JPS58161834A - 赤外線放射検出器およびその製造方法 - Google Patents
赤外線放射検出器およびその製造方法Info
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- JPS58161834A JPS58161834A JP58033925A JP3392583A JPS58161834A JP S58161834 A JPS58161834 A JP S58161834A JP 58033925 A JP58033925 A JP 58033925A JP 3392583 A JP3392583 A JP 3392583A JP S58161834 A JPS58161834 A JP S58161834A
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔従来技術・産業上の利用労費〕
本発明は赤外線放射検出器に関するものであり、待に赤
外線の広帯域放射源から収出される異なる波長を測定す
るいわゆる多色検出器に関するもの一部あるがこの4色
検出器に限定されるものではない。このような多色検出
器は例えば収射諒のw!L射率や放射源と検出器との中
間の空間における放射のrtii率に依存せずに放射源
の湿度を測定するものである。杢珀明は更にこのような
検出at−L−する5威にも関するものである。検出器
は1個の模出素子或いは一層の検出素子の配列(アレイ
)を有するようにすることができ、検出4子は光導戒注
或いは光起電力性とすることができる。
外線の広帯域放射源から収出される異なる波長を測定す
るいわゆる多色検出器に関するもの一部あるがこの4色
検出器に限定されるものではない。このような多色検出
器は例えば収射諒のw!L射率や放射源と検出器との中
間の空間における放射のrtii率に依存せずに放射源
の湿度を測定するものである。杢珀明は更にこのような
検出at−L−する5威にも関するものである。検出器
は1個の模出素子或いは一層の検出素子の配列(アレイ
)を有するようにすることができ、検出4子は光導戒注
或いは光起電力性とすることができる。
文献°゛ムpplied 0ptics 、 VOt、
l l 、410(0ctober 1972 )の1
1157〜l!1611[の章” N −colour
(Hg 、 Od ) Te Photodetec
tors”には、基板1に装4Iされた赤外1[d応材
料のドー手体内に形成された少くとも1つの第1検出素
子と、前記の下t11iI本俸とに装着された赤外−1
感し6材料の1@本体内に形成され、前記の第1検出素
子の部用特性と異なる検出特性を有する少くとも1つの
第2検出素子と、前記のE−および’t’m手体の検出
素子に対する4気M!d体とを具える赤外−放射検出器
であって、前記Mlおよび#!2検出素子の一層が、能
力を1mTる赤外a放射を受けるように配置されている
赤外411牧射模出器が記載されている。
l l 、410(0ctober 1972 )の1
1157〜l!1611[の章” N −colour
(Hg 、 Od ) Te Photodetec
tors”には、基板1に装4Iされた赤外1[d応材
料のドー手体内に形成された少くとも1つの第1検出素
子と、前記の下t11iI本俸とに装着された赤外−1
感し6材料の1@本体内に形成され、前記の第1検出素
子の部用特性と異なる検出特性を有する少くとも1つの
第2検出素子と、前記のE−および’t’m手体の検出
素子に対する4気M!d体とを具える赤外−放射検出器
であって、前記Mlおよび#!2検出素子の一層が、能
力を1mTる赤外a放射を受けるように配置されている
赤外411牧射模出器が記載されている。
この文献の前記の傘の第8〜6図に示されていの遮断波
長より6長く、F側の第1検出素子が上側本体を透過し
た長い波長の放射を検出するもゆであり、これら既知の
検出器におけるIIE気tI!続は、実際に検出素子本
体自体のとでインジウム接点金属化膜に一統線(ワイヤ
)を接着(ワイヤボンディング)することによりa或し
ている。特にテルル化水姻カドミウムの検出素子の場合
、赤外線感応材料上の金部化膜にこれら−mmを接着す
ることにより、赤外線感応材料にひずみを生ぜしめたり
、この材料f損傷せしめたりし、これにより、例えば電
荷キャリアの再結合を増大せしめるような検出素子の作
動の劣化を生ぜしめるおそれがある。極端な場合には、
赤外@感応材料f:破壊するおそれもある。上側および
FOI!1本俸の表面の異なるレベルでこれらの接続4
1’ir′注腫深く接層することも不便でありまた内機
である。
長より6長く、F側の第1検出素子が上側本体を透過し
た長い波長の放射を検出するもゆであり、これら既知の
検出器におけるIIE気tI!続は、実際に検出素子本
体自体のとでインジウム接点金属化膜に一統線(ワイヤ
)を接着(ワイヤボンディング)することによりa或し
ている。特にテルル化水姻カドミウムの検出素子の場合
、赤外線感応材料上の金部化膜にこれら−mmを接着す
ることにより、赤外線感応材料にひずみを生ぜしめたり
、この材料f損傷せしめたりし、これにより、例えば電
荷キャリアの再結合を増大せしめるような検出素子の作
動の劣化を生ぜしめるおそれがある。極端な場合には、
赤外@感応材料f:破壊するおそれもある。上側および
FOI!1本俸の表面の異なるレベルでこれらの接続4
1’ir′注腫深く接層することも不便でありまた内機
である。
間際な接続間−が多色検出器においてばかりではなく、
検出素子本体を種型ねた他の種類の赤外#検出器におい
ても生じるおそれがある。このような池の種類の一層の
検出器は米−特dfll!δ、vs?、298号明細腎
に記112されており、この場a1第1および第2検出
票子が同じ遮断波長を有しているも、1側検出素子本体
は薄肉であり、放射の一部を下側検出素子本体に透過す
る。この木国特軒明@基の第2図に示されている例では
、第1検出f子が、&I!続線の接着を行なう基板Eに
まで延在する金属化膜を有しており、上lllll本体
は、基板上の金属化膜の一部をも被111Tる工lキシ
m脂のような透明な絶縁体の層により分離されており、
七Of1本俸の検出素子は、−続砿の一層をIll!S
!横出素子に打出素子縁体の層上に延在する金−化膜1
月°している。
検出素子本体を種型ねた他の種類の赤外#検出器におい
ても生じるおそれがある。このような池の種類の一層の
検出器は米−特dfll!δ、vs?、298号明細腎
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票子が同じ遮断波長を有しているも、1側検出素子本体
は薄肉であり、放射の一部を下側検出素子本体に透過す
る。この木国特軒明@基の第2図に示されている例では
、第1検出f子が、&I!続線の接着を行なう基板Eに
まで延在する金属化膜を有しており、上lllll本体
は、基板上の金属化膜の一部をも被111Tる工lキシ
m脂のような透明な絶縁体の層により分離されており、
七Of1本俸の検出素子は、−続砿の一層をIll!S
!横出素子に打出素子縁体の層上に延在する金−化膜1
月°している。
しかしこの構造の場き、中間の絶縁体の)Iに互いに矛
盾する条件が課せられる。すなわち一方では検出孝子ギ
体内のひずみf:減少させ、且つL−およびFIMl1
41:洋間での熱伝導(fδよび赤外線放射透過度を高
める為に、この絶縁体層を一般に櫓めて薄肉にする必要
があり、能力では、第1および第2検出素子の金禰化膜
聞の絶縁体層f:極めて薄肉にすると、絶縁体内のピン
ホールσ〕1hlL2ツu)レベルにある金属化膜を短
絡せしめたり、F側のレベルにある金4化膜にIf’続
mを一層する際に絶縁体を損傷せしめたりするおそれ力
5ある。0朽記の米国特許明細# JJ第2図に示され
てI/)る構造で4よ、形成されてい、る実際の絶縁体
1ll(26で示M tL ”Cいる)が両杢体(AH
よびBで示されてし)る)間で不所窺にl!lL内とな
っており、2つのレベルGこある金−化1t!1i(2
2,28およびa4.anで18されている)間で薄肉
となっている。更Gここの米国特許明dI書の構成の場
aにも2つの異なるレベルで注tfR<ワイヤボンデン
グする問題力(依然として存在している。
盾する条件が課せられる。すなわち一方では検出孝子ギ
体内のひずみf:減少させ、且つL−およびFIMl1
41:洋間での熱伝導(fδよび赤外線放射透過度を高
