JPS58168035A - 液晶表示パネル - Google Patents
液晶表示パネルInfo
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- JPS58168035A JPS58168035A JP57051709A JP5170982A JPS58168035A JP S58168035 A JPS58168035 A JP S58168035A JP 57051709 A JP57051709 A JP 57051709A JP 5170982 A JP5170982 A JP 5170982A JP S58168035 A JPS58168035 A JP S58168035A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- polarizing film
- substrate
- liquid crystal
- liq
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶表示パネルに関し、さらに詳しくは、偏
光膜を液晶層側に設けてなるパネル溝６に関する。
光膜を液晶層側に設けてなるパネル溝６に関する。
本発明の主目的は、液晶層と反射層までの距離を接近さ
せることにより、選択画素部とこの画素より生じる影の
ずれ（ゴースト現象となる）を減少させることにより、
画像のシャープネスと視野角の向上にある。また偏光膜
の耐湿に対する保護効果もあり、信頼性が増す。
せることにより、選択画素部とこの画素より生じる影の
ずれ（ゴースト現象となる）を減少させることにより、
画像のシャープネスと視野角の向上にある。また偏光膜
の耐湿に対する保護効果もあり、信頼性が増す。
本発明に関係する従来技術として、特開昭５３−４８４
９８に開示されている。そこでのべられている構造の代
表例を第１図に示す。
９８に開示されている。そこでのべられている構造の代
表例を第１図に示す。
この図において、１１．１１′ は基板であり、１２は
偏光膜であり、１６．１６′は透明電極であり、１４．
１４′は配向層であり、１５は液晶Ｊ−であり、１６．
１６′は封止であり、１７は偏光板（偏光膜と光学的等
方性の保護膜の積層板）である。この構造は、偏光膜を
液晶層側に設置したことのみであり、これに耐直する問
題点が全く考慮されていない。問題点としては、次の３
点がある。
偏光膜であり、１６．１６′は透明電極であり、１４．
１４′は配向層であり、１５は液晶Ｊ−であり、１６．
１６′は封止であり、１７は偏光板（偏光膜と光学的等
方性の保護膜の積層板）である。この構造は、偏光膜を
液晶層側に設置したことのみであり、これに耐直する問
題点が全く考慮されていない。問題点としては、次の３
点がある。
ｉｌＪ 偏光膜の表面がフラットでない。
（、リ 不純物（特にイオン）の拡散防止膜がない。
■ 外部から侵入する水分子に対する保護膜がない。
本発明は、これらの問題点を解決するもので、−光膜は
、沃素とポリビニルアルコール、直接染料とポリビニル
アルコール、ポリエン構造の３棟類ある。偏光膜の表面
は、ミクロン単位でみると凸凹の起伏が多数ある。ポリ
ビニルアルコール系偏光膜は、水分子、温度等により収
縮する。
、沃素とポリビニルアルコール、直接染料とポリビニル
アルコール、ポリエン構造の３棟類ある。偏光膜の表面
は、ミクロン単位でみると凸凹の起伏が多数ある。ポリ
ビニルアルコール系偏光膜は、水分子、温度等により収
縮する。
またポリビニルアルコール系、ポリエン構造系共にイオ
ン物質をもつ。この３種のうち、特に限定しない限り水
分子、熱にもっとも影響されやすい沃素とポリビニルア
ルコールからなる偏光膜を選び詳説してゆ（。他の偏光
膜も同様な考えで、包含される。また反射層を内側に設
けた反射型パネル構造を詳説してゆ（。
ン物質をもつ。この３種のうち、特に限定しない限り水
分子、熱にもっとも影響されやすい沃素とポリビニルア
ルコールからなる偏光膜を選び詳説してゆ（。他の偏光
膜も同様な考えで、包含される。また反射層を内側に設
けた反射型パネル構造を詳説してゆ（。
本発明の特徴は、偏光膜を樹脂内部に埋込む構造にした
点にある。その構造クリが第２図である。
点にある。その構造クリが第２図である。
２１は、偏光板であり、２２は透明基板であり、２６は
電極であり、２４．２４′は封止であり、２５は一点で
あり、２６．２６′は配向層であり、２７は液晶であり
