JPS5817658Y2 - 洗滌脱水装置 - Google Patents

洗滌脱水装置

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JPS5817658Y2
JPS5817658Y2 JP1979042565U JP4256579U JPS5817658Y2 JP S5817658 Y2 JPS5817658 Y2 JP S5817658Y2 JP 1979042565 U JP1979042565 U JP 1979042565U JP 4256579 U JP4256579 U JP 4256579U JP S5817658 Y2 JPS5817658 Y2 JP S5817658Y2
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JP
Japan
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solvent
water
chamber
liquid
halogenated hydrocarbon
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Expired
Application number
JP1979042565U
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English (en)
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JPS55141589U (ja
Inventor
出雲正矩
大本健一郎
Original Assignee
ダイキン工業株式会社
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Publication date
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は表面に付着水を有する固体物品の洗滌装置に関
する。
電子回路に使用されるケイ素ウェハーとか金メツキ製品
、各種光学レンズなどにあっては、その製造工程間、高
度の洗滌迅速な乾燥が要求され、製品そのものも不揮発
性電解質やココイド分などの残存しない高度の乾燥仕上
げが要求せられる。
このような洗滌乾燥目的に合致する洗滌液として水溶性
有機液体と、これを溶解含有する・・ロダン化炭化水素
系溶剤との混合溶液の使用が極めて有用である。
このような洗滌液である混合溶剤を使用する洗滌乾燥は
、該溶剤中に被乾燥物品を浸漬してゆすいだのちに引上
げることによって行われる。
そうすると、物品表面に付着していた水は前記溶剤中に
溶出されて物品表面は脱水できる。
しかし、洗滌室の増加と共に、溶剤中の水の量は増加し
、逐次脱水能力が低下する。
それで現実の洗滌装置においては、この増加する水を絶
えず排除してやらなければならないし、水溶性有機液体
ならびにハロゲン化炭化水素系溶剤を可及的に効率よく
循環再用することが極めて重要な問題点となってくる。
本考案はこのような観点から為されたものであつて、本
考案装置に使用される洗滌液はメタノール、エタノール
、ロープロバノール、イソプロパツール、アセトニトリ
ル、アセトン、ニトロメタンないしはジオキサンなどの
水溶性有機液体を溶解含有している1、1.2 )リク
ロロ1.1゜2トリフルオロエタン(フロン−112と
略記)、1.1.2.2−テトラクロロ−1,2−ジフ
ルオロエタン、トリクロロモノフルオロメタンなどハロ
ゲン化炭化水素の混合溶剤であって、いずれの場合にも
水溶性有機液体の沸点は、・・ロゲン化炭化水素の沸点
よりも高温である。
このような洗滌液たる溶剤を使用する本考案装置は、そ
の実施例たる添付第1図に示した通り、脱水槽を主とし
た本体部■と、除脱器および精留塔を主体とした回収部
■とより成る。
いまこれを、第1図のA−A断面図たる第2図をも参照
しつ〜説明する。
本例に示す本体部Iの主体は、上部の開放された長方体
である有底1aの本体槽1であって、右壁1b、左壁1
cとの間には、高さが低いが底に達する隔壁1f 、I
g 、1hが前壁1d、後壁1e間に達して設けられ、
それによって槽内は蒸発室2、洗滌室3、水分離室4お
よび水分離室の一部である貯留室5の4つに区分せられ
ている。
なお、水分離室4には、図示の通り底1aには達しない
隔壁1i、Ijが、前1d・後1e壁間に差しわたされ
て、下部の連通した3つの室4a。
4b 、4cに不完全に区画せられている。
水分離室(図ではその一部である貯留室)底部からは管
路6asポンプ7、管路6bを経て、洗滌室3に至る溶
剤の循環路が設けられており、また同じ(水分離室から
溢流溶剤を蒸発室2へ移送する管路8が付設されている
蒸発室の底部には溶剤を蒸発気化させるための加熱器9
aが設備されている。
既述した各隔壁は図示の通り何れも槽1の高さの半ば前
後の高さしかないので、上記した4つの室の上側は、槽
壁1b、1c、1dおよび1eによって囲繞された空間
となっているが、該空間の下部を単に空間にと呼びその
上側空間を開放通路tと名付ける。
開放通路tには冷媒の循環する蛇管たる凝縮設備10が
設けられ、凝縮した溶剤は復液設備たる復液管11によ
り洗滌室3または貯留室5を含む水分離室4に返戻され
る。
本体部Iの外部には・・ロゲン化炭化水素除脱器(以下
単に除脱器という)と精留塔とを主体とした回収部■が
設げられていて、本体部の水分離室における水相部に開
口する排水管12は、回収部■の除脱器に結ばれている
該除脱室13aの底部には加熱器9bが、また上部には
槽本体1の連通空間Kに開口するハロゲン化炭化水素返
戻管14aが取りつげられている。
除脱室の排水は管路15aを経て精留塔16に入り、こ
〜で精留により留出する水溶性有機液体は管路18を経
て、本体の空間Kに回収され、釜残は抜取管17から棄
却される。
