JPS58171567A - スパツタリング装置の電力分配器 - Google Patents
スパツタリング装置の電力分配器Info
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- JPS58171567A JPS58171567A JP5256182A JP5256182A JPS58171567A JP S58171567 A JPS58171567 A JP S58171567A JP 5256182 A JP5256182 A JP 5256182A JP 5256182 A JP5256182 A JP 5256182A JP S58171567 A JPS58171567 A JP S58171567A
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- JP
- Japan
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- sputtering
- frequency
- sources
- electric power
- power
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は複数のスパッタリングソースを配設シたスパッ
タリング装置に係り、特に、これらのスパッタリングソ
ースを選択して高周波電力を分配するスパッタリング装
置の電力分配器に関する。
タリング装置に係り、特に、これらのスパッタリングソ
ースを選択して高周波電力を分配するスパッタリング装
置の電力分配器に関する。
一般にスパッタリング装置は、真空容器内に、高周波電
極そのもの、まえは、高周波電極の表面にターゲットを
取付けてなるスパッタリングソースと、これに対向する
アース電極としての真空容器と１表面に薄膜を生成させ
ようとする被処理材と、この被処理材を保持する治具と
を装着し、真空容器内を適切な真空度に保ち、且つ、真
空容器外に設けられた電源装置９高−周波電圧を前記真
空容器および高周波電極間に印加することにより高密度
のプラズマを発生せしめて高周波電極そのものまたはタ
ーゲットに対してスパッタリングを起こさせ、これＫよ
って被処理材の表面に薄膜を生成させるものである。
極そのもの、まえは、高周波電極の表面にターゲットを
取付けてなるスパッタリングソースと、これに対向する
アース電極としての真空容器と１表面に薄膜を生成させ
ようとする被処理材と、この被処理材を保持する治具と
を装着し、真空容器内を適切な真空度に保ち、且つ、真
空容器外に設けられた電源装置９高−周波電圧を前記真
空容器および高周波電極間に印加することにより高密度
のプラズマを発生せしめて高周波電極そのものまたはタ
ーゲットに対してスパッタリングを起こさせ、これＫよ
って被処理材の表面に薄膜を生成させるものである。
ここで、スパッタリングソースとしては、主Ｋ、円筒状
に形成されたもの、または、平板状に形成されたものが
用いられる。
に形成されたもの、または、平板状に形成されたものが
用いられる。
一方、被処理材を保持する治具としては、スパッタリン
グソースの形状および生産性を考慮して、ドーム形のホ
ルダ、回転テーブル等の適切なものが用いられるが、特
に、回転テーブルを用いるとともＫ、そのテーブル面に
沿う同一円周上に複数のスパッタリングソースを配設す
ることＫよりて被処理材の連続且つ自動処理が可能にな
る。
グソースの形状および生産性を考慮して、ドーム形のホ
ルダ、回転テーブル等の適切なものが用いられるが、特
に、回転テーブルを用いるとともＫ、そのテーブル面に
沿う同一円周上に複数のスパッタリングソースを配設す
ることＫよりて被処理材の連続且つ自動処理が可能にな
る。
この場合、ターゲットの材質２５（異る複数のスパッタ
リングソースを配設し、この中、１個または複数個を選
択して高周波電力を供給すれば１選択状９に応じた種々
の材質の薄膜を被処理材の表面に生成させ得、さらＫ、
全く同じ条件で多層膜を生成する。ｎる、同時合金スパ
ッタリングも可能になる。
リングソースを配設し、この中、１個または複数個を選
択して高周波電力を供給すれば１選択状９に応じた種々
の材質の薄膜を被処理材の表面に生成させ得、さらＫ、
全く同じ条件で多層膜を生成する。ｎる、同時合金スパ
ッタリングも可能になる。
なお、複数のスパッタリングソースを選択して高周波電
力を供給するＫは、それぞれ別個の電源装置を用いても
よいが、より簡便な方法として、７台の電源装置の出力
回路を種々の組合わせで切替接続する電力分配器が用い
られる。
力を供給するＫは、それぞれ別個の電源装置を用いても
よいが、より簡便な方法として、７台の電源装置の出力