、２８は゛電極であり、２９は樹脂であり、２１０は偏
光膜であり、２１１は反射ノーであり、２１２は基板で
ある。
電極であり、２４．２４′は封止であり、２５は一点で
あり、２６．２６′は配向層であり、２７は液晶であり
、２８は゛電極であり、２９は樹脂であり、２１０は偏
光膜であり、２１１は反射ノーであり、２１２は基板で
ある。
つぎに要点を説明する。透明基板と成極は、一般的な、
透明電極ｌ・↑きガラス基板に限定されることな（、高
密度スイッチをもつＳＯ８基板、ＴＰＴ基板等も有用で
ある７、樹脂は、偏光膜を反射ノーと接着固定化するこ
と、偏光膜表面の凸凹を平面化、鏡面化すること、偏光
膜内のイオンが液晶への拡散な防止すること、侵入水分
子から偏光膜を保護することに効果がある。反射層は、
散乱表面状態にしておくことは当然である。反射層をも
つ基板は、透明、不透明関係なく、各種の材料（例えば
＆１４、プラスチック、ガラス、セラミックス等）が１
重用口Ｔｉ巳である。
透明電極ｌ・↑きガラス基板に限定されることな（、高
密度スイッチをもつＳＯ８基板、ＴＰＴ基板等も有用で
ある７、樹脂は、偏光膜を反射ノーと接着固定化するこ
と、偏光膜表面の凸凹を平面化、鏡面化すること、偏光
膜内のイオンが液晶への拡散な防止すること、侵入水分
子から偏光膜を保護することに効果がある。反射層は、
散乱表面状態にしておくことは当然である。反射層をも
つ基板は、透明、不透明関係なく、各種の材料（例えば
＆１４、プラスチック、ガラス、セラミックス等）が１
重用口Ｔｉ巳である。
つぎにパネルの作り方、特に工夫されている偏光膜の埋
込み過程についてのべる。まず偏光膜は膜厚７５μのポ
リビニルアルコール膜を出発に、硫酸ナトリウムとホウ
酸の水溶液槽とホウ酸の水浴液槽に浸漬膨潤後、約４倍
に湿式延伸し、つづけて沃化カリと沃素水溶液槽に浸漬
して沃素を膜円に拡散させた後、温風で乾燥することに
よって約３０μ厚の偏光膜をえた。微小凸凹表面をもつ
ガラス面にアルミを蒸着してなる基板上に樹脂分１００
％からなる液体（例えば 感光性樹脂、エポキシ樹脂等
）を脱泡して適量おき、その上に前記−光膜をかさね、
さらに前記液体な脱泡して過酸おき、この上から表面エ
ネルギーの低い化合物（ンリコーン樹脂系、フッソ樹脂
系）を塗布した平面度のよい鏡面剥離板をおき、平行基
準の出ているプレスで加圧した。その後、光エネルギー
又は熱エネルギーにより硬化反応させて、固体状態にし
た。この時、エポキシ樹脂の場合、１３０’Ｌ：以下、
好ましくは９０℃以下で硬化反応させないと、偏光度の
劣化が発生した。なお、直接染料ポリビニルアルコール
系、ポリエン構造系の＝Ｃ膜にはこの現象はなかった。
込み過程についてのべる。まず偏光膜は膜厚７５μのポ
リビニルアルコール膜を出発に、硫酸ナトリウムとホウ
酸の水溶液槽とホウ酸の水浴液槽に浸漬膨潤後、約４倍
に湿式延伸し、つづけて沃化カリと沃素水溶液槽に浸漬
して沃素を膜円に拡散させた後、温風で乾燥することに
よって約３０μ厚の偏光膜をえた。微小凸凹表面をもつ
ガラス面にアルミを蒸着してなる基板上に樹脂分１００
％からなる液体（例えば 感光性樹脂、エポキシ樹脂等
）を脱泡して適量おき、その上に前記−光膜をかさね、
さらに前記液体な脱泡して過酸おき、この上から表面エ
ネルギーの低い化合物（ンリコーン樹脂系、フッソ樹脂
系）を塗布した平面度のよい鏡面剥離板をおき、平行基
準の出ているプレスで加圧した。その後、光エネルギー
又は熱エネルギーにより硬化反応させて、固体状態にし
た。この時、エポキシ樹脂の場合、１３０’Ｌ：以下、
好ましくは９０℃以下で硬化反応させないと、偏光度の
劣化が発生した。なお、直接染料ポリビニルアルコール
系、ポリエン構造系の＝Ｃ膜にはこの現象はなかった。
前記した工程のうち、偏光膜を埋込む方法で２段硬化法
も有効である。すなわち、基板と偏光膜間の樹脂を硬化
（１段目）させて、偏光膜を所定ｂ′Ｌ置に固定化後、
再度偏光膜上の樹脂を硬化（２段目）する方法も有効で
ある。必要なら再々度（３段目）反応させることも平面
度をえる方法として有効である。樹脂層の厚さは、条件
（圧力、液体粘度、硬化温度等）により異なるが、上Ｆ
共に５〜ｌＯμ程度であった。これより、液晶ｌ−から
反射Ｉ−までの距離は、４０μ〜５０μ程度となる。
も有効である。すなわち、基板と偏光膜間の樹脂を硬化
（１段目）させて、偏光膜を所定ｂ′Ｌ置に固定化後、
再度偏光膜上の樹脂を硬化（２段目）する方法も有効で
ある。必要なら再々度（３段目）反応させることも平面
