JPS58155397A - 気液分離具の洗浄装置 - Google Patents
気液分離具の洗浄装置Info
- Publication number
- JPS58155397A JPS58155397A JP57038009A JP3800982A JPS58155397A JP S58155397 A JPS58155397 A JP S58155397A JP 57038009 A JP57038009 A JP 57038009A JP 3800982 A JP3800982 A JP 3800982A JP S58155397 A JPS58155397 A JP S58155397A
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- Japan
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- liquid separator
- conduit
- liquid
- cleaning
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- Cleaning In General (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
木兄間は、気液分離具の洗浄gt置に係り、特に、放射
性廃棄物処理装置を構成する気液分離器に内設された気
液分離具を洗浄するのに好適な気液分離具の洗浄IkM
に関する。
性廃棄物処理装置を構成する気液分離器に内設された気
液分離具を洗浄するのに好適な気液分離具の洗浄IkM
に関する。
従来の気液分離具の洗浄装ぼ例をgJ1図により説、明
する。
する。
第】図は、従来の気液分離具の洗浄装置を適用した放射
性廃棄物処理装置の部分系統図で、輸液調節弁部が設け
られた放射性廃液(以下、廃液と略)供給用の導管(資
)と、−縮物排出用の導管31とがそれぞれ連結された
蒸発濃縮装置110には、気液分離具、例えば、ワイヤ
メツシュデミスタ−■が内股されると共に、ドレン排出
用の導管32が連結された気液分離器校に他端がワイヤ
メツシュデミスタ−11より下方の位置で連結されたミ
スト同伴ガス併給用の導管33の一端が連結され、又、
気液分離器りには、冷却水供給用の導管34と冷却水排
出用の導管部とがそれぞれ連結されたチャンネル13が
構設されると共に、復水排出用の導管36とベント排出
用の導管37とがそれぞれ連結された、例えば、Uチュ
ーブ型の復水器14に他端が連結されたミスト分離ガス
供給用の導管38の一端が、ワイヤメツシュデミスタ−
11より上方の位置で連結されている。又、スプレーノ
ズルISa、15bと、スプレーノズル15m、15b
にそれぞれ連結された洗浄水供給用の導管39m、39
bとで構成された気液分離具の洗浄装置が、ワイヤメッ
シュデz:y、ター11と上下方向に対向しスプレーノ
ズル15 a + 15 bが設けられて気液分離器校
に設けられている。
性廃棄物処理装置の部分系統図で、輸液調節弁部が設け
られた放射性廃液(以下、廃液と略)供給用の導管(資
)と、−縮物排出用の導管31とがそれぞれ連結された
蒸発濃縮装置110には、気液分離具、例えば、ワイヤ
メツシュデミスタ−■が内股されると共に、ドレン排出
用の導管32が連結された気液分離器校に他端がワイヤ
メツシュデミスタ−11より下方の位置で連結されたミ
スト同伴ガス併給用の導管33の一端が連結され、又、
気液分離器りには、冷却水供給用の導管34と冷却水排
出用の導管部とがそれぞれ連結されたチャンネル13が
構設されると共に、復水排出用の導管36とベント排出
用の導管37とがそれぞれ連結された、例えば、Uチュ
ーブ型の復水器14に他端が連結されたミスト分離ガス
供給用の導管38の一端が、ワイヤメツシュデミスタ−
11より上方の位置で連結されている。又、スプレーノ
ズルISa、15bと、スプレーノズル15m、15b