回路を種々の組合わせで切替接続する電力分配器が用い
られる。
第１図は従来の電力分配器の構成をスパッタリング装蓋
本体と併せて示した図で、先ず、高周波電源装置ＩＱと
、マツチング用可変キャパシターへマツチング用可変イ
ンダクタｎおよび直流カット用コンデンサｎを有してな
るマツチングボックスＪとが同軸ケーブル／／によって
接続され、このマツチングボックスＸの上部には、スパ
ッタリングソース３１．３コおよび３３を同一円周上に
配設したペースプレート３０が設けられ、さらに、この
ベースプレート３０に真空容器侵が被せられることにな
る。
本体と併せて示した図で、先ず、高周波電源装置ＩＱと
、マツチング用可変キャパシターへマツチング用可変イ
ンダクタｎおよび直流カット用コンデンサｎを有してな
るマツチングボックスＪとが同軸ケーブル／／によって
接続され、このマツチングボックスＸの上部には、スパ
ッタリングソース３１．３コおよび３３を同一円周上に
配設したペースプレート３０が設けられ、さらに、この
ベースプレート３０に真空容器侵が被せられることにな
る。
ここで、電力分配器はマツチングボックス〃を構成する
筐体の側面Ｋ、高周波特性および絶縁性に優れ九スイッ
チボックスＶを取付け、スパッタリングソース３１，３
コおよび３３の端子３１＊、３コ１およびＪＪａと、ス
イッチボックス３０の出力端子Ｓコ、ｊ３および評とを
、それぞれ帯状導体コ、為およびコクによって接続し、
また、マツチングボックス内の直流カット用のコンデン
サの一端（以下高周波電極とも言う）を帯状導体ＪＶｃ
よって接続し、さらに高周波電源装置ＩＱのアース側を
、マツチングボックス、の筐体を介して、スイッチボッ
クス３ｏの筐体すなわちシールドケースに接続している
。
筐体の側面Ｋ、高周波特性および絶縁性に優れ九スイッ
チボックスＶを取付け、スパッタリングソース３１，３
コおよび３３の端子３１＊、３コ１およびＪＪａと、ス
イッチボックス３０の出力端子Ｓコ、ｊ３および評とを
、それぞれ帯状導体コ、為およびコクによって接続し、
また、マツチングボックス内の直流カット用のコンデン
サの一端（以下高周波電極とも言う）を帯状導体ＪＶｃ
よって接続し、さらに高周波電源装置ＩＱのアース側を
、マツチングボックス、の筐体を介して、スイッチボッ
クス３ｏの筐体すなわちシールドケースに接続している
。
しかして、スイッチボックス３ｏの切換ツマＺｊ／を操
作してスパッタリングソースの選択と高周波電力の分配
を行っていた。
作してスパッタリングソースの選択と高周波電力の分配
を行っていた。
斯かる従来の電力分配器にあつては、帯状導体コ、コロ
およびコアの長さがそれぞれ異るため、高周波電力を均
等に分配できないばかりか、切換操作するととにマツチ
ングを取り直さなければならないという欠点があった。
およびコアの長さがそれぞれ異るため、高周波電力を均
等に分配できないばかりか、切換操作するととにマツチ
ングを取り直さなければならないという欠点があった。
また帯状導体評〜コアがマツチングボックス〃内に引き
−わされることからマツチングボックスＪが大型になり
、構造も複数になるという欠点があった・ 〔発明の目的〕 本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、選択された
複数のスパッタリングソースに均等に高周波電力を分配
し得るとともに、切替操作する毎にマツチングを取り直
すという不都合を解消し、且つ、マツチングボックスの
小形化および単純化を実現し得るスパッタリング装置の
電力分配器の提供を目的とする。
−わされることからマツチングボックスＪが大型になり
、構造も複数になるという欠点があった・ 〔発明の目的〕 本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、選択された
複数のスパッタリングソースに均等に高周波電力を分配
し得るとともに、切替操作する毎にマツチングを取り直
すという不都合を解消し、且つ、マツチングボックスの
小形化および単純化を実現し得るスパッタリング装置の
電力分配器の提供を目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のスパッタリング装
置の電力分配器は、一端部が複数のスパッタリングソー
スのそれぞれに対して略等距離の位置に固定され、他端
部がマツチング回路の出力端に接続される共通導線と、
前記スパッタリングソースに対応して設けられるととも
に略等しい長さを有し、それぞれの一端が前記共通導線
の一端部に接続される分岐導線と、繭記スノくツタリン
グソースに対応して設けられ、前記分岐導線の他端部を
支持し、且つ、この分岐導線の他端部を直接若シくは電
