JPS5815936A - 芳香族ケトン類の製法 - Google Patents
芳香族ケトン類の製法Info
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- JPS5815936A JPS5815936A JP57119689A JP11968982A JPS5815936A JP S5815936 A JPS5815936 A JP S5815936A JP 57119689 A JP57119689 A JP 57119689A JP 11968982 A JP11968982 A JP 11968982A JP S5815936 A JPS5815936 A JP S5815936A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族ケトンの製法に関し、更に詳しくはジア
リールケトンの製法に関する。
リールケトンの製法に関する。
ジアリールケトンは、ポリ(アリーレンエーテルケトン
)の製造に有用である。これらポリマーの製造において
は、望ましくない副反応を防止するために用いるモノマ
ーを高純度にしておくことが不可欠である。さらに、パ
ラ位が置換されたモノマーのみが望ましい性質を有する
ポリマーを与える。本発明は、生成物の純度および/ま
たは・ζう置換の程度を顕著に改良するジアリールケト
ンの製法を提供する。
)の製造に有用である。これらポリマーの製造において
は、望ましくない副反応を防止するために用いるモノマ
ーを高純度にしておくことが不可欠である。さらに、パ
ラ位が置換されたモノマーのみが望ましい性質を有する
ポリマーを与える。本発明は、生成物の純度および/ま
たは・ζう置換の程度を顕著に改良するジアリールケト
ンの製法を提供する。
本発明によれば、
〔式中、RおよびR′は、同一または異なって、臭素、
塩素もしくはフッ素原子、水酸基または(ここで、mは
1または2であり、R′は臭素、で示される芳香族ケト
ンの製法であって、〔式中、Rは前記と同意義。〕 で示される置換芳香族化合物および 〔式中、R′は前記と同意義。Xは臭素、塩素もしくは
フッ素原子、水酸基またはアルコキシ基を表わす゛。〕 で示されるアシル化合物を、ルイス酸および強酸がそれ
ぞれアシル化合物の量と少なくとも等モル量で存在する
ルイス酸および強酸の混合物から成る触媒系の存在下に
反応させることを特徴とする製法が提供される。この製
法により非常に秀れた結果が得られる。
塩素もしくはフッ素原子、水酸基または(ここで、mは
1または2であり、R′は臭素、で示される芳香族ケト
ンの製法であって、〔式中、Rは前記と同意義。〕 で示される置換芳香族化合物および 〔式中、R′は前記と同意義。Xは臭素、塩素もしくは
フッ素原子、水酸基またはアルコキシ基を表わす゛。〕 で示されるアシル化合物を、ルイス酸および強酸がそれ
ぞれアシル化合物の量と少なくとも等モル量で存在する
ルイス酸および強酸の混合物から成る触媒系の存在下に
反応させることを特徴とする製法が提供される。この製
法により非常に秀れた結果が得られる。
使用できるルイス酸の好ましい例は、三フッ化ホウ素、
三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四フッ化チタン、四塩化
チタン、四臭化チタンまたはクンタル、ニオブ、リン、
ヒ素もしくはアンチモンの五フッ化物、五塩化物もしく
は五臭化物である。
三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四フッ化チタン、四塩化
チタン、四臭化チタンまたはクンタル、ニオブ、リン、
ヒ素もしくはアンチモンの五フッ化物、五塩化物もしく
は五臭化物である。
好ましい強酸としては、惨吠ンフルオロ硫酸、フッ化水
素酸、過塩素酸またはトリフルオロメタンスルホン酸が
挙げられる。
素酸、過塩素酸またはトリフルオロメタンスルホン酸が
挙げられる。
本発明の製法は、存在しているとしても非常に少い痕跡
量程度のオルソ置換異性体を含んでいるにすぎない非常
に高純度のパラ置換芳香族ケトンを与えるので、ポリ(
アリーレンエーテルケトン)の前駆体の製造に有用であ
る。生成物の回収は、後記実施例に詳述しである。「高
純度のパラ置換芳香族ケトン」という表現は、パラ置換
異性体の芳香族ケトン生成物が少くとも約96%、好ま
しくは少くとも98%、最も好ましくは少くとも99.
5%であるものを示すのに用いられる。
量程度のオルソ置換異性体を含んでいるにすぎない非常
に高純度のパラ置換芳香族ケトンを与えるので、ポリ(
アリーレンエーテルケトン)の前駆体の製造に有用であ
る。生成物の回収は、後記実施例に詳述しである。「高
純度のパラ置換芳香族ケトン」という表現は、パラ置換
異性体の芳香族ケトン生成物が少くとも約96%、好ま
しくは少くとも98%、最も好ましくは少くとも99.