める為に、この絶縁体層を一般に櫓めて薄肉にする必要
があり、能力では、第1および第2検出素子の金禰化膜
聞の絶縁体層f:極めて薄肉にすると、絶縁体内のピン
ホールσ〕1hlL2ツu)レベルにある金属化膜を短
絡せしめたり、F側のレベルにある金4化膜にIf’続
mを一層する際に絶縁体を損傷せしめたりするおそれ力
5ある。0朽記の米国特許明細# JJ第2図に示され
てI/)る構造で4よ、形成されてい、る実際の絶縁体
1ll(26で示M tL ”Cいる)が両杢体(AH
よびBで示されてし)る)間で不所窺にl!lL内とな
っており、2つのレベルGこある金−化1t!1i(2
2,28およびa4.anで18されている)間で薄肉
となっている。更Gここの米国特許明dI書の構成の場
aにも2つの異なるレベルで注tfR<ワイヤボンデン
グする問題力(依然として存在している。
米国特許第4,206,470号明細書にGは、焦点面
撮像装置の悟号処理用の珪素00D基板上に装着された
多色赤外線検出素子配列本俸(積層体)に対する戒気接
d体を互いGこ絶縁する1ロ(記載されている。この米
国特許明細−の第2図に示されているこの検出器の構成
においてGよ、金或し)&まニッケルの第ルベル接点ノ
ぐツ)’(xa4a、b等で示されている)が基板から
少くともFtil検出素検出素子上体の高ざまで上方に
延在するように鍍金形成されている。本体と各別の接点
パッドとの間の間隙はエポキシ樹脂のような不活性絶縁
材料で充填され、この絶縁材料は機械的に研磨されて接
点パッドが露出するとともに接点パッドと残りの絶縁材
料とF側検出素子本体の1向とが実質的に同−平向とな
るようにし、その鎌にこの同一平面とに薄膜金属の相互
f!!続体が堆積されてF側の第1検出素子配列に対す
る接続体を形成している。次に、上側検出素子本体とに
)、til検出検出素体本体着され、接点パッドの鍍金
形成、エポキシ樹脂での光(、機械的な研磨および薄膜
金−の相互接続体の堆積の丁べての処理が繰返され、上
−の第2検出票子配列に対する一続俸t’形成している
。@2模出4子に対Tる接続体を形成するこのような方
法は偵−であり、労力がかかる多くの異なる処理工種を
必要とし、これにより満足な作動を行なうように−mさ
れる検出4の歩どまVを減少せしめるおそれがある。従
って例えば、エポキシ樹脂を極めて厚肉に充填し、機械
的な研磨を行なうことにより赤外線感応材料をひfませ
たり損傷せしめたりし、例えば電荷キャリアの再結きを
増大せしめるおそれがあるっこれ〜らの+)I! 1l
ii G! 待にテルル化水銀カドミウムU」ような補
の場合に著しいものとなる。
撮像装置の悟号処理用の珪素00D基板上に装着された
多色赤外線検出素子配列本俸(積層体)に対する戒気接
d体を互いGこ絶縁する1ロ(記載されている。この米
国特許明細−の第2図に示されているこの検出器の構成
においてGよ、金或し)&まニッケルの第ルベル接点ノ
ぐツ)’(xa4a、b等で示されている)が基板から
少くともFtil検出素検出素子上体の高ざまで上方に
延在するように鍍金形成されている。本体と各別の接点
パッドとの間の間隙はエポキシ樹脂のような不活性絶縁
材料で充填され、この絶縁材料は機械的に研磨されて接
点パッドが露出するとともに接点パッドと残りの絶縁材
料とF側検出素子本体の1向とが実質的に同−平向とな
るようにし、その鎌にこの同一平面とに薄膜金属の相互
f!!続体が堆積されてF側の第1検出素子配列に対す
る接続体を形成している。次に、上側検出素子本体とに
)、til検出検出素体本体着され、接点パッドの鍍金
形成、エポキシ樹脂での光(、機械的な研磨および薄膜
金−の相互接続体の堆積の丁べての処理が繰返され、上
−の第2検出票子配列に対する一続俸t’形成している
。@2模出4子に対Tる接続体を形成するこのような方
法は偵−であり、労力がかかる多くの異なる処理工種を
必要とし、これにより満足な作動を行なうように−mさ
れる検出4の歩どまVを減少せしめるおそれがある。従
って例えば、エポキシ樹脂を極めて厚肉に充填し、機械
的な研磨を行なうことにより赤外線感応材料をひfませ
たり損傷せしめたりし、例えば電荷キャリアの再結きを
増大せしめるおそれがあるっこれ〜らの+)I! 1l
ii G! 待にテルル化水銀カドミウムU」ような補
の場合に著しいものとなる。
本発明の第1の見地による赤外@改射検出潴は、基板ト
に装着された赤外線感ツノ6材料の下側本体内に形成さ
れた少くとも1つの第1検出素子と、前記のF側本庫上
に装着された赤外線tfA応材料の上ILl!1本体内
に形成され、前記のtal検出素子の検出時性とy4な
る検出時性を有する少くとも1つの第2模出寓子と、前
記のIll、dおよび上側本体のゆ出JcF−に対する
磁気接続体とを具える赤外線紋射偵出aであって、前記
第1および第2検出素子の一万が、他方?^過する赤外
線改射を受けるように配置されている赤外−放射検出器
において、前記のF側本体を間−により互いに分離され
た少ざとも2つの部分に分割し、前記の上側本体により
前記のF+lll:体の前記の2部分間の間隙を憤絡し
、前記の第1検出素子を前記の下111I+体の前記の
3部分のうちの第1 (D部分内に杉或し、前記の第8
横出素子が、前記の下側本体の前記の26分のうちの1
112の部分を具える電気接続体を有するようにしたこ
とft411F酸とする。
に装着された赤外線感ツノ6材料の下側本体内に形成さ
れた少くとも1つの第1検出素子と、前記のF側本庫上
に装着された赤外線tfA応材料の上ILl!1本体内
に形成され、前記のtal検出素子の検出時性とy4な
る検出時性を有する少くとも1つの第2模出寓子と、前
記のIll、dおよび上側本体のゆ出JcF−に対する
磁気接続体とを具える赤外線紋射偵出aであって、前記
第1および第2検出素子の一万が、他方?^過する赤外
線改射を受けるように配置されている赤外−放射検出器
において、前記のF側本体を間−により互いに分離され
た少ざとも2つの部分に分割し、前記の上側本体により
前記のF+lll:体の前記の2部分間の間隙を憤絡し
、前記の第1検出素子を前記の下111I+体の前記の
3部分のうちの第1 (D部分内に杉或し、前記の第8
横出素子が、前記の下側本体の前記の26分のうちの1
112の部分を具える電気接続体を有するようにしたこ
とft411F酸とする。
本発明によるこのような検出−の構成ン用いることによ
り、J:、一本体の第8検出f子に対する電気接続体を
、下側およびt一本体内の検出素子の作Sを劣化せしめ
ることなく比較的簡皐に且つ信頼的に形成できる。また
、損傷およびひずみを生ゼしのる多くの異なる処理ニー
を用いる必要がない為、テルル化水銀カドミウムの検出
素子の4けでも、満足に作動するようにJ1′f71さ
れる検出器の歩どまりが高くなる。また、1−陳を光(
Tる為に或いは2つの異なるレベルにある金−化膜間の
中間絶縁層としく厚肉な工メキンー脂或いは池の厚内の
絶縁層を必要としない。ド11111本体の第1および
第2の部分を分離する+#lJ陣は、ドー奉棒を基板上
に装着した後に且つ咲出素子本俸を41形するか或い7
よ(配列の場きに)本俸を検出素子本体部分の配列に分
割するのに用いうる1蝙と同じ処理工種で容易に形成し
つる。従って、F側本体の第1および@2の部分の表面
を簡拳に同一平向にすることができ、検出素子の作動に
悪影響を及ぼCいかなる大きなひずみを6生ぜしめるこ
となく)、一本体を1g幀的に支持しつるようになる。
り、J:、一本体の第8検出f子に対する電気接続体を
、下側およびt一本体内の検出素子の作Sを劣化せしめ
ることなく比較的簡皐に且つ信頼的に形成できる。また
、損傷およびひずみを生ゼしのる多くの異なる処理ニー
を用いる必要がない為、テルル化水銀カドミウムの検出
素子の4けでも、満足に作動するようにJ1′f71さ
れる検出器の歩どまりが高くなる。また、1−陳を光(
Tる為に或いは2つの異なるレベルにある金−化膜間の
中間絶縁層としく厚肉な工メキンー脂或いは池の厚内の
絶縁層を必要としない。ド11111本体の第1および
第2の部分を分離する+#lJ陣は、ドー奉棒を基板上
に装着した後に且つ咲出素子本俸を41形するか或い7
よ(配列の場きに)本俸を検出素子本体部分の配列に分
割するのに用いうる1蝙と同じ処理工種で容易に形成し
つる。従って、F側本体の第1および@2の部分の表面
を簡拳に同一平向にすることができ、検出素子の作動に