にそれぞれ連結された洗浄水供給用の導管39m、39
bとで構成された気液分離具の洗浄装置が、ワイヤメッ
シュデz:y、ター11と上下方向に対向しスプレーノ
ズル15 a + 15 bが設けられて気液分離器校
に設けられている。
給液調節弁Iを介し導管(資)を経て蒸発濃縮装置10
に供給された廃液は、熱媒により加熱され蒸発し、濃縮
物と蒸発物(以下、ガスと略)とに分離され、濃縮物は
導管31より排出される。一方、ガスには、蒸発濃縮装
置10での廃液の蒸発濃縮過程で生じるミストが同伴さ
れ、ガスの放射線量が高望るため、ガスからミストをで
きる限り分離させる必要がある。そこで、蒸発濃縮装置
10からミストを同伴したガスを導管33を経て気液分
離a12に供給しワイヤメツシュデミスタ−11を通過
させてミストを分離する。その後、ミストを分離され放
射線量が極めて低くなったガスは、導管38を経て復水
器14に供給され、ここでガス中の凝縮性ガス(よ凝縮
、液化され導管部を経て系外に排出され、一方、ガス中
の非凝縮ガスは導管37を経てベントガス処理系(図示
省略)へ排出、送給される。
に供給された廃液は、熱媒により加熱され蒸発し、濃縮
物と蒸発物(以下、ガスと略)とに分離され、濃縮物は
導管31より排出される。一方、ガスには、蒸発濃縮装
置10での廃液の蒸発濃縮過程で生じるミストが同伴さ
れ、ガスの放射線量が高望るため、ガスからミストをで
きる限り分離させる必要がある。そこで、蒸発濃縮装置
10からミストを同伴したガスを導管33を経て気液分
離a12に供給しワイヤメツシュデミスタ−11を通過
させてミストを分離する。その後、ミストを分離され放
射線量が極めて低くなったガスは、導管38を経て復水
器14に供給され、ここでガス中の凝縮性ガス(よ凝縮
、液化され導管部を経て系外に排出され、一方、ガス中
の非凝縮ガスは導管37を経てベントガス処理系(図示
省略)へ排出、送給される。
気液分離器認には、運転時間の経過と共にミスト中の固
形分が徐々に付着し、特に、ワイヤメツシュデミスタ−
11には付着、集積して圧力損失を上昇させると共に、
放射線量が高くなって分解点検時の作業性を着しく低下
させる。そこで、定期的に、又は1分解点検前に、導管
39a、39bを経てスプレーノズル15a、15bi
こ供給され、スプレーノズル15 a + 15 bか
らワイヤメツシュデミスタ−11の表裏面に吹付けられ
る洗浄水によりワイヤメツシュデミスタ−11は洗浄さ
れている。
形分が徐々に付着し、特に、ワイヤメツシュデミスタ−
11には付着、集積して圧力損失を上昇させると共に、
放射線量が高くなって分解点検時の作業性を着しく低下
させる。そこで、定期的に、又は1分解点検前に、導管
39a、39bを経てスプレーノズル15a、15bi
こ供給され、スプレーノズル15 a + 15 bか
らワイヤメツシュデミスタ−11の表裏面に吹付けられ
る洗浄水によりワイヤメツシュデミスタ−11は洗浄さ
れている。
このような気液分離具の洗浄装置では、次のような欠点
があった。
があった。
(1) スプレーノズルから吹付けられる洗浄水の洗
浄効果が気液分離具の表裏面近傍にとどまるため、気液
分離具の中心部まで完全に洗浄することが困難で、又、
大量の洗浄水が必要となる。
浄効果が気液分離具の表裏面近傍にとどまるため、気液
分離具の中心部まで完全に洗浄することが困難で、又、
大量の洗浄水が必要となる。
(2)気液分離具の中心まで完全に洗浄することが困難
なため、放射性廃棄物処理装置を構成する気液分離器で
は放射線量が依然として高い状態にあり、従って、気液
分離器の分解点検時の作業性が低下する。
なため、放射性廃棄物処理装置を構成する気液分離器で
は放射線量が依然として高い状態にあり、従って、気液
分離器の分解点検時の作業性が低下する。
本発明は、−F記欠点の除去を目的としたもので、多孔
板を気液分離具に対向し下方の位置で気液分離器に内股
すると共に、洗浄水供給用の導管を気液分離具より上方