5%であるものを示すのに用いられる。
本発明に従って製造される化合物は、たとえば二価フェ
ノール化合物、ジ・・口芳香族化合物および・・ロフェ
ノールである。二価フェノールはジノ・てポリ(アリー
レンエーテルケトン)を与える。
ノール化合物、ジ・・口芳香族化合物および・・ロフェ
ノールである。二価フェノールはジノ・てポリ(アリー
レンエーテルケトン)を与える。
・・ロフェノールは、自体縮合して重合し、ポリ(アリ
ーレンエーテルケトン)を与え、あるいは他の共単量体
、たとえば二価フェノールおよびジ/・口芳香族化合物
と反応してポリ(アリーレンエーテルケトン)を形成す
る。
ーレンエーテルケトン)を与え、あるいは他の共単量体
、たとえば二価フェノールおよびジ/・口芳香族化合物
と反応してポリ(アリーレンエーテルケトン)を形成す
る。
本発明の製法で出発物質として用いられる置換芳香族化
合物は、少くとも1個の置換基を有し、かつ該置換基に
対してパラ位が置換されている単環または多環の芳香族
化合物である。
合物は、少くとも1個の置換基を有し、かつ該置換基に
対してパラ位が置換されている単環または多環の芳香族
化合物である。
出発物質として用いることができる典型的な芳香族化合
物ニハ、フルオロベンゼン、フェノール、4−フェノキ
シフェノール、4−フェニルフェノール、4−フルオロ
ビフェニル、4−クロロビフェニル、4−クロロジフェ
ニルエーテル、4−フルオロジフェニルエーテルなどが
包含サレル。これら化合物は周知であり、多くは市販さ
れ、捷た標準的な合成方法で合成することができる。
物ニハ、フルオロベンゼン、フェノール、4−フェノキ
シフェノール、4−フェニルフェノール、4−フルオロ
ビフェニル、4−クロロビフェニル、4−クロロジフェ
ニルエーテル、4−フルオロジフェニルエーテルなどが
包含サレル。これら化合物は周知であり、多くは市販さ
れ、捷た標準的な合成方法で合成することができる。
出発物質として用いられる芳香族アシル化合物は置換安
息香酸、またはその酸・・ライドもしくはアルキルエス
テルである。Xで示される置換基のうちのアルコキシ基
は、炭素数1〜5の直鎖アルコキシ基を包含する。典型
的なアシル化合物は、4−ヒドロキシ安息香酸、4−ク
ロロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸、4−(4−ヒド
ロキンフェノキ/)安息香酸、塩化4−クロロベンゾイ
ル、塩化4−フルオロベンゾイル、フッ化4−フルオロ
ベンゾイル、4−ヒドロキシ安息香酸エチル、4−ヒド
ロキシ安息香酸メチル、4−クロロ安息香酸メチル、4
−フルオロ安息香酸エチル、4−フルオロ安息香酸メチ
ル、4−フルオロ安息香酸n−ブチルなどである。これ
らアシル化合物も周知であり、標準的な合成方法で合成
することができる。
息香酸、またはその酸・・ライドもしくはアルキルエス
テルである。Xで示される置換基のうちのアルコキシ基
は、炭素数1〜5の直鎖アルコキシ基を包含する。典型
的なアシル化合物は、4−ヒドロキシ安息香酸、4−ク
ロロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸、4−(4−ヒド
ロキンフェノキ/)安息香酸、塩化4−クロロベンゾイ
ル、塩化4−フルオロベンゾイル、フッ化4−フルオロ
ベンゾイル、4−ヒドロキシ安息香酸エチル、4−ヒド
ロキシ安息香酸メチル、4−クロロ安息香酸メチル、4
−フルオロ安息香酸エチル、4−フルオロ安息香酸メチ
ル、4−フルオロ安息香酸n−ブチルなどである。これ
らアシル化合物も周知であり、標準的な合成方法で合成
することができる。
好ましいアシル化合物は、4−クロロ安息香酸、塩化4
−クロロベンゾイルまたはフッ化4−クロロベンゾイル
である。
−クロロベンゾイルまたはフッ化4−クロロベンゾイル
である。
置換芳香族化合物とアシル化合物との好ましい組み合せ
には、フルオロベンゼンと塩化4−フルオロベンゾイル
、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ安息香
酸、4−フルオロ安息香酸メチルもしくは4−フルオロ
安息香酸エチルとの、あるいは4−ヒドロキシ安息香酸
とのまたは4−(4−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸
との組み合せ;フェノールと塩化4−フルオロベンゾイ
ル、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ安息
香酸、4−フルオロ安息香酸メチルまたは4−フルオロ
ノ4夛ヂ安息香酸エチルとの組み合せ;および4−フェ
ノキシフェノールと塩化4−クロロベンゾイルもしくは
4−クロロ安息香酸との、または塩化4−フルオロベン
ゾイル、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ
安息香酸、4−フルオロ安息香酸メチルもしくは4−フ
ルオロ安息香酸エチルとの組み合せが包含される。
には、フルオロベンゼンと塩化4−フルオロベンゾイル
、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ安息香
酸、4−フルオロ安息香酸メチルもしくは4−フルオロ
安息香酸エチルとの、あるいは4−ヒドロキシ安息香酸
とのまたは4−(4−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸
との組み合せ;フェノールと塩化4−フルオロベンゾイ
ル、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ安息
香酸、4−フルオロ安息香酸メチルまたは4−フルオロ
ノ4夛ヂ安息香酸エチルとの組み合せ;および4−フェ
ノキシフェノールと塩化4−クロロベンゾイルもしくは
4−クロロ安息香酸との、または塩化4−フルオロベン