度をえる方法として有効である。樹脂層の厚さは、条件
（圧力、液体粘度、硬化温度等）により異なるが、上Ｆ
共に５〜ｌＯμ程度であった。これより、液晶ｌ−から
反射Ｉ−までの距離は、４０μ〜５０μ程度となる。
偏光膜の厚さを１０μにすれば、この距離は、２０μ〜
３０μとなる。このように液晶ｌ−がら反射層までの距
離を安定的に接近できたのは上記埋込み法とその構造に
よる。従来通り、外部に偏光板を接着する構造では不可
能である。
３０μとなる。このように液晶ｌ−がら反射層までの距
離を安定的に接近できたのは上記埋込み法とその構造に
よる。従来通り、外部に偏光板を接着する構造では不可
能である。
つぎに、この偏光膜を埋込んだ基板に透明電極（スズ６
卯の酸化インジウム）を酸素雰囲気中でイオンブレーテ
ィングすることにより良好な薄膜をえた。その後の工程
は、配向（ＳｉＯの斜め蒸着にはラビン処理）、封止、
液晶注入等は従来とほぼ同様でよいが、封止の最高温度
は、偏光膜の４４化のため、１５０℃以下、好ましくは
１２０Ｃ以Ｆがよい。上記構造の液晶パネルを信頼性試
験した結果、耐熱（８０℃、２０日間）、耐湿性（＋６
０℃、９５１２０日間）共に安定しており、−光膜の劣
化（時に耐湿性）もはとんどな（、また、イオン拡散に
よるリーク電流の異常な増加も待に硯察されなかった。
卯の酸化インジウム）を酸素雰囲気中でイオンブレーテ
ィングすることにより良好な薄膜をえた。その後の工程
は、配向（ＳｉＯの斜め蒸着にはラビン処理）、封止、
液晶注入等は従来とほぼ同様でよいが、封止の最高温度
は、偏光膜の４４化のため、１５０℃以下、好ましくは
１２０Ｃ以Ｆがよい。上記構造の液晶パネルを信頼性試
験した結果、耐熱（８０℃、２０日間）、耐湿性（＋６
０℃、９５１２０日間）共に安定しており、−光膜の劣
化（時に耐湿性）もはとんどな（、また、イオン拡散に
よるリーク電流の異常な増加も待に硯察されなかった。
上記の信頼性をさらに向上さす方法として、偏光膜表面
に高分子（例えばウレタン＃脂、ポリパラキシレン等）
を薄く塗布すると好ましい。またエポキシ樹脂による高
温硬化反応による沃素ポリビニルアルコール複合体の偏
光度の劣化防止にも効果があった。
に高分子（例えばウレタン＃脂、ポリパラキシレン等）
を薄く塗布すると好ましい。またエポキシ樹脂による高
温硬化反応による沃素ポリビニルアルコール複合体の偏
光度の劣化防止にも効果があった。
つぎに偏光膜が埋込まれている本発明Ｊ）構造を用いた
特徴ある応用例を記す。第３図は、６１＆工調光板であ
り、６２は透明基板であり、６６＆ｓｔ極であり、６４
．６４′は封止であり、３５ｉ１尿点であり、６６．６
６′は配向層であり、６７１液晶であり、６８は電極で
あり、６９は樹脂であり、６１０は偏光膜であり、６１
１は反射１−であり、６１２は基板であり、６１６はカ
ラースト−ライブフィルターである。カラーストライプ
フ（／レターの色は特に限定されるものではないが色σ
）３原色（赤、緑、青、又はシアン、マゼンダ、イエロ
）が好ましい。この場合も、液晶層と反射ノーに密着し
ているカラーストライプフィルターが近接していること
は、液晶をスイッチする微小画素との位置ずれを減少さ
せ、色発現を的確に―Ｊａ１１１できるようになる。
特徴ある応用例を記す。第３図は、６１＆工調光板であ
り、６２は透明基板であり、６６＆ｓｔ極であり、６４
．６４′は封止であり、３５ｉ１尿点であり、６６．６
６′は配向層であり、６７１液晶であり、６８は電極で
あり、６９は樹脂であり、６１０は偏光膜であり、６１
１は反射１−であり、６１２は基板であり、６１６はカ
ラースト−ライブフィルターである。カラーストライプ
フ（／レターの色は特に限定されるものではないが色σ
）３原色（赤、緑、青、又はシアン、マゼンダ、イエロ
）が好ましい。この場合も、液晶層と反射ノーに密着し
ているカラーストライプフィルターが近接していること
は、液晶をスイッチする微小画素との位置ずれを減少さ
せ、色発現を的確に―Ｊａ１１１できるようになる。
第４図は、上基板、下基板共に偏光膜を埋込む構造にし
たパネルである。４１．４１′は基板、４２は反射層、
４６．４６′は樹脂、４１４４’は偏光膜、４５．４５
′は電極、４６．４６′は配向層、４７は液晶、４８．
４８′は封止、４９は鎖点である。この構造は、偏光膜
が共に基板の内側に設置されることにより、耐湿性が向
上した（ ＋ｆｉ販の偏光板は、６０°Ｃ１９５％、５
日間で完全に脱色した。） 第５図、第６図、第７図は、時分割駆動を特に、４′慮