悪影響を及ぼCいかなる大きなひずみを6生ぜしめるこ
となく)、一本体を1g幀的に支持しつるようになる。
上側本体の前記の3部分のうちの第2の部分が、第2検
出素子と関連する金属化膜を有し、この哉―化膜を少く
とも前記の第2の部分の上面上に延在させるのが好まし
く、前記の金−化膜は第8の部分の側面を越えて基板上
に延在させることもできる。また、…1紀の第2検出素
子は、htm+体からドth111本体の前記の2部分
のうちの第2の部分のF面Eにおける前記の金部化膜ま
での金−化膜一統体をも旬゛するようにするのが好まし
い。間隙を橋絡するhtm苓体は金属化膜接続体をF一
本体の第2の部分のヒ向に案内し、上側本体のこの第2
の部分は金−化膜接続体を基板に案内しつる支持段部と
して作用する。従って、この金属化wk接続捧Gこ吋し
て厚内な金属化膜を用いる必要がなく、また上側の第2
検出素子からの金属化tam続俸を8つの処理工程(1
つは下一本体の金属化膜に対する工程、池の1つはI:
、側本体の金属化膜に′対する工+4)で設けつる為、
標準の金4堆檀技術を用いて、f:圃およびドtill
l杢体の側面に生じる構造的な段部に良好な金Ps破涜
を得ることができる。
出素子と関連する金属化膜を有し、この哉―化膜を少く
とも前記の第2の部分の上面上に延在させるのが好まし
く、前記の金−化膜は第8の部分の側面を越えて基板上
に延在させることもできる。また、…1紀の第2検出素
子は、htm+体からドth111本体の前記の2部分
のうちの第2の部分のF面Eにおける前記の金部化膜ま
での金−化膜一統体をも旬゛するようにするのが好まし
い。間隙を橋絡するhtm苓体は金属化膜接続体をF一
本体の第2の部分のヒ向に案内し、上側本体のこの第2
の部分は金−化膜接続体を基板に案内しつる支持段部と
して作用する。従って、この金属化wk接続捧Gこ吋し
て厚内な金属化膜を用いる必要がなく、また上側の第2
検出素子からの金属化tam続俸を8つの処理工程(1
つは下一本体の金属化膜に対する工程、池の1つはI:
、側本体の金属化膜に′対する工+4)で設けつる為、
標準の金4堆檀技術を用いて、f:圃およびドtill
l杢体の側面に生じる構造的な段部に良好な金Ps破涜
を得ることができる。
第1検出素子は、上側本体のI!tr紀の第1の部分カ
)ら礒板に延在f6m禰化膜より成る磁気接続体を奮す
るようにするのが好ましい。第1検出素子のこのような
金属化#接続体は下48本体の前記の第1の部分の側面
を越えて延在させることができ、ym+体の第2の部分
上の金属化膜と同じ処理工程で設けることができる。従
って、ワイヤボンディング、その池の処理により検出素
子特性に劣化を与えることなく@1および第241出素
子の双方に基板のレベルで11m的に従続−の**を行
なうことができ′る。基板がu1号処11d路f:iす
る場合には、第1および!2#出gfの双方の金属化膜
従続体を基板回路の一点に直1!巌続することができる
。
)ら礒板に延在f6m禰化膜より成る磁気接続体を奮す
るようにするのが好ましい。第1検出素子のこのような
金属化#接続体は下48本体の前記の第1の部分の側面
を越えて延在させることができ、ym+体の第2の部分
上の金属化膜と同じ処理工程で設けることができる。従
って、ワイヤボンディング、その池の処理により検出素
子特性に劣化を与えることなく@1および第241出素
子の双方に基板のレベルで11m的に従続−の**を行
なうことができ′る。基板がu1号処11d路f:iす
る場合には、第1および!2#出gfの双方の金属化膜
従続体を基板回路の一点に直1!巌続することができる
。
F側本体の前記の第2の部分がt側第2検出素子に対す
る1つよりも多い電気接続体を有するようにすることが
できるも、この場合には、各接続体に対する別個の金属
化パターンをF側本体の前記の第2の部分の上に形成す
る必要がある0このようにすると、特にj:、側および
F側本体の各々に検出素子の配列を形成する際に形状お
よび位置決めに関して検出器のdaを榎維にするおそれ
がある0 4に発明による好適な形態では、′FtIl*体が、上
側本体によって橋絡された池の間隙によって第1の部分
から分lImされた第3の部分をも有し、この第8の部
分を第2検出素子に対する他の磁気接続体と関1!!さ
せる。好ましくは、前記のF側本体のlJg記の第8の
部分が、第2JpA出素子への他の電気接続体の一部を
形成する金4化膜1有し、この金に化膜を少くともこの
第8の部分のL圓上に延在させ、(更に好ましくはこの
第8の部分の側面を越えて基板上に延在させ、)第2検
出素子が、LIMl14:体から下91苓体の第8の部
分の丘■における前記の金属化膜への金−化膜接続体を
有し、これにより第2検出素子から基板への前記の他の
電気接続体を形成TるようにTる。このdI戎によれば
、#造中のwI続体の整形および位置決めを簡単にする
ことができる。その理由は、ドm本体の第1Bオよび第
8の部分がそれぞれ、各別の第3および第8の部分のE
面全体(および−面)を被覆しつる金−化膜より成る1
つの接続体f:有するようにするqとができ、E記の一
*14化膜はド一本体の@1の部分から#!I2および
@80部分をす離Tる為の+4111i形収するのに用
いるのと同じ処理ニーで整形しつる為Cある。
る1つよりも多い電気接続体を有するようにすることが
できるも、この場合には、各接続体に対する別個の金属
化パターンをF側本体の前記の第2の部分の上に形成す
る必要がある0このようにすると、特にj:、側および
F側本体の各々に検出素子の配列を形成する際に形状お
よび位置決めに関して検出器のdaを榎維にするおそれ
がある0 4に発明による好適な形態では、′FtIl*体が、上
側本体によって橋絡された池の間隙によって第1の部分
から分lImされた第3の部分をも有し、この第8の部
分を第2検出素子に対する他の磁気接続体と関1!!さ
せる。好ましくは、前記のF側本体のlJg記の第8の
部分が、第2JpA出素子への他の電気接続体の一部を
形成する金4化膜1有し、この金に化膜を少くともこの
第8の部分のL圓上に延在させ、(更に好ましくはこの
第8の部分の側面を越えて基板上に延在させ、)第2検
出素子が、LIMl14:体から下91苓体の第8の部
分の丘■における前記の金属化膜への金−化膜接続体を
有し、これにより第2検出素子から基板への前記の他の
電気接続体を形成TるようにTる。このdI戎によれば
、#造中のwI続体の整形および位置決めを簡単にする
ことができる。その理由は、ドm本体の第1Bオよび第
8の部分がそれぞれ、各別の第3および第8の部分のE
面全体(および−面)を被覆しつる金−化膜より成る1
つの接続体f:有するようにするqとができ、E記の一
*14化膜はド一本体の@1の部分から#!I2および
@80部分をす離Tる為の+4111i形収するのに用
いるのと同じ処理ニーで整形しつる為Cある。
本発明は待に上ll1llj5よσF一本棒内の検出素
子配列の4気接続体t−杉或するのに有効である。従っ
て例えばye鴫導模出素子の場合には、下uIli本体
が前記の@1 (Dd分の配列を有し、これら爾lの品
分の4々が第1検出嵩子を有するようにすることができ
る。光起−力検出嵩子の場きには、第1検出襦子を前記
の第1の部分の配列内に或いは共面の槁lの部分内に形
成することができる。検出素子が′ft、電導性である
か光起電力性であるかに〃)かわらず、−F @ 本体
が、上側の配列の第2+IJ1出素子に対する各別の磁
気接続体に対する喫教個の互いに分電された@2の部分
と、第2検出素子の配列に対する共曲接続体を形成する
少くとも1つの共曲の第8の部分とを嫉えるようにする
ことができる。共面の第8の部分を用いることにより、
埒にq、いに分離された第2の部分の俣数閲をドー亭俸
の第1検出素子の配列の一方の側に沿って配置し、共曲
の第3の部分を第1検出素子の配列の横側に位1tさせ
た場合に、幾何学的なレイアウトが容易になる。
子配列の4気接続体t−杉或するのに有効である。従っ
て例えばye鴫導模出素子の場合には、下uIli本体
が前記の@1 (Dd分の配列を有し、これら爾lの品
分の4々が第1検出嵩子を有するようにすることができ
る。光起−力検出嵩子の場きには、第1検出襦子を前記
の第1の部分の配列内に或いは共面の槁lの部分内に形
成することができる。検出素子が′ft、電導性である
か光起電力性であるかに〃)かわらず、−F @ 本体
が、上側の配列の第2+IJ1出素子に対する各別の磁