ゾイル、フッ化4−フルオロベンゾイル、4−フルオロ
安息香酸、4−フルオロ安息香酸メチルもしくは4−フ
ルオロ安息香酸エチルとの組み合せが包含される。
本発明の製法を実施する場合、置換芳香族化合物および
芳香族アシル化合物は、好捷しくけ等モル量で用いられ
るが、ある条件下では一方を過剰モル量で用いることも
有利である。
芳香族アシル化合物は、好捷しくけ等モル量で用いられ
るが、ある条件下では一方を過剰モル量で用いることも
有利である。
本発明の製法に用いる酸触媒系では、アシル化金物1モ
ルに対してルイス酸約2〜3モルを用い、アシル化合物
1モルに対して強酸約2〜40モルを用いるのが好まし
い。
ルに対してルイス酸約2〜3モルを用い、アシル化合物
1モルに対して強酸約2〜40モルを用いるのが好まし
い。
本発明の製法は、自生圧でも行われるが、所望により、
さらに高圧で行ってもよい。通常、反応を約2〜20気
圧の高圧で行うのが好ましい。さらに、触媒の分圧が反
応中に約2〜3気圧を越えない範囲にあるのが特に好ま
しい。
さらに高圧で行ってもよい。通常、反応を約2〜20気
圧の高圧で行うのが好ましい。さらに、触媒の分圧が反
応中に約2〜3気圧を越えない範囲にあるのが特に好ま
しい。
反応媒体は、所望により不活性希釈剤を含む極性溶媒で
あってよい。要すれば、強酸、特にフッ化水素酸を反応
媒体として用いることができる。
あってよい。要すれば、強酸、特にフッ化水素酸を反応
媒体として用いることができる。
極性溶媒として用いることができる溶媒の具体例は、二
酸化硫黄、テトラメチレンスルホン、ニトロベンゼノ、
塩化フッ化スルフリルまたはこれらの混合物である。用
いられる溶媒としては、触媒系を溶解した時に触媒系が
均質溶液を形成する様なものが好ましい。満足な反応速
度を達成するため、反応体の少くとも1つが極性溶媒お
よび触媒系中に均質溶液を形成するのが好ましい。しか
しながら、反応体(実施例4の様に、通常置換芳香族化
合物)および/またはケトン生成物の1方が約2.0重
量%を越えない、特に約0.5重量%を越えない極性溶
媒および触媒系中への溶解度を有するのが特に好ましい
。溶媒は、反応体の合計量が極性溶媒重量の約5〜70
重量%の範囲となる様に存在するのが好ましい。極性溶
媒と共に使用することができる不活性希釈剤には、炭素
数3〜1OO0−アルカン、炭素数1〜100gem−
ポリクロロー、ポリフルオロ−およびポリ(フルオロク
ロロ)−〇−アルカンが包含される。好ましい反応媒体
は無水フッ化水素酸である。
酸化硫黄、テトラメチレンスルホン、ニトロベンゼノ、
塩化フッ化スルフリルまたはこれらの混合物である。用
いられる溶媒としては、触媒系を溶解した時に触媒系が
均質溶液を形成する様なものが好ましい。満足な反応速
度を達成するため、反応体の少くとも1つが極性溶媒お
よび触媒系中に均質溶液を形成するのが好ましい。しか
しながら、反応体(実施例4の様に、通常置換芳香族化
合物)および/またはケトン生成物の1方が約2.0重
量%を越えない、特に約0.5重量%を越えない極性溶
媒および触媒系中への溶解度を有するのが特に好ましい
。溶媒は、反応体の合計量が極性溶媒重量の約5〜70
重量%の範囲となる様に存在するのが好ましい。極性溶
媒と共に使用することができる不活性希釈剤には、炭素
数3〜1OO0−アルカン、炭素数1〜100gem−
ポリクロロー、ポリフルオロ−およびポリ(フルオロク
ロロ)−〇−アルカンが包含される。好ましい反応媒体
は無水フッ化水素酸である。
反応温度は、好ましくは約−25〜+750、より好ま
しくは約θ〜85C1特に約0〜20Cである。
しくは約θ〜85C1特に約0〜20Cである。
次に実施例を示し、本発明の製法を具体的に説明する。
実施例1
フルオロベンゼンおよび4−ヒドロキン安息香酸からの
4−フルオロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの製造
ニー 4−ヒドロキシ安息香酸138.1 B、!i’ (1
,00モル)およびフルオロベンゼン125.O,!i
’(1,80モル)の混合物をドライアイス/アセトン
冷浴で冷却し、これに無水フッ化水素酸300−および
予め冷却した磁石攪拌バーを入れる。一部凍結した反応
混合物を浴から取り出し、−20〜−15Cで15分間
攪拌すると2液層が生じる。三フッ1ヒホウ素を約15
psiの圧力下に周期的に加えると約15分間で18
U’に昇温する。反応容器を再びドライアイス/アセト
ン浴に浸漬して温度を下げる。三フッ1ヒホウ素の添加
を吸収および発熱が終了するまで40分間にわたり一4
〜+6Cで継続する。浴をはずし、三フッ化ホウ素を約
80psiで添加する。反応容器をランプ照射下に約1
時間放置して室温に昇温する。この時点で、上層の約4
分の1が消費される。全り層が消費されるまで(約1時
間15分間)、反応容器を室温に保つ。
4−フルオロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの製造
ニー 4−ヒドロキシ安息香酸138.1 B、!i’ (1
,00モル)およびフルオロベンゼン125.O,!i
’(1,80モル)の混合物をドライアイス/アセトン
冷浴で冷却し、これに無水フッ化水素酸300−および
予め冷却した磁石攪拌バーを入れる。一部凍結した反応
混合物を浴から取り出し、−20〜−15Cで15分間
攪拌すると2液層が生じる。三フッ1ヒホウ素を約15
psiの圧力下に周期的に加えると約15分間で18
U’に昇温する。反応容器を再びドライアイス/アセト
ン浴に浸漬して温度を下げる。三フッ1ヒホウ素の添加
を吸収および発熱が終了するまで40分間にわたり一4
〜+6Cで継続する。浴をはずし、三フッ化ホウ素を約
80psiで添加する。反応容器をランプ照射下に約1
時間放置して室温に昇温する。この時点で、上層の約4
分の1が消費される。全り層が消費されるまで(約1時
間15分間)、反応容器を室温に保つ。
