JPS58171256A - 両面ポリシング装置 - Google Patents
両面ポリシング装置Info
- Publication number
- JPS58171256A JPS58171256A JP57054036A JP5403682A JPS58171256A JP S58171256 A JPS58171256 A JP S58171256A JP 57054036 A JP57054036 A JP 57054036A JP 5403682 A JP5403682 A JP 5403682A JP S58171256 A JPS58171256 A JP S58171256A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface plate
- fluid suction
- wafer
- polishing
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
- B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
両面ポリシング装置に係り、特に加工後に上下の定盤を
離間させたとき、ウエノ・ガどの被加工物（以下ウェハ
として説明する）を下定盤側へ位置させるようにした両
面ポリシング装置に関するものである。
離間させたとき、ウエノ・ガどの被加工物（以下ウェハ
として説明する）を下定盤側へ位置させるようにした両
面ポリシング装置に関するものである。
両面ポリシング装置は、ウェハを上下一対の定盤間に置
かれたキャリアのウエハ装着穴内に比較的緩い保合関係
で嵌入し、上下の定盤の対向面に装着した研摩布で挟圧
してポリシング加工を行なうようになっているため、加
工後に十１の定盤を離間させると、約５０％の数のウェ
ハが上定盤側に付着してしまう。上定盤側に付着したウ
ェハは剥がしに＜く、特にウェハのアンローティングを
自動化することが困難である。
かれたキャリアのウエハ装着穴内に比較的緩い保合関係
で嵌入し、上下の定盤の対向面に装着した研摩布で挟圧
してポリシング加工を行なうようになっているため、加
工後に十１の定盤を離間させると、約５０％の数のウェ
ハが上定盤側に付着してしまう。上定盤側に付着したウ
ェハは剥がしに＜く、特にウェハのアンローティングを
自動化することが困難である。
本発明は、前述した点に鑑みなされたもので、定盤を離
間させるとき、下定盤に設けた流体吸引口から空気を吸
引してウェハを下定盤側に吸着させることにより、該ウ
ェハを上定盤の研摩布から離し下定盤の研摩布上に確実
に残し得るようにした両面ポリシング装置を提供するに
ある。
間させるとき、下定盤に設けた流体吸引口から空気を吸
引してウェハを下定盤側に吸着させることにより、該ウ
ェハを上定盤の研摩布から離し下定盤の研摩布上に確実
に残し得るようにした両面ポリシング装置を提供するに
ある。
以下本発明の一実施例を示す図について説明する。１０
は下定盤で、その上面に研摩布１１が装着されている。
は下定盤で、その上面に研摩布１１が装着されている。
１２は上定盤で、下定盤ＩＯに対向して設けられ、下面
に研摩布１３が装着されている。上定盤１２はブラケッ
ト１４に固着されており、ブラケットＩ４はベアリング
１５を介して上軸１６に回転可能に取付けられている。
に研摩布１３が装着されている。上定盤１２はブラケッ
ト１４に固着されており、ブラケットＩ４はベアリング
１５を介して上軸１６に回転可能に取付けられている。
上軸１６は回転を阻止され、図示しない抑圧手段により
上定盤１２を下定盤１０に向けて押圧すると共に上方へ
移動して上定盤１２を下定盤１０から離間させ得るよう
に々っている。
上定盤１２を下定盤１０に向けて押圧すると共に上方へ
移動して上定盤１２を下定盤１０から離間させ得るよう
に々っている。
前記上定盤１０は表面部１０ａと基部１０ｂとから形成
されており、基部ｆｏｂは第１中空軸１７に取付けられ
ている。第１中空軸１７内には第２中空軸１８が回転可
能に設けられ、その上端に太陽歯車１９が設けられてい
る。第２中空軸１８内には下軸２０が回転可能に設けら
れ、その上端にスプライン軸２１が取付けられている。
されており、基部ｆｏｂは第１中空軸１７に取付けられ
ている。第１中空軸１７内には第２中空軸１８が回転可
能に設けられ、その上端に太陽歯車１９が設けられてい
る。第２中空軸１８内には下軸２０が回転可能に設けら
れ、その上端にスプライン軸２１が取付けられている。
このスプライン軸２；は、前記ブラケット１４の中心に
設けたスプライン穴２２に係合するようになっている。
設けたスプライン穴２２に係合するようになっている。
下定盤１０の周囲には、これを囲むようにインターナル
歯車２３が設けられている。インターナル歯車２３は、
前記第１中空軸１７と同心的に回転可能に取付けられた
支持部材２４に取付けられている。
歯車２３が設けられている。インターナル歯車２３は、
前記第１中空軸１７と同心的に回転可能に取付けられた
支持部材２４に取付けられている。
前記第１．第２中空軸１７．１８、下軸２０ならびに支
持部材２４は、図示しない駆動機構によねそれぞれ回転