気接続体に対する喫教個の互いに分電された@2の部分
と、第2検出素子の配列に対する共曲接続体を形成する
少くとも1つの共曲の第8の部分とを嫉えるようにする
ことができる。共面の第8の部分を用いることにより、
埒にq、いに分離された第2の部分の俣数閲をドー亭俸
の第1検出素子の配列の一方の側に沿って配置し、共曲
の第3の部分を第1検出素子の配列の横側に位1tさせ
た場合に、幾何学的なレイアウトが容易になる。
本発明の第2の見地による方法では、赤外線放射検出器
をtlllaするに当り、基板上に赤外S感応材料より
収り分111LI!れていないF側本体を装着し、F[
tl11本体上とこのF一本体を越えた基板上とに金−
化膜パターンを設け、F側本体の厚ざ全体に巨るイオン
腐食によりこのドtllli+体に1つ以上の間隙をル
収することによりこの−F側本体をその一教個の部分に
分11 L、 、その優に、分割されているド一本体1
にF11111本体を装着し、この上一本体に、第2検
出素子に対する磁気接続体を形成する為の金属化−を設
けることを#鐘とする。イオン腐食を用いることにより
、分離された部分1聞の間隙を櫓めて狭くすることがで
きるとともに、これらの部分の1則壁を鳩、峻にするこ
とができる(横方向の腐食が極めてわずかである為)。
をtlllaするに当り、基板上に赤外S感応材料より
収り分111LI!れていないF側本体を装着し、F[
tl11本体上とこのF一本体を越えた基板上とに金−
化膜パターンを設け、F側本体の厚ざ全体に巨るイオン
腐食によりこのドtllli+体に1つ以上の間隙をル
収することによりこの−F側本体をその一教個の部分に
分11 L、 、その優に、分割されているド一本体1
にF11111本体を装着し、この上一本体に、第2検
出素子に対する磁気接続体を形成する為の金属化−を設
けることを#鐘とする。イオン腐食を用いることにより
、分離された部分1聞の間隙を櫓めて狭くすることがで
きるとともに、これらの部分の1則壁を鳩、峻にするこ
とができる(横方向の腐食が極めてわずかである為)。
またイオン腐食によれば、分離された部分の金4化膜を
、F側本体のこれらの分離された部分を整形するのと同
じ工4で整形することができ、この方法は特に構命を極
めてコンパクトにTるのに便利である。更に本発明によ
るこの方法は欧州特許公開@0007668号公報(#
開閉55−489529j公報に相当)に開示されてい
る検出f千の配列を一4fる方法に匹敵しつるものであ
り、この欧州待針公開公報の全内容jjr:本明細−で
参照Tる、図中の各部の寸法は実際のものに比例するも
のではなく、説明の都合上誇張して示しである部分があ
る。特に第8図の断面図においては、棹々の層の゛央際
の厚さは横方向の寸法に比べて図面に示すよりもより一
層薄いものである。
、F側本体のこれらの分離された部分を整形するのと同
じ工4で整形することができ、この方法は特に構命を極
めてコンパクトにTるのに便利である。更に本発明によ
るこの方法は欧州特許公開@0007668号公報(#
開閉55−489529j公報に相当)に開示されてい
る検出f千の配列を一4fる方法に匹敵しつるものであ
り、この欧州待針公開公報の全内容jjr:本明細−で
参照Tる、図中の各部の寸法は実際のものに比例するも
のではなく、説明の都合上誇張して示しである部分があ
る。特に第8図の断面図においては、棹々の層の゛央際
の厚さは横方向の寸法に比べて図面に示すよりもより一
層薄いものである。
第1〜8図の赤外線放射検出器は下側検出素子本体11
・12.18上に装着された上側検出素子本体21を有
しており、下側検出集子本体自体は基板1上に8石され
ている。基板1は例えば光学的に研磨したサファイアを
以って構成することかできる。下側検出素子本体11・
12・18は赤外線感応材料(好ましくはテルル化水銀
カドミウム)から造り、これを例えば絶縁性のエホキシ
糸接着剤の薄肉N8により基板lに固着する。同様に上
側検出素子本体2.1を赤外線感応材料(好ましくはテ
ルル化水銀カドミウム)から造り、これを例えば絶縁性
のエポキシ糸接着剤の他の薄肉層9により下側検出素子
本体11.12.18に固着する占 下側検出素子本体内には、各々が活性領域10を有する
第】赤外線放射検出素子が存在し、−万上側検出素子本
体21は、各々が活性領域20を吻する第2赤外線放射
検出素子を具えている。第1〜8図に一例として示す特
定例では、I@1および第2検出素子10および20の
双方をそれぞれ4つの素子の1次配列に配置する。活性
領域10および20の各々は例えば50μmxaoμm
の大きさとすることができる。第1検邑素子lOの各々
はvIL気接続体4および6を有し、−万第2検出素子
20の各々は電気接続体2.22・82および8.28
、δ8を有する。
・12.18上に装着された上側検出素子本体21を有
しており、下側検出集子本体自体は基板1上に8石され
ている。基板1は例えば光学的に研磨したサファイアを
以って構成することかできる。下側検出素子本体11・
12・18は赤外線感応材料(好ましくはテルル化水銀
カドミウム)から造り、これを例えば絶縁性のエホキシ
糸接着剤の薄肉N8により基板lに固着する。同様に上
側検出素子本体2.1を赤外線感応材料(好ましくはテ
ルル化水銀カドミウム)から造り、これを例えば絶縁性
のエポキシ糸接着剤の他の薄肉層9により下側検出素子
本体11.12.18に固着する占 下側検出素子本体内には、各々が活性領域10を有する
第】赤外線放射検出素子が存在し、−万上側検出素子本
体21は、各々が活性領域20を吻する第2赤外線放射
検出素子を具えている。第1〜8図に一例として示す特
定例では、I@1および第2検出素子10および20の
双方をそれぞれ4つの素子の1次配列に配置する。活性
領域10および20の各々は例えば50μmxaoμm
の大きさとすることができる。第1検邑素子lOの各々
はvIL気接続体4および6を有し、−万第2検出素子
20の各々は電気接続体2.22・82および8.28
、δ8を有する。
下側検出素子棒体11・12・】δ上の上側検出素子本
体21およびその検出素子の各々の配置は、活性領域2
0が″F@検出素子本体の各検出素子活性領域10を置
うよ−うな配置とする。この構成は特に、赤外線放射が
上側検出素子本体21の上側面に入射される2色検出器
に用いられ、上鉤検出菓子本体21の材料は水銀に対す
るカドミウムのモル比が下1111 M出素子本体11
.12・18よりも高い材料として、第1検出素子】0
が上側検出素子本体21を重過した波長の長い放射を検
出するようにするう特定例では、第1〜8図の検出器が
前述した文献の章′″N −colour (Hg 、
Cd)TePhotodetectors ”に記載
されティる波長特性、に類似の波長特性を有するように
することができる。この場合、上側検出素子本体21を
約8・8μmの遮断波長を有するCdOllIHgO,
?8Teから造り、その厚さを約8μmとすることがで
き、−万下個検出素子本体11.12.13を約11p
m6D遮断波長を有するCd0.lllHg0.’F9
Teから造り、その厚さを約8μmとすることができる
。この特定例テハ、エポキシ系接着剤層8および9の各
々の厚さを0.5μmとすることができる。
体21およびその検出素子の各々の配置は、活性領域2
0が″F@検出素子本体の各検出素子活性領域10を置
うよ−うな配置とする。この構成は特に、赤外線放射が
上側検出素子本体21の上側面に入射される2色検出器
に用いられ、上鉤検出菓子本体21の材料は水銀に対す
るカドミウムのモル比が下1111 M出素子本体11
.12・18よりも高い材料として、第1検出素子】0
が上側検出素子本体21を重過した波長の長い放射を検
出するようにするう特定例では、第1〜8図の検出器が
前述した文献の章′″N −colour (Hg 、
Cd)TePhotodetectors ”に記載
されティる波長特性、に類似の波長特性を有するように
することができる。この場合、上側検出素子本体21を
約8・8μmの遮断波長を有するCdOllIHgO,
?8Teから造り、その厚さを約8μmとすることがで
き、−万下個検出素子本体11.12.13を約11p
m6D遮断波長を有するCd0.lllHg0.’F9
Teから造り、その厚さを約8μmとすることができる
。この特定例テハ、エポキシ系接着剤層8および9の各
々の厚さを0.5μmとすることができる。