した場合の構造と等価回路である。５１．５１′は、基
板であり、５２は電極５５とほぼ同形（スリットを入れ
る）にした反射１１１であり、５６は樹脂であり、５４
は偏光膜であり、５５．５５′は′電極であり、５６．
５６′は配向ｌ−であり、５７は液晶である。図６は、
反射層にスリットを入れた第５図の等価回路であり、第
７図は、連続反射ノーの等価回路である。ａは液晶部、
ｂは樹ｍ部である。第７図の場合、反射ノー７・２と電
極７５の距離が接近すると、この間に電気容量を誘起し
、時分割駆動時の電圧制御を不女定化させる。
たパネルである。４１．４１′は基板、４２は反射層、
４６．４６′は樹脂、４１４４’は偏光膜、４５．４５
′は電極、４６．４６′は配向層、４７は液晶、４８．
４８′は封止、４９は鎖点である。この構造は、偏光膜
が共に基板の内側に設置されることにより、耐湿性が向
上した（ ＋ｆｉ販の偏光板は、６０°Ｃ１９５％、５
日間で完全に脱色した。） 第５図、第６図、第７図は、時分割駆動を特に、４′慮
した場合の構造と等価回路である。５１．５１′は、基
板であり、５２は電極５５とほぼ同形（スリットを入れ
る）にした反射１１１であり、５６は樹脂であり、５４
は偏光膜であり、５５．５５′は′電極であり、５６．
５６′は配向ｌ−であり、５７は液晶である。図６は、
反射層にスリットを入れた第５図の等価回路であり、第
７図は、連続反射ノーの等価回路である。ａは液晶部、
ｂは樹ｍ部である。第７図の場合、反射ノー７・２と電
極７５の距離が接近すると、この間に電気容量を誘起し
、時分割駆動時の電圧制御を不女定化させる。
また電極５５′ と反射層２の間に電界が生じ、非画素
部の液晶がオン状態を取り、画質を非常に悪化させる。
部の液晶がオン状態を取り、画質を非常に悪化させる。
上記の現像をな（シｔこ等価回路がｇ６ｔＡ図であり、
その構造が第５図である。
その構造が第５図である。
その他、特に図示しなかったが、第２図にお〜１て封止
４と接している樹脂を除き、封止４を直接に基板１２と
接着した構造を取ってもよ（・。こσ〕場合、除去した
樹脂の厚みをスペーサとして、封止部に迫り口する必要
はある（通常約１０μ径σ）粉末を少を添加してスペー
サとし℃いる）。
４と接している樹脂を除き、封止４を直接に基板１２と
接着した構造を取ってもよ（・。こσ〕場合、除去した
樹脂の厚みをスペーサとして、封止部に迫り口する必要
はある（通常約１０μ径σ）粉末を少を添加してスペー
サとし℃いる）。
また第２図において、偏光板１０代りに、ゲストホスト
型の液晶を用いた構造でもよ（・。また中間基板に薄板
（例えば置分子膜）を使用した多１−構造パネルにも有
効である。
型の液晶を用いた構造でもよ（・。また中間基板に薄板
（例えば置分子膜）を使用した多１−構造パネルにも有
効である。
以上のように、偏光膜を完全に樹脂に埋込む本艶明の構
造により、 （０偏光膜の表面を境面でかつフラットにできる。
造により、 （０偏光膜の表面を境面でかつフラットにできる。
■＃脂層が不純物（＃ｆにイオン）の拡散を防止する。
■外部から侵入する水分子に対して、樹脂１−が偏光膜
を保護する。
を保護する。
の本質的な要点な可能にした。
ａｔ図は、従来形のパネルの断面図、第２図、第３図、
第４図は、本発明のパネルの断面図、第５図は、反射層
を工夫した構造のパネルの断面図であり、第６図、第７
図は、第５図を説明するための等価回路図である。 １７．２１．６１・・・・・・偏光板 １１’２２．６２．４１’、５１’・・・・・・透明基
板１６．１５’２３．２８．６６．６８．４５．４５’
５５．５５′・・・・・・電極 １４．１４’ ２６
．２６’ ３６．６６′４６．４６’ ５６．５６′・
・・・・・配向層１５．２７．６７．４７．５７・・・
・・・液晶１６．１６’２４．２４’ ５４．５４’
４８．４８′・・・封止１２．２１０．５１０．４４．
４４’、 ５４・・・・・・偏光膜１１．２１２．６１
２．４１．５１・・・・・・基板２５．５５．４９・・
・・・・鎖点 ２９．６９．４６．４６′・・・・・・
樹脂 ２１１，６１１．４２．５２ ・・・・・・反射
層６１６・・・・・・カラーストライプフィルター第１
図 第２図 第３図 □第７ｉｆｆ
第４図は、本発明のパネルの断面図、第５図は、反射層
を工夫した構造のパネルの断面図であり、第６図、第７
図は、第５図を説明するための等価回路図である。 １７．２１．６１・・・・・・偏光板 １１’２２．６２．４１’、５１’・・・・・・透明基