を付与され、１定盤１０、上定盤１２、太陽歯車１９な
らびにインターナル歯車２３を互いに適宜な速度で回転
させ得るようになっている。
持部材２４は、図示しない駆動機構によねそれぞれ回転
を付与され、１定盤１０、上定盤１２、太陽歯車１９な
らびにインターナル歯車２３を互いに適宜な速度で回転
させ得るようになっている。
上下の両定盤ｔｏ 、 ＋２には研磨剤供給口２５ 、
２６がそれぞれ適宜な間隔を置いて設けられている。
２６がそれぞれ適宜な間隔を置いて設けられている。
上定盤１２の研磨剤供給口２６は、分配管２７を介して
研摩側受２８に接続されている。研摩側受２８は研摩側
供給装置２９から研摩剤の供給を受けるようになってい
る。他方、下定盤１０の研磨剤供給口２５は、下足盤１
０および第１中空軸１７に設けだ流路３０と、複列のロ
ータリージヨイント３（の一方を介して研摩側供給装置
２９に接続されている。
研摩側受２８に接続されている。研摩側受２８は研摩側
供給装置２９から研摩剤の供給を受けるようになってい
る。他方、下定盤１０の研磨剤供給口２５は、下足盤１
０および第１中空軸１７に設けだ流路３０と、複列のロ
ータリージヨイント３（の一方を介して研摩側供給装置
２９に接続されている。
上下の研摩布ＩＩ、１３間には、キアリア３２が置かれ
ている。キャリア３２け外周に設けた歯３３が太陽歯車
１９とインターナル歯車２３にかみ合ってこれらの歯車
の回転により自転および公転するようになっており、内
部にウェハ３４を受入れるウェハ装着穴３５が複数個設
けられている。
ている。キャリア３２け外周に設けた歯３３が太陽歯車
１９とインターナル歯車２３にかみ合ってこれらの歯車
の回転により自転および公転するようになっており、内
部にウェハ３４を受入れるウェハ装着穴３５が複数個設
けられている。
前述した下定盤１０の表面部１０ａと基部１０ｂの間に
は空所３６が形成されている。この空所３６は、置局方
向に比較的小さな間隔を置いて多数配列されており、か
つそれぞれは互いに連通されている。
は空所３６が形成されている。この空所３６は、置局方
向に比較的小さな間隔を置いて多数配列されており、か
つそれぞれは互いに連通されている。
それぞれの空所３６には下定盤ＩＯの上面に開口する複
数の流体吸引口３７が設けられている。前記空所３６の
少なくとも１つは、下定盤１ｏと第１中空軸１７３− に設けた流路３８と前記複列のロータリージヨイント３
１の他方を介して真空装置などの流体吸引手段３９に接
続されている。
数の流体吸引口３７が設けられている。前記空所３６の
少なくとも１つは、下定盤１ｏと第１中空軸１７３− に設けた流路３８と前記複列のロータリージヨイント３
１の他方を介して真空装置などの流体吸引手段３９に接
続されている。
次いで本装置の作用について説明する。まず、上軸１６
を上昇させて上定盤１２を下足盤１０から離間次いで、
上軸１８を下降させ、上定盤１２をその研摩布１３を介
して前１ｒウエハ３４上に密着させると共に、図示しな
（へ押圧手段により上定盤１２を下方へ押圧し、ウェハ
３４を研摩布１１と１３で挾圧し、研磨剤供給口２５
、２６から研摩剤を供給しつつ下軸２０と第１中空軸１
７を所定速度で回転させて上下の定盤１２゜１０を回転
させると共に、第２中空軸１８と支持部材２４を所定速
度で回転させて太陽歯車１９とインターナル歯車２３を
回転させ、キャリア３２を自転および公転させてポリシ
ング加工を行なう。
を上昇させて上定盤１２を下足盤１０から離間次いで、
上軸１８を下降させ、上定盤１２をその研摩布１３を介
して前１ｒウエハ３４上に密着させると共に、図示しな
（へ押圧手段により上定盤１２を下方へ押圧し、ウェハ
３４を研摩布１１と１３で挾圧し、研磨剤供給口２５
、２６から研摩剤を供給しつつ下軸２０と第１中空軸１
７を所定速度で回転させて上下の定盤１２゜１０を回転
させると共に、第２中空軸１８と支持部材２４を所定速
度で回転させて太陽歯車１９とインターナル歯車２３を
回転させ、キャリア３２を自転および公転させてポリシ
ング加工を行なう。
こうしてポリシング加工が終了したならば、上下の定盤
ＩＱ、＋２．太陽歯車１９およびインターナル歯車２３
を停止させ、次いで流体吸引手段３９を作動４− させ、ロータリージヨイント３１ 、流路３８．空所３
６を介して流体吸引口３７を減圧状態にしつつ上軸１８
を介して下定盤１２を上昇させる。このとき、キャリア
３２およびウェハ３４が任意の位置にあると、前記多数
の流体吸引口３７のうちの一部はキャリア３２およびウ
ェハ３４の下面から外れてしまい、これらのキャリア３
２およびウェハ３４の下面から外れた流体吸引口３７に
は比較的容易に空気が流入りようとするため、空所３６
内を十分減圧することができないように見えるが、実際
にはウェハ３４が非常に薄いため、研摩布１１と１３間
のすき間は小さく、前記の外れた流体吸引口３７からの
空気の流入も制限されるので、空所３６内は減圧状態に
置かれ、この減圧による吸引力にてウェハ３４を下方の
研摩布１１側へ吸着する。そこで、上定盤１２の上昇に
より研摩布１１と１３の間隔が広がっていくとき、ウェ
ハ３４は１方の研摩布１１上に残される。
ＩＱ、＋２．太陽歯車１９およびインターナル歯車２３