第1〜8図に示す・第1および第2検出累子は、活性領
域10および20が金属層4および5より成る関連の離
間電極間にまた*m一層2および28より成る関連の離
間電極間に位置するテルル化水銀カドミウムの放射感応
領域を以ってそれぞれm成されているn型のテルル化水
銀カドミウムの光導電素子である。前述した欧州特許出
願公開第0007668号公報(特開昭65−4895
1号公報)に記載されている技術に類似の技術であって
本例の第8図の断面図に示すような技術を用いて、これ
らの検出菓子に、わずかにメサ型とした活性領域101
20と、下側および下側検出菓子本体1]、IS1.1
8および21の丸みのついた縁部上に延在する電極金属
#4.6および22゜28とを形成することができる。
域10および20が金属層4および5より成る関連の離
間電極間にまた*m一層2および28より成る関連の離
間電極間に位置するテルル化水銀カドミウムの放射感応
領域を以ってそれぞれm成されているn型のテルル化水
銀カドミウムの光導電素子である。前述した欧州特許出
願公開第0007668号公報(特開昭65−4895
1号公報)に記載されている技術に類似の技術であって
本例の第8図の断面図に示すような技術を用いて、これ
らの検出菓子に、わずかにメサ型とした活性領域101
20と、下側および下側検出菓子本体1]、IS1.1
8および21の丸みのついた縁部上に延在する電極金属
#4.6および22゜28とを形成することができる。
更に、図面を簡潔とする為に第8図に実動に示していな
いが、活性領域10および20の上面と、下側および上
側検出菓子本体11.12.18および2】の底面全体
とを一般に既知のようにして、例えば陽極酸化物層で表
面安定化する。また、下側検出菓子本体21の上面全体
に亘って且つエポキシ系接着剤漸9の下・側の下側検出
素子本体部分】1上に反射防止被膜を設けることもでき
る。
いが、活性領域10および20の上面と、下側および上
側検出菓子本体11.12.18および2】の底面全体
とを一般に既知のようにして、例えば陽極酸化物層で表
面安定化する。また、下側検出菓子本体21の上面全体
に亘って且つエポキシ系接着剤漸9の下・側の下側検出
素子本体部分】1上に反射防止被膜を設けることもでき
る。
次に、上側検出素子本体21をFO1羨出索出素子本体
112.18上に装着し、電気接続体2・22.82お
よび+3.28.218を第2検出秦子側検出費子本体
は間@14および15により別個の第1.第2および第
8部分11.1S!および18に分割する。活性領域を
含み、横方向の基部によって一体に連結された4つの歯
部の配列(アGイ)を有するくし型部の第1部分11内
に第1検出素子10を形成する。基部および歯部の丸み
のついた縁部を越えて基板】−ヒに、また下側検出菓子
本体11.12.18を越えてm極金属化膜4および5
分延在させて電気接続体を形成し、これら電気接続体に
、下側検出素子本体11.12゜18を越えた基板】上
で接M線(ワイヤ)を接着しつるようにする。
112.18上に装着し、電気接続体2・22.82お
よび+3.28.218を第2検出秦子側検出費子本体
は間@14および15により別個の第1.第2および第
8部分11.1S!および18に分割する。活性領域を
含み、横方向の基部によって一体に連結された4つの歯
部の配列(アGイ)を有するくし型部の第1部分11内
に第1検出素子10を形成する。基部および歯部の丸み
のついた縁部を越えて基板】−ヒに、また下側検出菓子
本体11.12.18を越えてm極金属化膜4および5
分延在させて電気接続体を形成し、これら電気接続体に
、下側検出素子本体11.12゜18を越えた基板】上
で接M線(ワイヤ)を接着しつるようにする。
俵数個の住いに分離した第2部分12は第1検出・素子
10の配列の一方の側に沿って配置するとともに間隙】
4により第1部分11から分離させる0第2部分12の
各々は上側検出素子本体21の輌2検出素子20に対す
る各別の電気接続体と関連する。下側検出素子本体11
.12.18の2つの第1部分18は第1検出素子10
の配列の横側に位置させるとともに間11i15により
第1IN分l】から分離させる。これら2つの第8部分
18は襖2慎出素子2oの配列に対する共通接続部と関
連する。
10の配列の一方の側に沿って配置するとともに間隙】
4により第1部分11から分離させる0第2部分12の
各々は上側検出素子本体21の輌2検出素子20に対す
る各別の電気接続体と関連する。下側検出素子本体11
.12.18の2つの第1部分18は第1検出素子10
の配列の横側に位置させるとともに間11i15により
第1IN分l】から分離させる。これら2つの第8部分
18は襖2慎出素子2oの配列に対する共通接続部と関
連する。
下側検出菓子本体21も、活性領域2oを含み横方向の
基部により一体に連結された4つの歯部の配列を有する
くし型とする。この本体2】は下側検出素子本体の各別
の第1.第2および第aF!VS分11.1gおよび1
8のすべてにより支持するとともに、上側検出菓子本体
2】お歯部の端部に0、D、EおよびFで示した領域が
下IMIl検出−素子本体の第2部分12の同様な領域
(3,D、EおよびFの上方に位置し、且つ上側検出素
子本体21の基部の端部にAおよびBで示す領域が下@
検出素子本体]1・12・1aの第8部分18の同様な
領域AおよびBの上方に位置するように配置する。従っ
て、上側検出素子本体g1が間隙14を橋絡し、各第2
検出集子20の電極蓋−化膜22を対応する第2部分1
2の上[il[Iまで案内し、且っ間11115をも橋
絡し、検出素子20の配列の共通電極金属化喚28を2
つの第8部分18の上面まで案内する。
基部により一体に連結された4つの歯部の配列を有する
くし型とする。この本体2】は下側検出素子本体の各別
の第1.第2および第aF!VS分11.1gおよび1
8のすべてにより支持するとともに、上側検出菓子本体
2】お歯部の端部に0、D、EおよびFで示した領域が
下IMIl検出−素子本体の第2部分12の同様な領域
(3,D、EおよびFの上方に位置し、且つ上側検出素
子本体21の基部の端部にAおよびBで示す領域が下@
検出素子本体]1・12・1aの第8部分18の同様な
領域AおよびBの上方に位置するように配置する。従っ
て、上側検出素子本体g1が間隙14を橋絡し、各第2
検出集子20の電極蓋−化膜22を対応する第2部分1
2の上[il[Iまで案内し、且っ間11115をも橋
絡し、検出素子20の配列の共通電極金属化喚28を2
つの第8部分18の上面まで案内する。
相互接続用の蓋属P/IJ8Saは上側検出素子本体2
1の各検出集子20の各別の電極酋属化膜22からこれ
に対応する第2部分12の上面における金属化膜2まで
延在させる。征属化膜2は第2部分12の上面から側面
を越えて基板1上に延在させる。従って、下011検出
素子本体11.12・18の6第2部分]2は、並鵬化
膜接続体2・22.82を上側検出素子本体2】から基
板1まで案内する支持段部として作用する。従って、接
続線を、本体21上でのワイヤボンディングを行なわず
に基板l上で直接蛍鵬化膜2に容易に接着しうる。
1の各検出集子20の各別の電極酋属化膜22からこれ
に対応する第2部分12の上面における金属化膜2まで
延在させる。征属化膜2は第2部分12の上面から側面
を越えて基板1上に延在させる。従って、下011検出
素子本体11.12・18の6第2部分]2は、並鵬化
膜接続体2・22.82を上側検出素子本体2】から基
板1まで案内する支持段部として作用する。従って、接
続線を、本体21上でのワイヤボンディングを行なわず
に基板l上で直接蛍鵬化膜2に容易に接着しうる。
同様に、相互接続用の徒属層88を共通電1m爺属化膜
28から金属化膜8まで延在させる。この並^化膜3は
第8部分】8の上面に存在するとともに側面を越えて基
板】上に延在する。従って第8部分18も共通並属化#
8.28.88を上側検出菓子本体21から基板1fで
案内する支持段部として作用し、基板1上で接H!Iを
容易に接着しうる。
28から金属化膜8まで延在させる。この並^化膜3は
第8部分】8の上面に存在するとともに側面を越えて基
板】上に延在する。従って第8部分18も共通並属化#
8.28.88を上側検出菓子本体21から基板1fで
案内する支持段部として作用し、基板1上で接H!Iを
容易に接着しうる。
本体11.12.18および21上の並属化膜2・8.