板１６．１５’２３．２８．６６．６８．４５．４５’
５５．５５′・・・・・・電極 １４．１４’ ２６
．２６’ ３６．６６′４６．４６’ ５６．５６′・
・・・・・配向層１５．２７．６７．４７．５７・・・
・・・液晶１６．１６’２４．２４’ ５４．５４’
４８．４８′・・・封止１２．２１０．５１０．４４．
４４’、 ５４・・・・・・偏光膜１１．２１２．６１
２．４１．５１・・・・・・基板２５．５５．４９・・
・・・・鎖点 ２９．６９．４６．４６′・・・・・・
樹脂 ２１１，６１１．４２．５２ ・・・・・・反射
層６１６・・・・・・カラーストライプフィルター第１
図 第２図 第３図 □第７ｉｆｆ
Claims (1)
- 偏光膜を基板の内側に設置してなる液晶表示パネルにお
いて、偏光膜を樹脂で埋込んだことを特徴としてなる液
晶表示パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57051709A JPS58168035A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 液晶表示パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57051709A JPS58168035A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 液晶表示パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58168035A true JPS58168035A (ja) | 1983-10-04 |
Family
ID=12894416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57051709A Pending JPS58168035A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 液晶表示パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58168035A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248634A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
| EP2701001A1 (en) * | 2012-08-23 | 2014-02-26 | Boe Technology Group Co. Ltd. | Color filter substrate, array substrate, liquid crystal display apparatus, and manufacturing methods of the color filter substrate and the array substrate with in-cell polarizers |
-
1982
- 1982-03-30 JP JP57051709A patent/JPS58168035A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248634A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
| EP2701001A1 (en) * | 2012-08-23 | 2014-02-26 | Boe Technology Group Co. Ltd. | Color filter substrate, array substrate, liquid crystal display apparatus, and manufacturing methods of the color filter substrate and the array substrate with in-cell polarizers |
| JP2014041350A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-03-06 | Boe Technology Group Co Ltd | カラーフィルタ基板、アレイ基板、液晶ディスプレイ、カラーフィルタ基板の製造方法及びアレイ基板の製造方法 |
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