を停止させ、次いで流体吸引手段３９を作動４− させ、ロータリージヨイント３１ 、流路３８．空所３
６を介して流体吸引口３７を減圧状態にしつつ上軸１８
を介して下定盤１２を上昇させる。このとき、キャリア
３２およびウェハ３４が任意の位置にあると、前記多数
の流体吸引口３７のうちの一部はキャリア３２およびウ
ェハ３４の下面から外れてしまい、これらのキャリア３
２およびウェハ３４の下面から外れた流体吸引口３７に
は比較的容易に空気が流入りようとするため、空所３６
内を十分減圧することができないように見えるが、実際
にはウェハ３４が非常に薄いため、研摩布１１と１３間
のすき間は小さく、前記の外れた流体吸引口３７からの
空気の流入も制限されるので、空所３６内は減圧状態に
置かれ、この減圧による吸引力にてウェハ３４を下方の
研摩布１１側へ吸着する。そこで、上定盤１２の上昇に
より研摩布１１と１３の間隔が広がっていくとき、ウェ
ハ３４は１方の研摩布１１上に残される。
なお、下定盤ＩＯに対するキャリア３２の停止角度位置
が所定の関係となるように定め、このキャリア３２の位
置に対応させて流体吸引口３７を配置すれは、ウェハ３
４の厚さに関係なく空所３６をより確実に減圧すること
が可能である。
が所定の関係となるように定め、このキャリア３２の位
置に対応させて流体吸引口３７を配置すれは、ウェハ３
４の厚さに関係なく空所３６をより確実に減圧すること
が可能である。
前述した実施例は、研摩布ＩＩ、１３が通気性および通
水性を有するため、研摩側供給口２５．２６および流体
吸引口３７を定盤ｔｏ、 １２のみに設けた例を示した
が、これらが研摩布Ｉ＋、１３を貫通するようにしても
よく、さらにまだ流体吸引口３７から研摩剤の流入を防
止するため、ポリシンク加工中は空所３６を若］加圧状
態に置くようにしたり、さらにまた流体吸引口３７と流
体吸引手段の間に気液分離装置を介在させるなど、種々
変更し得ることは言うまでもない。
水性を有するため、研摩側供給口２５．２６および流体
吸引口３７を定盤ｔｏ、 １２のみに設けた例を示した
が、これらが研摩布Ｉ＋、１３を貫通するようにしても
よく、さらにまだ流体吸引口３７から研摩剤の流入を防
止するため、ポリシンク加工中は空所３６を若］加圧状
態に置くようにしたり、さらにまた流体吸引口３７と流
体吸引手段の間に気液分離装置を介在させるなど、種々
変更し得ることは言うまでもない。
以上述べたように本発明によれば、ポリシンク加工を完
了して上下の定盤を離間させたとき、ウェハなどの被加
工物が下定盤側に確実に置かれるため、被加工物の取出
しを容易に行なうことができると共に、取出しに際して
被加工物を損傷することもなくなり、さらに被加工物の
アンロープインクの自動化も容易になるなどの効果が得
られる。
了して上下の定盤を離間させたとき、ウェハなどの被加
工物が下定盤側に確実に置かれるため、被加工物の取出
しを容易に行なうことができると共に、取出しに際して
被加工物を損傷することもなくなり、さらに被加工物の
アンロープインクの自動化も容易になるなどの効果が得
られる。
図は本発明による両面ポリシンク加工の一実施例を示す
要部概要断面図である。 １０・・・下定盤、ＩＩ、＋３・ 研摩布、１２・・・
上定盤、１６・・・上軸、１７・・・第１中空軸、１８
・・・第２中空軌１９ ・・太陽歯車、２０・・・下軸
、２１・・・スプライン軌２３ ・・インターナル歯車
、２５．２６・・・研摩剤供給町２９・・研摩側供給装
置、３１・・・ロータリージヨイント、３２・・・キャ
リア、３４・・・ウエノ・（被加工物）、３７・・・流
体吸引口、３９・・流体吸引手段。 出願人 東芝機械株式会社 手 続 補 正 書 昭和５７年５月２１日 １、事件の表示 昭和５７年特許願第５４０３６号 ２、発明の名称 両面ボリシング装置 ３、補正をする者 特許出願人 〒１０４ 住 所 東京都中央区銀座４丁目２番１１号５、補正
の内容 １）明細書第３頁１行 「前記上定盤１０」を「前記下定盤１０」と訂正する０ ２）同第３頁下から５〜４行 「上定盤１２．太陽歯車１’／ｊを 「太陽歯車１９．上定盤１２」と訂正する。 ３）同第５頁８行および第６頁２行（計２個所）「上軸
＋ ８ ｊ’ｉｒ上軸＋６ｊと訂正する。 ４）同第５頁下から２行 「定盤ｔｏ、＋２」を［定盤＋２．ｌＯｊと訂正する。 −２〜
要部概要断面図である。 １０・・・下定盤、ＩＩ、＋３・ 研摩布、１２・・・
上定盤、１６・・・上軸、１７・・・第１中空軸、１８
・・・第２中空軌１９ ・・太陽歯車、２０・・・下軸
、２１・・・スプライン軌２３ ・・インターナル歯車
、２５．２６・・・研摩剤供給町２９・・研摩側供給装
置、３１・・・ロータリージヨイント、３２・・・キャ
リア、３４・・・ウエノ・（被加工物）、３７・・・流
体吸引口、３９・・流体吸引手段。 出願人 東芝機械株式会社 手 続 補 正 書 昭和５７年５月２１日 １、事件の表示 昭和５７年特許願第５４０３６号 ２、発明の名称 両面ボリシング装置 ３、補正をする者 特許出願人 〒１０４ 住 所 東京都中央区銀座４丁目２番１１号５、補正
の内容 １）明細書第３頁１行 「前記上定盤１０」を「前記下定盤１０」と訂正する０ ２）同第３頁下から５〜４行 「上定盤１２．太陽歯車１’／ｊを 「太陽歯車１９．上定盤１２」と訂正する。 ３）同第５頁８行および第６頁２行（計２個所）「上軸