4・5.22および88は、欧州特許出願公開第000
71168号公報(特開昭56−48952号公報)に
記載されているように約0.6μmの厚さの金−クロム
層とすることができる。相互接続層82および88は約
0.5μmの厚さの菫とすることができる。このような
層2・8 、4 、5゜22゜2δ、δ2およびδ8は
標準の並属堆積技術により形成しつる。第1〜8図の検
出器は第1および5図につき説明するように、本発明の
第2の見地に応じた方法であって上記の欧州特許出願公
開公報に記載された検出集子配刊の製造方決に匹敵しつ
る方法によって製造するのが好ましい。
4・5.22および88は、欧州特許出願公開第000
71168号公報(特開昭56−48952号公報)に
記載されているように約0.6μmの厚さの金−クロム
層とすることができる。相互接続層82および88は約
0.5μmの厚さの菫とすることができる。このような
層2・8 、4 、5゜22゜2δ、δ2およびδ8は
標準の並属堆積技術により形成しつる。第1〜8図の検
出器は第1および5図につき説明するように、本発明の
第2の見地に応じた方法であって上記の欧州特許出願公
開公報に記載された検出集子配刊の製造方決に匹敵しつ
る方法によって製造するのが好ましい。
この方法では、4つの@部すべてで丸みをつけた上側縁
を有し、正方形成いは長方形で分割されていない下側検
出素子本体11.12.18を接着剤層8により基板1
上に装着する。次に本体1’l 、、1 g 、 1δ
上と、この本体を越えた基板lの並属化膜パターンは、
活性領域10が形成されている本体の・領域の両側にあ
る分陰されている部分84およびa5を以って構成する
(第4図参照)。
を有し、正方形成いは長方形で分割されていない下側検
出素子本体11.12.18を接着剤層8により基板1
上に装着する。次に本体1’l 、、1 g 、 1δ
上と、この本体を越えた基板lの並属化膜パターンは、
活性領域10が形成されている本体の・領域の両側にあ
る分陰されている部分84およびa5を以って構成する
(第4図参照)。
これらiつの部分84およびδbを分離する細条状の間
隙も本体11.12・1δを越えて基板lを横切るよう
に延在させる。蓋属化パターン84・δ5は前記の欧州
特許出願公開公報に記載されているようにフォトレジス
トリフトオフ技術により境W限定を行なうことができ、
蓋属化膜を堆積するr+1にフォトレジストの細条体を
イオン腐食マスクとして用いて活性領域】0をわずかに
メサ形状となるようにすることができる。
隙も本体11.12・1δを越えて基板lを横切るよう
に延在させる。蓋属化パターン84・δ5は前記の欧州
特許出願公開公報に記載されているようにフォトレジス
トリフトオフ技術により境W限定を行なうことができ、
蓋属化膜を堆積するr+1にフォトレジストの細条体を
イオン腐食マスクとして用いて活性領域】0をわずかに
メサ形状となるようにすることができる。
蓋−化膜パターン8’4.85を形成した後、本体11
.12.121をその各別の部分および各別の検出素子
に分割するとともに金属化パターン84.85を部分2
.8.41?よび5に分割する工程の為に、より一層俵
雑な形状のフォトレジストマスク86(第5図参照)を
設ける。次に、本体11.12.18および金属化膜パ
ターン84゜85の分割を前記の欧州特許出願公開公報
に記載されているようにイオン腐食により同時に行なう
ことができ、間隙14および15は、本体の第1部分1
1内に形成された検出素子の各別の活性領域10間に延
在する互いに平行な溝と同時に形成される。従って、フ
ォトレジストマスク86は、第1部分11とその金員化
膜接続体令および6との所望パターンに相当する<L、
all[と、第2部分12とこれらの金属化#8との所
望パターンに相当する4つの各別の互いに平行な細条部
分と、第1部分11とこれらの金属化#8との所望パタ
ーンに相当する2つの他の部分とを有するようにする。
.12.121をその各別の部分および各別の検出素子
に分割するとともに金属化パターン84.85を部分2
.8.41?よび5に分割する工程の為に、より一層俵
雑な形状のフォトレジストマスク86(第5図参照)を
設ける。次に、本体11.12.18および金属化膜パ
ターン84゜85の分割を前記の欧州特許出願公開公報
に記載されているようにイオン腐食により同時に行なう
ことができ、間隙14および15は、本体の第1部分1
1内に形成された検出素子の各別の活性領域10間に延
在する互いに平行な溝と同時に形成される。従って、フ
ォトレジストマスク86は、第1部分11とその金員化
膜接続体令および6との所望パターンに相当する<L、
all[と、第2部分12とこれらの金属化#8との所
望パターンに相当する4つの各別の互いに平行な細条部
分と、第1部分11とこれらの金属化#8との所望パタ
ーンに相当する2つの他の部分とを有するようにする。
腐食後、フォトレジストマスク86は除去する。
次に、上側検出素子本体21をエポキシ系接着剤111
19により、分−jされている下■検出素子本体の部分
11.12.18上に装着する。次に少くとも相互接続
用の金属化膜δ2・δ8を設けて第2検出素F−20に
対する電気11’#体を形成する。
19により、分−jされている下■検出素子本体の部分
11.12.18上に装着する。次に少くとも相互接続
用の金属化膜δ2・δ8を設けて第2検出素F−20に
対する電気11’#体を形成する。
上側検出素子本体21は下側検出素子本体11゜12.
18上に装着する前に、くし型に腐食形成するとともに
その電極金属化ys22・28を設けるのが好ましい。
18上に装着する前に、くし型に腐食形成するとともに
その電極金属化ys22・28を設けるのが好ましい。
これにより、大きな起伏形状の為に問題を生じるような
、下側検出素子本体11・12.18の上面上での第2
検出素子に対する臨界的な形状形成工程を行なわないで
すむようにする。従って、本体21を仮の基板上にのみ
存在させ、金属化f422.28をこの仮の基板上に延
在させず、次に噴出素子20を形成した本体21をこの
仮の基板から取外して検出器の下側検出素子本体11,
121.18上に装着するということを除いて、本体2
1を形状形成したり、その金属化#22.23を設けた
り、検出素子20を形成したりするのは前記の欧州特許
出願公開公報に記載されている方法と類似の方法で行な
うのが好ましい。し7かし、)?r望に応じ、1!極金
属化膜22゜88は本体21を本体11”、 12 、
1’a上に装着した後に設けたり、相互接続用の部分8
2.88と一体の層で形成することもできる。
、下側検出素子本体11・12.18の上面上での第2
検出素子に対する臨界的な形状形成工程を行なわないで
すむようにする。従って、本体21を仮の基板上にのみ
存在させ、金属化f422.28をこの仮の基板上に延
在させず、次に噴出素子20を形成した本体21をこの
仮の基板から取外して検出器の下側検出素子本体11,
121.18上に装着するということを除いて、本体2
1を形状形成したり、その金属化#22.23を設けた
り、検出素子20を形成したりするのは前記の欧州特許
出願公開公報に記載されている方法と類似の方法で行な
うのが好ましい。し7かし、)?r望に応じ、1!極金
属化膜22゜88は本体21を本体11”、 12 、
1’a上に装着した後に設けたり、相互接続用の部分8
2.88と一体の層で形成することもできる。
本発明は上述した例の轟に限定されず、幾多の変更を加
えうろこと勿論である。金員化[2および8は第1検出
素子1θの電極金属化膜4および5と同時に下側検出素
子本体の第2および第8部分11および18上に設ける
のが有利であり便利であるが、必ずしもこのようにする
必要はない。
えうろこと勿論である。金員化[2および8は第1検出
素子1θの電極金属化膜4および5と同時に下側検出素
子本体の第2および第8部分11および18上に設ける
のが有利であり便利であるが、必ずしもこのようにする
必要はない。
従って、第2および第8部分12および18の上面の丸
みのついた縁部上およびその側面上に延在し且つ基板1
上に延在する金属化膜を、本体21を下側検出素子本体
11.1!、18上に装着した後に相互接続用の部分8
2・δ8と一体に形成することができる。また、金属化
膜2および8は部分】2および18の上面のみに限定す
ることができ、接続線(ワイーY)の接続を第1横出素
子に損傷を与えることなく部分12および18上で直接
金属化膜2および8に行なうことができる。その理由は
、部分】2および】3は検出素子】0を有する部分11
から離間されている為である。更に、部分12および1
8が金属化されることなく充分に大きな導電性を有する
場合には、下側検出素子本体のこれらの部分12および
18自体を以つて上側の電極22および28から基板l
への電気接続体を構成することができる。
みのついた縁部上およびその側面上に延在し且つ基板1
上に延在する金属化膜を、本体21を下側検出素子本体
11.1!、18上に装着した後に相互接続用の部分8