反応溶液をさらに18時間攪拌して脱気する。生成した
透明な淡黄色反応溶液を取り出し、室温で蒸発乾固する
。堅い淡橙色残渣を過剰の氷水と共に攪拌し、水に一夜
さらしてクリーム色の粗生成物を得る。生成物を、メタ
ノール約550−から本釣180−を徐々に添加するこ
とにより還流下に再結晶化して、無色結晶158゜0g
(収率71%)を得た。生成物の融点170〜171.
5C。
透明な淡黄色反応溶液を取り出し、室温で蒸発乾固する
。堅い淡橙色残渣を過剰の氷水と共に攪拌し、水に一夜
さらしてクリーム色の粗生成物を得る。生成物を、メタ
ノール約550−から本釣180−を徐々に添加するこ
とにより還流下に再結晶化して、無色結晶158゜0g
(収率71%)を得た。生成物の融点170〜171.
5C。
生成物を、氷酢酸から水100−を添加することにより
再結晶化して精製し、続いてp過ケーキを水洗し、トル
エン約1200−から再結晶化して無色結晶1B9.7
0.9を得た。結晶の融点は170.6〜1721:’
であり、IRおよびNIIJRスペクトルは4−フルオ
ロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの既知試料のもの
と一致した。気液クロマトグラフィによれば生成物は本
質的にパラ異性体から成っていた。
再結晶化して精製し、続いてp過ケーキを水洗し、トル
エン約1200−から再結晶化して無色結晶1B9.7
0.9を得た。結晶の融点は170.6〜1721:’
であり、IRおよびNIIJRスペクトルは4−フルオ
ロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの既知試料のもの
と一致した。気液クロマトグラフィによれば生成物は本
質的にパラ異性体から成っていた。
実施例2
フェノールおよび塩化4−フルオロベンゾイルからの4
−フルオロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの製造ニ
ー 塩化4−フルオロベンゾイルiio、ooII(o。
−フルオロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノンの製造ニ
ー 塩化4−フルオロベンゾイルiio、ooII(o。
694モル)およびフェノール71.00.!?(0,
754モル)をドライアイス/アセトン冷浴で冷却し、
これに無水フッ化水素酸300−および予め冷却した磁
石攪拌・・−を入れる。4−ヒドロキシ安息香酸とフル
オロベンゼンの反応であった実施例1と同様に、アシル
化反応および後処理を行って灰色がかった白色の結晶1
38.25.!?(収率9245%)を得た。メタノー
ル/水からの再結晶化物の融点1695〜171.50
0さらに水性酢酸およびトルエンから再結晶化してほぼ
無色の結晶124.95gを得た。融点169.6〜1
7211:”。
754モル)をドライアイス/アセトン冷浴で冷却し、
これに無水フッ化水素酸300−および予め冷却した磁
石攪拌・・−を入れる。4−ヒドロキシ安息香酸とフル
オロベンゼンの反応であった実施例1と同様に、アシル
化反応および後処理を行って灰色がかった白色の結晶1
38.25.!?(収率9245%)を得た。メタノー
ル/水からの再結晶化物の融点1695〜171.50
0さらに水性酢酸およびトルエンから再結晶化してほぼ
無色の結晶124.95gを得た。融点169.6〜1
7211:”。
実施例3
4−フェノキンフェノールおよび4−クロロ安息香酸か
らの4−クロロ−4’−(4−ヒドロキジフェノキシ)
ベンゾフェノンのm 造ニー4−フェノキ/フェノール
18.01(0,07モル)および4−クロロ安息香酸
10.96F(0゜07モル)の混合物をドライアイス
/アセトンで冷却し、°無水フッ化水素酸50−を加え
る。混合物を空気浴中で24Cにおいて攪拌し、10分
後ゆっくり脱気する。三フッ化ホウ素を80 psiの
圧力で導入し、混合物を数回脱気し、三フッ化ホウ素の
圧力を80 psiに保ちながら15時間攪拌する。生
成した暗溶液を脱気し、攪拌しながら氷約100gに注
ぐ。沈殿生成物を採集し、水洗し、メタノールと水の混
合物中で沸騰した後、濾過する。トルエンから再結晶化
して桃色結晶生成物15.5g(収率68.2%)を得
た。この生成物を酢峻/水混合物から2回再結晶化して
灰色がかった白色の結晶LO,’#を得た。この融点は
141〜142Cであり、IRおよびNMRスペクトル
は4−クロロ−4’−(4−ヒドロキンフエノキ/)ベ
ンゾフェノンの既知試料のものと一致した。気液クロマ
トグラフィによれば生成物は本質的((ハラ異性体から
成っていた。オルソまたはメタ異性体の痕跡の存在は認
められなかった。
らの4−クロロ−4’−(4−ヒドロキジフェノキシ)
ベンゾフェノンのm 造ニー4−フェノキ/フェノール
18.01(0,07モル)および4−クロロ安息香酸
10.96F(0゜07モル)の混合物をドライアイス
/アセトンで冷却し、°無水フッ化水素酸50−を加え
る。混合物を空気浴中で24Cにおいて攪拌し、10分
後ゆっくり脱気する。三フッ化ホウ素を80 psiの
圧力で導入し、混合物を数回脱気し、三フッ化ホウ素の
圧力を80 psiに保ちながら15時間攪拌する。生
成した暗溶液を脱気し、攪拌しながら氷約100gに注
ぐ。沈殿生成物を採集し、水洗し、メタノールと水の混
合物中で沸騰した後、濾過する。トルエンから再結晶化
して桃色結晶生成物15.5g(収率68.2%)を得
た。この生成物を酢峻/水混合物から2回再結晶化して
灰色がかった白色の結晶LO,’#を得た。この融点は
141〜142Cであり、IRおよびNMRスペクトル
は4−クロロ−4’−(4−ヒドロキンフエノキ/)ベ
ンゾフェノンの既知試料のものと一致した。気液クロマ
トグラフィによれば生成物は本質的((ハラ異性体から
成っていた。オルソまたはメタ異性体の痕跡の存在は認