＋ ８ ｊ’ｉｒ上軸＋６ｊと訂正する。 ４）同第５頁下から２行 「定盤ｔｏ、＋２」を［定盤＋２．ｌＯｊと訂正する。 −２〜
Claims (1)
- 両面ポリシング装置において、下定盤の研摩布装着面に
設けられた多数の流体吸引口と、同流体吸引口に接続さ
れた流体吸引手段とを具備することを特徴とする両面ポ
リシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054036A JPS58171256A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 両面ポリシング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054036A JPS58171256A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 両面ポリシング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171256A true JPS58171256A (ja) | 1983-10-07 |
Family
ID=12959357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57054036A Pending JPS58171256A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 両面ポリシング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58171256A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2564360A1 (fr) * | 1984-05-21 | 1985-11-22 | Crismatec | Machine d'usinage double face et dispositif de transmission de courant et de fluide entre une structure tournante et une structure non tournante |
| US4674236A (en) * | 1985-05-13 | 1987-06-23 | Toshiba Machine Co., Ltd. | Polishing machine and method of attaching emery cloth to the polishing machine |
| JPH0263959U (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | ||
| JPH0425375A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-29 | Showa Alum Corp | 研磨装置 |
-
1982
- 1982-04-01 JP JP57054036A patent/JPS58171256A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2564360A1 (fr) * | 1984-05-21 | 1985-11-22 | Crismatec | Machine d'usinage double face et dispositif de transmission de courant et de fluide entre une structure tournante et une structure non tournante |
| US4665658A (en) * | 1984-05-21 | 1987-05-19 | Commissariat A L'energie Atomique | Double face abrading machine and device for transmitting current and fluid between a rotary structure and a non-rotary structure |
| US4674236A (en) * | 1985-05-13 | 1987-06-23 | Toshiba Machine Co., Ltd. | Polishing machine and method of attaching emery cloth to the polishing machine |
| JPH0263959U (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | ||
| JPH0425375A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-29 | Showa Alum Corp | 研磨装置 |
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