2・δ8と一体に形成することができる。また、金属化
膜2および8は部分】2および18の上面のみに限定す
ることができ、接続線(ワイーY)の接続を第1横出素
子に損傷を与えることなく部分12および18上で直接
金属化膜2および8に行なうことができる。その理由は
、部分】2および】3は検出素子】0を有する部分11
から離間されている為である。更に、部分12および1
8が金属化されることなく充分に大きな導電性を有する
場合には、下側検出素子本体のこれらの部分12および
18自体を以つて上側の電極22および28から基板l
への電気接続体を構成することができる。
−次の配列の検出素子10および20の個数は増やした
り減らしたりすることができ、全く異なる形状構成のも
のを用いることもできる。従って、各配列は一次の配列
とせずに蛇行配列或いは二次元マトリックス配列とする
ことができ、また本発明は1情および下側検出素子本体
の各々に1個の検出素子を設ける場合にも用いつる、こ
れらの各々の場合、第1.第2および第8部分11・1
2および18やこれらの、金属化膜接続体のレイアウト
および寸法を適当に設計しなおす必要がある。
り減らしたりすることができ、全く異なる形状構成のも
のを用いることもできる。従って、各配列は一次の配列
とせずに蛇行配列或いは二次元マトリックス配列とする
ことができ、また本発明は1情および下側検出素子本体
の各々に1個の検出素子を設ける場合にも用いつる、こ
れらの各々の場合、第1.第2および第8部分11・1
2および18やこれらの、金属化膜接続体のレイアウト
および寸法を適当に設計しなおす必要がある。
上側および下側検出素子本体の検出素子は光導電素子と
する代りに光起電力性のp−n接合素子とすることがで
き、特にこの場合には、検出素子の共通&I!紗を金−
化や導電性のエポキシ樹脂の局部領域によって本体の底
面で行なうことができる。またこの場合には、上側検出
素子本体の裏面の一部をF[検出素子本体の検出素子部
分に電気的に接続し、例えば分割された下側検出素子本
体の第8共通部分をある検出素子の配置の場合に省略す
るようにすることができる。また清面を越えて延・在す
る金属化膜の層を用いずに、双方の検出素子本体のあら
ゆる電気171Mを双方の本体21および11、Ig、
]aの底面における金属化膜の列によって行なうことが
できる。しかし、一般的には、検出素子のあらゆる電気
接続を本体の同じ上面で行なう場合には4’1iffl
器の構成が容易となる。
する代りに光起電力性のp−n接合素子とすることがで
き、特にこの場合には、検出素子の共通&I!紗を金−
化や導電性のエポキシ樹脂の局部領域によって本体の底
面で行なうことができる。またこの場合には、上側検出
素子本体の裏面の一部をF[検出素子本体の検出素子部
分に電気的に接続し、例えば分割された下側検出素子本
体の第8共通部分をある検出素子の配置の場合に省略す
るようにすることができる。また清面を越えて延・在す
る金属化膜の層を用いずに、双方の検出素子本体のあら
ゆる電気171Mを双方の本体21および11、Ig、
]aの底面における金属化膜の列によって行なうことが
できる。しかし、一般的には、検出素子のあらゆる電気
接続を本体の同じ上面で行なう場合には4’1iffl
器の構成が容易となる。
また上側検出素子本体上に第8の検出素子本体を装着し
て例えば8色検出器を形成することができる。この場合
には、下から2番目のレベルにある$2横検素子本体を
第8検出素子本体によって橋絡される1つ以上の間隙に
よって各別の部分に分割でき、これらの各別の部分を以
って第1横出素子本体の検出素子への金属化膜接続体に
対する1つ以上の支持段部を11成することができ、一
番下側の第1横出素子本体を追加の別個の部分(すなわ
ち第1.第2および第8部分11.12および18以外
の追加の部分)に分割して一番上の第8検出素子杢゛体
と関連する接続体に対する一番下のレベルでの支持段部
を形成するようにでき、第1図とは巣なる構成のレイア
ウトを用いることができる。また本発明は、厚肉の上側
検出素子本体と同じバンドギャップ(従って同じ遮蔽波
長)の薄肉の上側検出素子本体を有する一色検出器に用
いることもでき、この−色検出器は、広いスペクトル範
囲内の未知の輝線放射源(1ine 5ource )
の波長を解析する為に前記の米国特許第8987298
号明細書に記載された方法に類似の方法で作動しつる。
て例えば8色検出器を形成することができる。この場合
には、下から2番目のレベルにある$2横検素子本体を
第8検出素子本体によって橋絡される1つ以上の間隙に
よって各別の部分に分割でき、これらの各別の部分を以
って第1横出素子本体の検出素子への金属化膜接続体に
対する1つ以上の支持段部を11成することができ、一
番下側の第1横出素子本体を追加の別個の部分(すなわ
ち第1.第2および第8部分11.12および18以外
の追加の部分)に分割して一番上の第8検出素子杢゛体
と関連する接続体に対する一番下のレベルでの支持段部
を形成するようにでき、第1図とは巣なる構成のレイア
ウトを用いることができる。また本発明は、厚肉の上側
検出素子本体と同じバンドギャップ(従って同じ遮蔽波
長)の薄肉の上側検出素子本体を有する一色検出器に用
いることもでき、この−色検出器は、広いスペクトル範
囲内の未知の輝線放射源(1ine 5ource )
の波長を解析する為に前記の米国特許第8987298
号明細書に記載された方法に類似の方法で作動しつる。
本発明は特に、テルル化水銀カドミウムの積層の検出素
子本体に誘起されるひずみの問題を軽減するのに有利で
あるが、本発明による検出器は、他の赤外1IJl!i
a応半導体材料、例えばテルル化錫鉛のような他の三元
系のカルフゲン化金属間化合物、或いは例えば硫化鉛ま
たはアンチモン化インジウムのような二元化合物、或い
は珪素より成る少くとも1つの本体を有するようにする
ことができる。
子本体に誘起されるひずみの問題を軽減するのに有利で
あるが、本発明による検出器は、他の赤外1IJl!i
a応半導体材料、例えばテルル化錫鉛のような他の三元
系のカルフゲン化金属間化合物、或いは例えば硫化鉛ま
たはアンチモン化インジウムのような二元化合物、或い
は珪素より成る少くとも1つの本体を有するようにする
ことができる。
下側および上側検出素子の材料や組成は、異なる検出素
子10および20が異なる大気の室(atomO8ph
6ric window )内の赤外線波長1〜2μm
、δ〜5μm、8〜14μmおよび16〜!12μmに
応答するように遺択することができる。基板1に対して
は必要とする検出器の種類に応じて種々の材料を用いる
ことができる。ある檀の検出器においては、検出素子が
基板に対回し、この基板を絆で入射する赤外線放射を受
けるようにするのが電ましく、この場合、基板が赤外線
放射に対する適当な透過特性を有するようにする必要が
ある。
子10および20が異なる大気の室(atomO8ph
6ric window )内の赤外線波長1〜2μm
、δ〜5μm、8〜14μmおよび16〜!12μmに
応答するように遺択することができる。基板1に対して
は必要とする検出器の種類に応じて種々の材料を用いる
ことができる。ある檀の検出器においては、検出素子が
基板に対回し、この基板を絆で入射する赤外線放射を受
けるようにするのが電ましく、この場合、基板が赤外線
放射に対する適当な透過特性を有するようにする必要が
ある。
しかし、大部分の検出器においては、赤外線放射を上側
の或いは最上側の検出素子本体に入射させる。基板lは
サファイアの代りに例えばアルミナ或いは酸化ベリリウ
ムを以って構成することができる。また基板はi素とす
ることができ、更に基板が信号処理回路を有し、検出素
子本体から延在する金属化膜によりこの信号処理回路に
検出素子を直接接続し、中間の接続It(ワイヤ)によ
る接続が不要となるようにすることができる。
の或いは最上側の検出素子本体に入射させる。基板lは
サファイアの代りに例えばアルミナ或いは酸化ベリリウ
ムを以って構成することができる。また基板はi素とす
ることができ、更に基板が信号処理回路を有し、検出素
子本体から延在する金属化膜によりこの信号処理回路に
検出素子を直接接続し、中間の接続It(ワイヤ)によ
る接続が不要となるようにすることができる。
第1図は本発明による赤外線放射検出器の下側第2図は
本発明による赤外線放射検出器の上側検出素子本体を示
す平面図、 第8図は第1および2図の検出器のl−1g上を断面と
し矢の方向に見た断面図、 第4および5同は本発明方法による製造の1工程で第1
図の下側の検出器部分を示す平面図である。 1・・基板 2 、4 、5 、22 、2δ、 82 、38・・
・電気接続体8・9・・・接着剤の薄肉層 10 、20・・・活性領域(検出素子)11 、12
、18・・・下愉検出素子本体14 、15・・・間
隙 2】・・・上側検出素子本体 84 、85・・・金属化膜パターン 86・・・フオトレジストマスク