められなかった。
実施例4
フルオロベンゼンおよび塩化4−フルオロベンゾイルか
らの4,4′−ジフルオロベンゾフェノンの製造ニー フルオロベンゼン100.0.9(1,04モル)およ
び塩化4−フルオロベンゾイル158.6.!i’ (
1゜00モル)の混合物を約−20Cに冷却し、冷(−
1oc)無水フッ化水素酸550−を添加する。
らの4,4′−ジフルオロベンゾフェノンの製造ニー フルオロベンゼン100.0.9(1,04モル)およ
び塩化4−フルオロベンゾイル158.6.!i’ (
1゜00モル)の混合物を約−20Cに冷却し、冷(−
1oc)無水フッ化水素酸550−を添加する。
生成懸濁液をゆっくり攪拌し、この間に三フッ化ホウ素
ガスを導入する。反応液は約÷50に昇温するので三フ
ッ化ホウ素の添加を停止する。生成した二相液混合物を
約0.5時間攪拌し、次いで塩化水素を脱気、除去する
。三フッ化ホウ素の添加を再開し、系の圧力を約80p
siに上昇させる。
ガスを導入する。反応液は約÷50に昇温するので三フ
ッ化ホウ素の添加を停止する。生成した二相液混合物を
約0.5時間攪拌し、次いで塩化水素を脱気、除去する
。三フッ化ホウ素の添加を再開し、系の圧力を約80p
siに上昇させる。
この間反応温度は約20Cに上昇する。攪拌を室温で1
0分間継続して上層(フルオロベンゼン)を実質的に消
失させる。黄色反応混合物を室温で蒸発乾固する。結晶
性残渣を水洗、許過し、水性メタノールから再結晶化し
て4,4′−ジフルオロベンゾフェノン180.!i’
(0,89モル)を得た。生成物の融点104〜107
11:’0ヘプタンから再結晶化して灰色がかった白色
の結晶を得た。融点105〜107C,この物質のIR
およびNMRスペクトルは真正な4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノンのものと一致した。気液クロマトグラフ
ィによれば生成物は本質的にパラ異性体から成ってV)
た。
0分間継続して上層(フルオロベンゼン)を実質的に消
失させる。黄色反応混合物を室温で蒸発乾固する。結晶
性残渣を水洗、許過し、水性メタノールから再結晶化し
て4,4′−ジフルオロベンゾフェノン180.!i’
(0,89モル)を得た。生成物の融点104〜107
11:’0ヘプタンから再結晶化して灰色がかった白色
の結晶を得た。融点105〜107C,この物質のIR
およびNMRスペクトルは真正な4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノンのものと一致した。気液クロマトグラフ
ィによれば生成物は本質的にパラ異性体から成ってV)
た。
実施例5
フェノールおよび4−ヒドロキシ安息香酸からの4,4
′−ジヒドロキシベンゾフェノンの製造ニーフェノール
94.00.!i’(1,00モル)および4−ヒトロ
キシ安息香酸118.Oll、00モル)の混合物をド
ライアイス/アセトン浴で冷却し、これに無水フッ化水
素酸400−および磁石攪拌バーを入れる。実施例1と
同様にアシル化反応および後処理を行って、淡桃色の結
晶粗生成物を得た。エタノール10%を含む水から再結
晶化してほぼ無色の結晶180.2.li’(収率84
%)を得た。
′−ジヒドロキシベンゾフェノンの製造ニーフェノール
94.00.!i’(1,00モル)および4−ヒトロ
キシ安息香酸118.Oll、00モル)の混合物をド
ライアイス/アセトン浴で冷却し、これに無水フッ化水
素酸400−および磁石攪拌バーを入れる。実施例1と
同様にアシル化反応および後処理を行って、淡桃色の結
晶粗生成物を得た。エタノール10%を含む水から再結
晶化してほぼ無色の結晶180.2.li’(収率84
%)を得た。
融点210〜213CoIRおよびNMRスペクトルハ
X 正4.4’ −ジヒドロキシベンゾフェノンのもの
と一致した。気液クロマトグラフィによれば生成物は本
質的にパラ異性体から成ってV)た。
X 正4.4’ −ジヒドロキシベンゾフェノンのもの
と一致した。気液クロマトグラフィによれば生成物は本
質的にパラ異性体から成ってV)た。
実施例6
4−フルオロ−4′−ヒドロキシベンゾフェノン(実施
例1で製造)からのポリ(ベンゾフェノンエーテル)の
製造−一 4−フルオロ−4′−ヒドロベンゾフェノン1.001
0M4.740ミリモル)の1.00ON水酸化カリウ
ム溶液(90%メタノール中)4.36mff(436
ミIJモル)溶液を窒素気流中、100〜120Cで蒸
発乾固する。残渣を減圧下に120〜1’ 60 Cで
30分間乾燥する。得られた明黄色結晶粉末をジフェニ
ルスルホン0.40(N9と混合し、混合物を窒素雰囲
気中、360〜366Cで、時々攪拌しながら9分間加
熱する゛。熱い粘稠溶融物を反応器壁上に広げ、室温で
冷却する。得られた固化フィルムを小片に切断し、アセ
トン、水およびメタノールと共に沸騰し、12(I’、
0.111FH,9の圧力下で乾燥して、淡アイポリー
色のポリマーを得た。固有粘度1.57(0,11/濃
硫酸100−125C)。固有粘度は、5orenso
n ら著、Preparative Metho・d
s of Polymer Chemistry”In
terscience (1968) 44頁に記載
の方法に従って測定した。生成物を10000 psi
の圧力下、400Cで2分間圧縮成形して強じんで柔軟
な淡色スラブを得た。
例1で製造)からのポリ(ベンゾフェノンエーテル)の
製造−一 4−フルオロ−4′−ヒドロベンゾフェノン1.001
0M4.740ミリモル)の1.00ON水酸化カリウ
ム溶液(90%メタノール中)4.36mff(436
ミIJモル)溶液を窒素気流中、100〜120Cで蒸
発乾固する。残渣を減圧下に120〜1’ 60 Cで
30分間乾燥する。得られた明黄色結晶粉末をジフェニ
ルスルホン0.40(N9と混合し、混合物を窒素雰囲
気中、360〜366Cで、時々攪拌しながら9分間加
