｉの比が１５
０　：　１より大きい場合に最も望ましい被膜が得られ
ることを示顕〔いる。反応体ガス中のＣ：Ｓｉの比が５
００：１より大きい場合にはこの比が得られる被膜中の
Ｃ：　Ｓｉの化学量論比に及ぼす影響は、その比が蒸着
速度に及ぼす影響より小さいものになる。

第２図のデータから優れた被膜は少なくとも５０％の炭
素と、２５％以下の酸素ならびに窒素と、少な（とも１
８％の珪素を含有し・〔いることがわかる。光ファイバ
を適切に被覆するためには、この被覆は少なくとも１０
０ｍ幸＃１↓の厚みをもつ必要がある。本発明の被覆材
を光ファイベに施す場合、珪素源と共にプロパンまたは
ブタ／−を用いるのが最適である。第２図に示した試験
ではＳｉ　Ｈ４が用いられ゛〔いるがその他の珪素源、
例えば５ｉＣ１４や１つ以上の水素が有機基によつ°〔
１喚されたその他のシラン類も使用することができる。

同様にこのＣＶＤ法にはＣＣｔ４やアセチレンのような
他の炭素源を使用することもできる。

耐腐食性を向上させるためには５ｉ−Ｃ結合が５ｉ−０
結合や５ｉ−Ｎ結合より重要であるように思われるが、
被膜中にある程度の酸素と窒素が含ま゛れ〔いることは
、被膜□が光ファイバに強く結合し、被膜とファイバが
蒸着温度から室温まで冷却される際に、固有の歪みの大
きさが′／ｊ・さくなるように入壊強度、熱膨張係数な
らびに格子間隔のような物性を一層ぴったり適合させる
のに有用である。

この固有のストレスの減少によって被膜に亀裂が入った
り被膜が破壊される危険が少なくなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光フアイバ用被膜を発生させる炉の概
略図。 ＃！２図は本発明の光フアイバ用被膜の説明図。 第３図は従来の光ファイバの説明図。 １１二光フアイバ １２：反応室 １５．１８　　：入口 １３．１７　　：包囲壁

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 珪素および炭素を含む光フアイバ用被膜。