極片を介してそれぞれ対応する前記スパッタリングソー
スの高周波電極に接触せしめる直動スイッチとを具備す
る構成を採る。
置の電力分配器は、一端部が複数のスパッタリングソー
スのそれぞれに対して略等距離の位置に固定され、他端
部がマツチング回路の出力端に接続される共通導線と、
前記スパッタリングソースに対応して設けられるととも
に略等しい長さを有し、それぞれの一端が前記共通導線
の一端部に接続される分岐導線と、繭記スノくツタリン
グソースに対応して設けられ、前記分岐導線の他端部を
支持し、且つ、この分岐導線の他端部を直接若シくは電
極片を介してそれぞれ対応する前記スパッタリングソー
スの高周波電極に接触せしめる直動スイッチとを具備す
る構成を採る。
以下、添付図面を参照して本発明の一実施例について説
明する。
明する。
第２図は本発明に係るスパッタリング装置の電力分配器
の構成を示す斜視図で、スパッタリングソース３／、３
コおよび３３は同一円周上に互いに等間隔を持って配置
され、これらのスパッタリングソースに対して等距離に
ある軸心上には、一端がマツチングボックス語の筐体に
固定されてなる支持棒６１が設けられている。
の構成を示す斜視図で、スパッタリングソース３／、３
コおよび３３は同一円周上に互いに等間隔を持って配置
され、これらのスパッタリングソースに対して等距離に
ある軸心上には、一端がマツチングボックス語の筐体に
固定されてなる支持棒６１が設けられている。
また、支持棒６１の他端には、互いに等しい角度を持っ
てスパッタリングソースの下底面にアーム６Ｊが延出す
る支持板６コが固定され、さらに、この支持板６コの細
心部に碍子４４１が取付けられている。
てスパッタリングソースの下底面にアーム６Ｊが延出す
る支持板６コが固定され、さらに、この支持板６コの細
心部に碍子４４１が取付けられている。
このアーム６３の末端部にはそれぞれ支持棒６／の軸と
略平行に可動部が往復し得るエアシリンダ６ｊが装着さ
れ、この可動部には絶縁体６６と電極片６りとが順に締
付け、固定されている。
略平行に可動部が往復し得るエアシリンダ６ｊが装着さ
れ、この可動部には絶縁体６６と電極片６りとが順に締
付け、固定されている。
一方、マツチングボックス〃の高周波電極に一端が接続
された帯状導体評の他端が碍子６１Ｉによって支持せら
れ、さらに、この帯状導体評には略等しい長さを有する
帯状導体＃ 、 ：ｌＡおよびコロの一端が接続され、
これらの帯状導体コ、ムおよび２７の他端はそれぞれエ
アシリンダ６Ｓの可動部に固定された電極片６７に接続
されている。
された帯状導体評の他端が碍子６１Ｉによって支持せら
れ、さらに、この帯状導体評には略等しい長さを有する
帯状導体＃ 、 ：ｌＡおよびコロの一端が接続され、
これらの帯状導体コ、ムおよび２７の他端はそれぞれエ
アシリンダ６Ｓの可動部に固定された電極片６７に接続
されている。
なお、高周波電源装置／θのアース側はマツチングボッ
クスｍの筐体を通じてベースプレート３０および真空容
器グθに接続されている。
クスｍの筐体を通じてベースプレート３０および真空容
器グθに接続されている。
第一図において、３個のエアシリンダ６！ｒは、電磁弁
を介してそれぞれ単独に動作させ得るもので、駆動すべ
きスパッタリングソースに対応する電磁弁に通電すると
、その可動部に固定された電極片６７がスパッタリング
ソースの端子、？／ａ、ｊコａ、３Ｊ＆に接触する。こ
の場合、帯状導体コ、ムおよびコアけ略等しい長さのも
のが用いられているために。
を介してそれぞれ単独に動作させ得るもので、駆動すべ
きスパッタリングソースに対応する電磁弁に通電すると
、その可動部に固定された電極片６７がスパッタリング
ソースの端子、？／ａ、ｊコａ、３Ｊ＆に接触する。こ
の場合、帯状導体コ、ムおよびコアけ略等しい長さのも
のが用いられているために。
どれか１個のスパッタリングソースが選択され九として
も、あるいは、組合わせの異る２個のスパッタリングソ
ースが選択されたとしても、全く等しい条件で高周波電
力が供給される。ただし、スパッタリングソースの選択
数が異る場合には、当然インピーダンスが異るためＫ、
マツチングを取り直す必要があるが、高周波電力の出力
調整と合わせて一義的に決定されるので極く単純な操作
で済むことになる。
も、あるいは、組合わせの異る２個のスパッタリングソ
ースが選択されたとしても、全く等しい条件で高周波電
力が供給される。ただし、スパッタリングソースの選択
数が異る場合には、当然インピーダンスが異るためＫ、
マツチングを取り直す必要があるが、高周波電力の出力
調整と合わせて一義的に決定されるので極く単純な操作
で済むことになる。
かくして、どのスパッタリングソースが選択されたとし