熱する゛。熱い粘稠溶融物を反応器壁上に広げ、室温で
冷却する。得られた固化フィルムを小片に切断し、アセ
トン、水およびメタノールと共に沸騰し、12(I’、
0.111FH,9の圧力下で乾燥して、淡アイポリー
色のポリマーを得た。固有粘度1.57(0,11/濃
硫酸100−125C)。固有粘度は、5orenso
n ら著、Preparative Metho・d
s of Polymer Chemistry”In
terscience (1968) 44頁に記載
の方法に従って測定した。生成物を10000 psi
の圧力下、400Cで2分間圧縮成形して強じんで柔軟
な淡色スラブを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔式中、RおよびR′は、同一または異なって、臭素、
塩素もしくはフッ素原子、水酸基または(ここで、mは
1または2であり、R“は臭素、塩素もしくはフッ素原
子または水酸基を表わす。)で示される基を表わす。〕 で示される芳香族ケトンの製法であって、〔式中、几は
前記と同意義。〕 で示される置換芳香族化合物および 〔式中、R′は前記と同意義。Xは臭素、塩素もしくは
フッ素原子、水酸基またはアルコキシ基を表わす。〕 で示されるアシル化合物を、ルイス酸および強酸がそれ
ぞれア/ル化合物の量と少なくとも等モル量で存在する
ルイス酸および強酸の混合物から成る触媒系の存在下に
反応させることを特徴とする製法。 2、ルイス酸が三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化
ホウ素、四フッ化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン
またはタンタル、ニオブ、リン、ヒ素もしくはアンチモ
ンの五7ノ化物、五塩化物もしくは五臭化物である第1
項記載の製法。 3、強酸がフルオロ硫酸、フッ化水素酸、過塩素酸マタ
はトリフルオロメタンスルホン酸である第1項または第
2項記載の製法。 4、芳香族化合物およびアシル化合物の等モル量を反応
させる第1〜3項のいずれかに記載の製法。 5、 反応ヲ、二酸化硫黄、テトラメチレンスルホン、
ニトロベンゼン、塩化フッ化スルフリルまたはこれらの
2種またはそれ以上の混合物である溶媒中で行う第1〜
4項のいずれかに記載の製法。 6溶媒が、C8〜C,on−アルカンまたはC1〜C+
Ogern−ポリクロロー、ポリフルオロ−もしくはポ
リ(フルオロクロロ)−n−、アルカンである不活性希
釈剤を含有する第5項記載の製法。 7、置換芳香族化合物、触媒系およびアシル化合物の合
計重量が溶媒重量の約5〜70%の範囲にある第5項ま
たは第6項記載の製法。 8、置換芳香族化合物、触媒系およびアシル化合物が溶
媒中で均質溶液を形成する第5〜7項のいずれかに記載
の製法っ 9、反応を無水フン化水素酸から成る反応媒体中で行う
第1〜4項のいずれかに記載の製法。 10、置換芳香族化合物、アシル化合物および芳香族ケ
トンの少なくとも1種が、約2.0重量%を越えない触
媒系中への溶解度を有する第1〜9項のいずれかに記載
の製法。 11、置換芳香族化合物、アシル化合物および芳香族ケ
トンの少なくとも1種が、約2,0重量%を越えない溶
媒および触媒系中への溶解度を有する第5〜8項のいず
れかに記載の製法。 12、反応を約−25C〜+75Cの温度範囲で行う第
1〜11項のいずれかに記載の製法。 18、反応を約OC〜+850の温度範囲で行う第1〜
12項のいずれに記載の製法。 14、反応を約OC〜+200の温度範囲で行う第1〜
13項のいずれかに記載の製法。 15、触媒系の分圧が反応巾約3気圧を越えない第1〜
14項のいずれかに記載の製法。 16、アシル化合物が、4−クロロ安息香酸、塩化4−
クロロベンソイル、フッ化4−クロロベンゾイル、塩化
4−フルオロベンゾイル、フッ化4−フルオロベンゾイ
ル、4−フルオロ安息香酸、4−フルオロ安息香酸メチ
ル、4−フルオロ安息香酸エチル、4−ヒドロキシ安息
香酸または4−(4−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸
である第1〜15項のいずれかに記載の製法。 17、置換芳香族化合物が、フルオロベンゼン、フェノ
ールまたは4−フェノキシフェノールである第1〜16
項のいずれかに記載の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US28152681A | 1981-07-08 | 1981-07-08 | |
US281526 | 1981-07-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5815936A true JPS5815936A (ja) | 1983-01-29 |
JPH0212459B2 JPH0212459B2 (ja) | 1990-03-20 |
Family
ID=23077673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57119689A Granted JPS5815936A (ja) | 1981-07-08 | 1982-07-08 | 芳香族ケトン類の製法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0069598B1 (ja) |
JP (1) | JPS5815936A (ja) |
AT (1) | ATE10831T1 (ja) |
AU (1) | AU557015B2 (ja) |
BE (1) | BE893790A (ja) |
DE (1) | DE3261617D1 (ja) |
ES (1) | ES8306085A1 (ja) |
GB (1) | GB2102420B (ja) |