本考案装置を使用するにはまず洗滌室、水分離室等本体
槽1に洗滌溶剤を入れ、該溶剤を循環させると共に、加
熱器9aを加熱して槽内空間に溶剤蒸気相を形成せしめ
る。
むろんその逸出するのを防止するよう凝縮設備を運転し
、凝縮液はこれを槽1内に復液する。
被洗滌物品を開放通路tを通って洗滌室3内に入れ、そ
こでゆすいで引上げれば、連通空間Kにおける蒸気相を
通過して物品は完全に脱水される。
溶剤は壁1gを溢流して水分離室4内に入って分液、つ
まり比重の高い溶剤は下層に、物品から奪われた水は水
溶液となって上層へと2層に分離する。
隔壁11は、この分離がし易いようにこれら液相を不必
要に動揺させない役割を果す。
上層の水溶液は排水管12を通って後述する除脱器に抜
きとられる。
下層である溶剤は隔壁1hを溢流して貯留室5内に入り
、循環路6a−7−6bを通って洗滌室3へと循環され
る。
溶剤の一部は管路8を通って蒸発室2に導かれて蒸気浴
の形成に使用される。
上の説明から判るように貯留室は溶剤を静止的ならしめ
、既述したその循環を容易ならしめる為のものであるか
ら、水分離室そのものに溶剤を静止的ならしめる部分が
設けられる限り、これを省略することができる。
また蒸発室2も殊更に槽10部分として設けず、洗滌室
下部に加熱器9aを設け、該室に蒸発室を兼ねしめうる
排水管12から抜き取られて精留に付さるべき水を多量
に溶解した有機液体中には、少量のハロゲン化炭化水素
が含有されている。
この炭化水素は冒頭に述べたように本考案に使用する水
溶性有機液体の沸点よりも、その沸点が低いので、排水
管から抜き取った排水を直接精留にかけると突沸現象を
起して正常な精留が行われ難い。
これが為予め該排水中の・・ロゲン化炭化水素を除脱す
る為に設けられているのが除脱器13aであって、ここ
で第1図の例によれば、加熱器9bの加熱により、・・
ロゲン化炭化水素が除脱され回収管路14aを経て本体
槽へ返戻回収されるのである。
除脱後の排水が、管路15aを経て精留塔16で精留さ
れ、該排水中の有機液体が本体槽へ管路18を通って戻
されることは既記の通りである。
この精留は通常の精留操作と異らないから、リフラック
ス管等は省略して示しておいた。
このように本考案装置の著しい特徴点は除脱器の存在で
ある。
しかし、むろん第1図の加熱による・・ロゲン化炭化水
素の除脱に限らず、第3図に示したような比重差を利用
した除脱器13bも有効である。
この除脱器13bでは管路12から入って来る排水は該
除脱器内で静置分液され、下層である・・ロゲン化炭化
水素は液状のまS管路14bを通って本体槽1へ戻され
、上層たる水層は管路15bを通って精留塔へ導かれる
その他の点は第1図の場合に異らない。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本考案装置の一例を示すもので、第1図はそ
の模式的な縦断面図、第2図は第1図AA断面図、第3
図は第1図に示した除脱室とは別懇様の除脱室の模式的
な縦断面図である。 ■・・・・・・本体部、■・・・・・・回収部、1・・
・・・・本体槽、2・・・・・・蒸発室、3・・・・・
・洗滌室、4・・・・・・水分離室、5・・・・・・貯
留室、6・・・・・・循環路、7・・・・・・ポンプ、
8・・・・・・管路、9a、9b・・・・・・加熱器、
10・・・・・・凝縮設備、11・・・・・・復液設備
、12・・・・・・排水管、13a。 13b・・・・・・ハロゲン化炭化水素除脱室、14a
。 14b・・・・・・・・ロゲン化炭化水素返戻管、15
a。 15b・・・・・・管路、16・・・・・・精留塔、1
7・・・・・・抜取管。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1)水溶性有機液体を溶解含有するハロゲン化炭化水素
    系溶剤を収容し、表面に付着水を有する物品を前記溶剤
    中に浸漬して、その付着水を除去する洗滌室3、洗滌室
    で除去された水を、層分離によって溶剤から分離する水
    分離室4、該水分離室中に一端を開口した排水管12、
    水分離室4から洗滌室3へ溶剤を循環させる溶剤循環路
    6a−7−6b、洗滌室および水分離室における両液面
    に連通し、かつ両液面外周上で槽壁1によって囲繞され
    た空間に1この空間を大気に開放する開放通路t1該開
    放通路に装した溶剤蒸気の凝縮設備10、こ〜に凝縮し
    た溶剤を洗滌室3または貯留室5を含む水分離室4に返
    戻する復液設備11とを備えた本体部と、ハロゲン化炭
    化水素除脱器および精留塔を主体とした回収部とから成
    り、本体部の前記排水管の他端は、ハロゲン化炭化水素
    除脱器13a 、13bを介して精留塔に結合されてい
    て、ハロゲン化炭化水素除脱後の排水が精留に付され、
    こ〜に留出された水溶性有機液体と、除脱して得られた
    ・・ロゲン化炭化水素は共に、本体部に返還されるよう
    にして成る洗滌脱水装置。 2)ハロゲン化炭化水素除脱器は加熱器とハロゲン化炭
    化水素返戻管14aとを備え、溶剤蒸気を、前記空間K
    または脱水槽1などの液中に開口した実用新案登録請求
    の範囲1)記載の装置。 3)・・ロゲン化炭化水素除脱器に溶剤返戻管14bを
    開口し、溶剤返戻管14bの他端を前記空間Kまたは脱
    水槽1などの液中に開口した実用新案請求の範囲1)の
    装置。
JP1979042565U 1979-03-31 1979-03-31 洗滌脱水装置 Expired JPS5817658Y2 (ja)

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JPS55141589U JPS55141589U (ja) 1980-10-09
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