ても高周波電力は均等に分配されることは明らかである
。
ても高周波電力は均等に分配されることは明らかである
。
また、マツチングボックス内に帯状導体が往復配線され
ることもなくなり、その構成が著しく簡易化される。
ることもなくなり、その構成が著しく簡易化される。
なお、この実施例では、スパッタリングソース３１．３
コおよび３３を同一円周上に配置すると同時に、これら
のスパッタリングソースの中心軸上に支持棒６１を設け
、且つ、長さおよび位置関係が互いに等しいアーム６３
を有する支持板６２を設けているがスパッタリングソー
スは必ずしも同一円周上に配設しなくとも、これらのス
パッタリングソースに対して略婢距離の位置で帯状導体
Ｊの端部を保持するだけでよく、帯状導体コ、為および
コアも略等しい長さを有するものであれば実用１殆んど
支障なく高周波電力を均岬に分配することができた。
コおよび３３を同一円周上に配置すると同時に、これら
のスパッタリングソースの中心軸上に支持棒６１を設け
、且つ、長さおよび位置関係が互いに等しいアーム６３
を有する支持板６２を設けているがスパッタリングソー
スは必ずしも同一円周上に配設しなくとも、これらのス
パッタリングソースに対して略婢距離の位置で帯状導体
Ｊの端部を保持するだけでよく、帯状導体コ、為および
コアも略等しい長さを有するものであれば実用１殆んど
支障なく高周波電力を均岬に分配することができた。
なおまた、上記実施例では、帯状導体：ｌ！ｒ 、 ２
４ 。
４ 。
２７とスパッタリングソースの端子３／ ａ 、３２ｈ
、 ３Ｊａとを接続するスイッチとしてエアシリンダ
を用いたが、これに限らず１例えば、ソレノイド、クラ
ンク、カム等によってスイッチを形成する、謂る直動ス
イッチを用いることも勿論可能である。 ゛さらＫ、
上記実施例では３個のスパッタリングソースを選択する
場合を説明したが、３個に限らずこれ以上のスパッタリ
ングソースを選択する場合でも、これと同様な作用を行
なわせることかできる。
、 ３Ｊａとを接続するスイッチとしてエアシリンダ
を用いたが、これに限らず１例えば、ソレノイド、クラ
ンク、カム等によってスイッチを形成する、謂る直動ス
イッチを用いることも勿論可能である。 ゛さらＫ、
上記実施例では３個のスパッタリングソースを選択する
場合を説明したが、３個に限らずこれ以上のスパッタリ
ングソースを選択する場合でも、これと同様な作用を行
なわせることかできる。
なお、この電力分配器はスパッタリング装置に限らず、
スパッタリングソースの代わシに高周波電極のみを具え
るスパッタエツチング装置にも応用することができる。
スパッタリングソースの代わシに高周波電極のみを具え
るスパッタエツチング装置にも応用することができる。
以上の説明によって明らかな如く、本発明のスパッタリ
ング装置の電力分配器によれば１選択されたスパッタリ
ングソースに対して高周波電力を均等に分配し得るとと
もに、選択切替えする度Ｋ。
ング装置の電力分配器によれば１選択されたスパッタリ
ングソースに対して高周波電力を均等に分配し得るとと
もに、選択切替えする度Ｋ。
マツチングを取り直すという従来装置の不都合を解消し
得、さらＫ、マツチングボックスをも含め九電源装置の
小形化および簡易化を図シ得る。
得、さらＫ、マツチングボックスをも含め九電源装置の
小形化および簡易化を図シ得る。
また、従来装置にあっては市販の、スイッチボックスを
使用するため、最大電力に制限を受けたが。
使用するため、最大電力に制限を受けたが。
工、１
本発明にあっては直動スイッチの接点容量を任意に変え
得るので、大電力の供給も可能となる。
得るので、大電力の供給も可能となる。
第７図は従来のスパッタリング装置の電力分配器の構成
を示す斜視図、第２図は本発明に係るスパッタリング装
置の電力分配器の一実施例の構成を示す斜視図である。 ＩＯ・・・高周波電源装置、〃・・・マツチングボック
ス。 コダ、コ、コロ、２り・・・帯状導体、３θ・・・ペー
スプレート。 ３１．３コ、 ３３−・・スパッタリングソース、Ｊ／
ａ、Ｊコミ。 、？、？ａ・・・高周波電極、す・・・真空容器、 Ｓ
Ｏ・・・スイッチボックス、４／・・・支持板、６３・
・・アーム、 ４１Ｉ・・・碍子、訂・・・エアシリン
ダ、４ト・・絶縁体、６７・・・電極片。 出願人代理人 猪 股 清手続補正書 １．事件の表示 昭和５７年特許願第５２５６１号 ２、発明の名称 スパッタリング装置の電力分配器 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 説明」の欄、ならびに図面。 ８、補正の内容
を示す斜視図、第２図は本発明に係るスパッタリング装
置の電力分配器の一実施例の構成を示す斜視図である。 ＩＯ・・・高周波電源装置、〃・・・マツチングボック