IL (1) | IL66257A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61243042A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-29 | ロ−ヌ−プ−ラン・スペシアリテ・シミツク | アシルビフエニルの製造方法 |
JPS63101344A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-05-06 | レイケム・リミテッド | アリールカルボニル化合物の製造法 |
JPS63264543A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-11-01 | Toyo Gosei Kogyo Kk | ポリヒドロキシベンゾフエノン類の製造方法 |
JP2012519172A (ja) * | 2009-02-26 | 2012-08-23 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 3,4’ジアセトキシベンゾフェノン製造用中間体としての3,4’ジヒドロキシベンゾフェノンの製造方法 |
JP2021517553A (ja) * | 2019-02-15 | 2021-07-26 | 福建永晶科技股▲ふん▼有限公司Fujian Yongjing Technology Co., Ltd | Friedel−Crafts反応の新しい新方法及び当該方法に用いられる触媒 |
JP2022520291A (ja) * | 2019-02-15 | 2022-03-30 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フッ素化ベンゼン、フッ素化ベンゾフェノン、およびその誘導体の新しい製造方法 |
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---|---|---|---|---|
FR2519979A1 (fr) * | 1982-01-21 | 1983-07-22 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation de trifluoromethoxy ou trifluoromethylthiophenylsulfones |
FR2519980A1 (fr) * | 1982-01-21 | 1983-07-22 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de sulfonylation d'halogeno ou trihalogenomethylbenzenes |
FR2519974A1 (fr) * | 1982-01-21 | 1983-07-22 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede d'acylation d'halogeno ou trihalogenomethylbenzenes |
FR2519975A1 (fr) * | 1982-01-21 | 1983-07-22 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation de trifluoromethoxy ou trifluoromethylthiophenylcetones |
GB8315610D0 (en) * | 1983-06-07 | 1983-07-13 | Ici Plc | Chemical process |
GB8315612D0 (en) * | 1983-06-07 | 1983-07-13 | Ici Plc | Chemical process |
GB8413314D0 (en) * | 1984-05-24 | 1984-06-27 | Ici Plc | Purification |
ES8700647A1 (es) * | 1984-10-11 | 1986-11-16 | Raychem Corp | Procedimiento para la preparacion de un compuesto carbonilo aromatico |
FR2577220B1 (fr) * | 1985-02-08 | 1987-05-29 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede d'acetoacetylation de composes aromatiques |
EP0248129A1 (en) * | 1986-06-03 | 1987-12-09 | The Dow Chemical Company | Trihaloacyl aromatic monomers and process for their production |
GB8623511D0 (en) * | 1986-09-30 | 1986-11-05 | Raychem Ltd | Arylene cligomers |
DE3700809A1 (de) * | 1987-01-14 | 1988-07-28 | Basf Ag | Aryletherketone |
FR2627486B1 (fr) * | 1988-02-18 | 1991-03-22 | Atochem | Procede de diacylation de composes comportant deux noyaux aromatiques |
DE3831092A1 (de) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von benzophenonen |
US5015778A (en) * | 1989-12-18 | 1991-05-14 | The Dow Chemical Company | Catalytic method to produce hydroxy substituted arylophenones |