本発明による赤外線放射検出器の上側検出素子本体を示
す平面図、 第8図は第1および2図の検出器のl−1g上を断面と
し矢の方向に見た断面図、 第4および5同は本発明方法による製造の1工程で第1
図の下側の検出器部分を示す平面図である。 1・・基板 2 、4 、5 、22 、2δ、 82 、38・・
・電気接続体8・9・・・接着剤の薄肉層 10 、20・・・活性領域(検出素子)11 、12
、18・・・下愉検出素子本体14 、15・・・間
隙 2】・・・上側検出素子本体 84 、85・・・金属化膜パターン 86・・・フオトレジストマスク
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板上に装着された赤外S感応材料のF側本体内に
形成された少くとも1つの第1検出素子と、−記の下0
1本体tに装着された赤外Is感応材料の上側本体内に
形成され、前記の第1横出素子の検出特性と異なる検出
特性を有する少くとも1つの第2検出素子と、前記のE
側およびF@本体の検出素子に対する電気接続体とを具
える赤外線放射検出器であって、前記第1および第8検
出素子の−5が、池万を透過する赤外線放射【受けるよ
うに配置されている赤外@枚射検出禰において、前記の
F@本体を間−によ!ll互いに分111された少くと
も2つの部分に分割し、前記の上□゛側本体により前記
のF′一本体の前記の2部分間の闇障を4i1絡し、ば
a記のml検出素子を前記の下tm本体の前記の2部分
のうちの第1の娼分内に形成し、前記の第2検出素子が
、lII記のドtito本体の前記の2部分のうちの第
8の部分を具える電気接続体を有するようにしたことを
特徴とする赤外線放射検出器。 & 特許請求の範囲l記載の赤外線放射検出器において
、下@本体の前記の2部分のうちの第2の部分が、第2
検出素子と関連する金属化膜を有し、この金属化膜を前
記の第8の部分のE面上に延在させるとともにこの第2
の部分の側面′f越えて基板上に延在させ、riU記の
第2検出素子が、f:側本体からF側本体の前記の2部
分のうちの第2の部分の上面における前記の金属化膜ま
での金属化膜接続体を有し、これにより第2検出素子か
ら基板への電気接続f:s或したことf:特徴とする赤
外線放射検出器。 IL 特I!fII#求の範囲1または2紀威の赤外
線放射検出器において、前記のf側本体が、hw本体に
よって慎I62!れた1氾の間隙によV前記の第1の部
分かり分子Imされた第8の部分をも有しており、第2
検出素子が、下側本体の前記の第8の部分を具える池の
罐気接d体を有するようにしたことを待機とする赤外線
放射検出器。 4 特許請求の範囲8紀載の赤外@放射検出器において
、F側本体の前記の@8の部分が、第2検出素子への池
の電気層d体の一部を形成する金属化膜を有し、この金
属化1i1iIをこの第8の部分のJ:、11]]上に
延在させるとともにこの第8の部分の側面を越えて基板
上に延在させ、第8検出素子が、と側本体からドt11
11本体のia8の部分のJ:面における前記の金属化
膜への金−比換接続体を有し、これにより第8侵出素子
から基板への前記の池の電気接続体をlし成したことt
−111P酸とする赤外線放射検出器。 !L 特!FF#!ll求の範囲1〜鳴のいrれか1つ
に記載の赤外線放射検出器において、第3検出素子の配
列を上側手庫内に形成し、この第2検出素子の配列を、
FIil1体内に形成した第1検出素子の配列上に直ね
たことを特徴とする赤外線放射検出器。 a 特、!!P−求の範囲8または4に依存する特許請
求の範囲5記載の赤外線放射検出器において、v11!
1本体が、上側の配列の第2検出素子に対する各別の電
気ffl’続体に肘する偵数個の互いに分離された第2
の部分と、第2検出素子の配列に対する共a接続体を形
成する共曲の@8の部分とを具えたことを特徴とする赤
外線放射検出器。 7、 特許請求の範囲6記威の赤外S放射検出−Gこお
いて、斤いに分離された第2の部分の画数1固を上側本
体の第1検出素子の配列の一方の側に沿って配置し、共
通の第8の部分を第1検出素子の配列の横側に位置させ
たことをP#徴とする赤外II放射検出器。 & 特許請求の範囲5〜7のいずれか1つに記載の赤外
線放射検出器において、Fvs本体が前記の第1の部分
の配列を有し、これら第1の部ノナの各々が第1検出素
子を胃するようにしたことを待機とする赤外縁改射横出
aO甑 特fFn求の軸回1〜8のい(れか1つに記載
の赤外4i!!放射検出器において、トー醐本体の赤外
l!A感応材料がj:側本体の遮!li波長よりも大き
な遮断波長f:有し、)、t11本体を透過した長い波
長の放射を検出するようにしたことを特徴とする赤外−
1狡射検出a。 1α 特許請求の範囲1−9のいずれか1つに記載の赤
外線放射検出器において、上側および下側本体をテルル
化水銀カドミウムを以って1収したことを特徴とする赤
外線放射検出器OIL 赤外線放射検出器を1Jll
11するに当り、基板上に赤外線感応材料より或9分禰
されていないF@本本体ft着層、「一本体上とごのド
偵本体を越えた徳板1とに曽−化膜ノぐターンを設け、
下側本体の厚さ全体にはるイオン腐食によりこのドvM
11本体に1つ以1の間−を形成するごと警こよりこの
F側本体をそのmvli個の部分に分割し、その後に、
分納されているF側本体上に上−半体を装着し、このt
側本体に、第2検出素子にに↑する4気接続体を形成す
る禍の金4化膜を設けることを′#轍とする赤外線放射
検出器の製造方法。 lIL 特許請求の範囲11記載の赤外線放射検出器
の製造方法において、前記のイオン腐食が、ド、d4F
:俸および基板上に設けられている金属化パターンを、
F11111本体の分#11すれた部分に対する分離
された金属化膜に分割する作用をもするようにすること
’tl#微とする赤外S放射検出−の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB08206290A GB2116363B (en) | 1982-03-03 | 1982-03-03 | Multi-level infra-red detectors and their manufacture |
GB8206290 | 1982-03-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58161834A true JPS58161834A (ja) | 1983-09-26 |
JPH0370912B2 JPH0370912B2 (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=10528765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58033925A Granted JPS58161834A (ja) | 1982-03-03 | 1983-03-03 | 赤外線放射検出器およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4555720A (ja) |
EP (1) | EP0087842B1 (ja) |
JP (1) | JPS58161834A (ja) |
DE (1) | DE3379884D1 (ja) |
GB (1) | GB2116363B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016532864A (ja) * | 2013-08-01 | 2016-10-20 | ピレオス リミテッドPyreos Ltd. | ピクセルを備えたマイクロシステムの製造方法 |
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- 1983-02-23 DE DE8383200269T patent/DE3379884D1/de not_active Expired
- 1983-03-03 JP JP58033925A patent/JPS58161834A/ja active Granted
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1985
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EP0087842A3 (en) | 1986-08-20 |
EP0087842A2 (en) | 1983-09-07 |
EP0087842B1 (en) | 1989-05-17 |
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DE3379884D1 (en) | 1989-06-22 |
GB2116363B (en) | 1985-10-16 |
GB2116363A (en) | 1983-09-21 |
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