ス。 コダ、コ、コロ、２り・・・帯状導体、３θ・・・ペー
スプレート。 ３１．３コ、 ３３−・・スパッタリングソース、Ｊ／
ａ、Ｊコミ。 、？、？ａ・・・高周波電極、す・・・真空容器、 Ｓ
Ｏ・・・スイッチボックス、４／・・・支持板、６３・
・・アーム、 ４１Ｉ・・・碍子、訂・・・エアシリン
ダ、４ト・・絶縁体、６７・・・電極片。 出願人代理人 猪 股 清手続補正書 １．事件の表示 昭和５７年特許願第５２５６１号 ２、発明の名称 スパッタリング装置の電力分配器 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 説明」の欄、ならびに図面。 ８、補正の内容
Claims (2)
- （１）真空容器と、高周波電極を有し、前記真空容器に
対向する複数のスパッタリングソースと、的体真空容器
および高周波電極間に高周波電圧を印加する電源装置と
を具えるスパッタリング装置に適用され、前記スパッタ
リングソースを選択するとともに、選択された前記スパ
ッタリングソースの高周波電極に高周波電力を分配する
スパッタリング装置の電力分配器において、一端部が前
記スパッタリングソースのそれぞれに対して略等距離の
位置に固定され、他端部が前記電源装置の高周波電極に
接続される共通導線と、前記スパッタリングソースに対
応して設けられるとともに略等しい長さを有し、それぞ
れの一端部が前記共通導線の一端部に接続される分岐導
線と、１１１配スパツタリングソースに対応して設けら
れ、前記分岐導線の他端部を支持し、且つ、この分岐導
線の他端部を直接巻しくけ電極片を介してそれぞれ対応
する前記スパッタリングソースの高周波電極に接触せし
める直動スイッチとを具備したことを特徴とするスパッ
タリング装置の電力分配器。 - （２）前記直動スイッチとしてエアシリンダを用いたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のスパッタリ
ング装置の電力分配器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5256182A JPS58171567A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | スパツタリング装置の電力分配器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5256182A JPS58171567A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | スパツタリング装置の電力分配器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171567A true JPS58171567A (ja) | 1983-10-08 |
| JPS6136585B2 JPS6136585B2 (ja) | 1986-08-19 |
Family
ID=12918215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5256182A Granted JPS58171567A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | スパツタリング装置の電力分配器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58171567A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8365993B2 (en) | 2006-11-30 | 2013-02-05 | Teraoka Seiko Co., Ltd. | Self scanning system |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP5256182A patent/JPS58171567A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8365993B2 (en) | 2006-11-30 | 2013-02-05 | Teraoka Seiko Co., Ltd. | Self scanning system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6136585B2 (ja) | 1986-08-19 |
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