EP0446720A3 (en) * | 1990-03-08 | 1993-06-16 | Bromine Compounds Ltd. | Novel brominated phenoxy compounds and processes for their preparation |
US5118860A (en) * | 1990-11-27 | 1992-06-02 | Hoechst Celanese Corporation | Bf3 catalyzed acylation of aromatic compounds |
DE4232770A1 (de) * | 1992-09-30 | 1994-03-31 | Basf Ag | Verfahren zur Acylierung aromatischer Verbindungen |
DE4240965A1 (de) * | 1992-12-05 | 1994-06-09 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Acylaromaten |
CN104961633A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-10-07 | 武汉怡兴化工股份有限公司 | 4,4′-二羟基二苯甲酮的氢氟酸工艺 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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BE787938A (fr) * | 1971-08-24 | 1973-02-26 | Nippon Kayaku Kk | Regulateurs de la croissance de vegetaux |
DE2200126A1 (de) * | 1972-01-03 | 1973-07-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von einheitlichen durch halogen substituierten 2-methylbenzophenonen |
DE2200070A1 (de) * | 1972-01-03 | 1973-07-19 | Basf Ag | Durch halogen substituierte 2-methylbenzophenone |
GB1574441A (en) * | 1976-07-09 | 1980-09-10 | Ici Ltd | Preparation of hydroxybenzophenones |
-
1982
- 1982-07-07 EP EP82303569A patent/EP0069598B1/en not_active Expired
- 1982-07-07 ES ES513785A patent/ES8306085A1/es not_active Expired
- 1982-07-07 BE BE0/208550A patent/BE893790A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-07-07 GB GB08219638A patent/GB2102420B/en not_active Expired
- 1982-07-07 AT AT82303569T patent/ATE10831T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-07-07 DE DE8282303569T patent/DE3261617D1/de not_active Expired
- 1982-07-08 AU AU85722/82A patent/AU557015B2/en not_active Ceased
- 1982-07-08 JP JP57119689A patent/JPS5815936A/ja active Granted
- 1982-07-18 IL IL66257A patent/IL66257A/xx unknown
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---|---|---|---|---|
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JP2022520291A (ja) * | 2019-02-15 | 2022-03-30 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | フッ素化ベンゼン、フッ素化ベンゾフェノン、およびその誘導体の新しい製造方法 |
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IL66257A (en) | 1986-10-31 |
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JPH0212459B2 (ja) | 1990-03-20 |
GB2102420B (en) | 1985-08-21 |
BE893790A (fr) | 1983-01-07 |
EP0069598B1 (en) | 1984-12-19 |
EP0069598A1 (en) | 1983-01-12 |
ES8306085A1 (es) | 1983-05-01 |
AU557015B2 (en) | 1986-12-04 |
DE3261617D1 (en) | 1985-01-31 |
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