の位置で気液分離器に連結し。
板を気液分離具に対向し下方の位置で気液分離器に内股
すると共に、洗浄水供給用の導管を気液分離具より上方
の位置で気液分離器に連結し。
激しい気液混相流となった洗浄水により気液分離具の中
心部まで十分に洗浄することができる気液分離具の洗浄
装置を提供するものである。
心部まで十分に洗浄することができる気液分離具の洗浄
装置を提供するものである。
本発明の一実施例を第2図により説明する。
第2図は1本発明による気液分離具の洗浄装置を適用し
た放射性廃棄物処理装置の部分系統図で。
た放射性廃棄物処理装置の部分系統図で。
尚、第2図で、第1図と同一装置、部品等は同一符号で
示し説明を省略する。
示し説明を省略する。
第2図で、多孔板16が気液分離具、例えば、ワイヤメ
ツシュデミスタ−■に対向し下方の位置で気液分離器稔
に内設され、気体吹込み弁4が設けられた気体吹込み用
の導管40が多孔板16より下方の位置で気液分離器稔
に連結されている。又、復水排出用の導管36には、復
水排出弁ρが設けられ復水排出弁ρの前流側の導管36
には、洗浄水供給用羽が設けられた洗浄水供給用の導管
39cと、−′端が、ワイヤメツシュデミスターUより
上方の位置で気液分離@12に連結されると共に、洗浄
水注水弁スが設けられた洗浄水供給用導管39dの他端
とがそれぞれ連結されている。尚、差圧検出器(資)が
設けられた導管41が、導管38と、多孔板16より下
方の位置で気液分離器りとに連結されている。
ツシュデミスタ−■に対向し下方の位置で気液分離器稔
に内設され、気体吹込み弁4が設けられた気体吹込み用
の導管40が多孔板16より下方の位置で気液分離器稔
に連結されている。又、復水排出用の導管36には、復
水排出弁ρが設けられ復水排出弁ρの前流側の導管36
には、洗浄水供給用羽が設けられた洗浄水供給用の導管
39cと、−′端が、ワイヤメツシュデミスターUより
上方の位置で気液分離@12に連結されると共に、洗浄
水注水弁スが設けられた洗浄水供給用導管39dの他端
とがそれぞれ連結されている。尚、差圧検出器(資)が
設けられた導管41が、導管38と、多孔板16より下
方の位置で気液分離器りとに連結されている。
ワイヤメツシュデミスタ−Hに、蒸発濃縮装置10から
導管33を経て気液分離器に供給されたガスに同伴され
たミスト中の固形分が付着、薬槽すると圧力損失が上昇
し、又、放射線量も高くなる。
導管33を経て気液分離器に供給されたガスに同伴され
たミスト中の固形分が付着、薬槽すると圧力損失が上昇
し、又、放射線量も高くなる。
この圧力損失の上昇程度を差圧検出器50により検出し
、これにより、ワイヤメツシュア′ミスタ−Hの洗浄時
期を把握する。
、これにより、ワイヤメツシュア′ミスタ−Hの洗浄時
期を把握する。
ワイヤメツシュデミスタ−Hの洗浄時には、まず、気体
吹込み弁21を開弁し導管40を経て気体、例えば、空
気を気液分離器稔の多孔板16の下方に吹込むと共に、
復水排出弁酋を閉弁、洗浄水供給弁お、洗浄水供給弁冴
を開弁し導管39c、36.39dを経て洗浄水を気液
分離器稔のワイヤメブシ。
吹込み弁21を開弁し導管40を経て気体、例えば、空
気を気液分離器稔の多孔板16の下方に吹込むと共に、
復水排出弁酋を閉弁、洗浄水供給弁お、洗浄水供給弁冴
を開弁し導管39c、36.39dを経て洗浄水を気液
分離器稔のワイヤメブシ。
デミスタ−11の上方に供給する。その後、この洗浄水
は、ワイヤメツシュデミスタ−11を通過しながら流下
し多孔板16上に落下する。この場合、多孔板16にお
いては、下方より吹込まれた空気の上昇流と落下する洗
浄水とに圧力のバランス関係が生じるため、ワイヤメツ
シュデミスタ−■から多孔板16上に落下した洗浄水は
泡沫状態となり、更に、空気の吹込み量がある量以上に
なるとフラブティング状態となり、多孔板16上の洗浄
水はこれ以上流下しなくなる。このようにフラブテイン
グ状態になると多孔板16上の洗浄水は、激し0気液混
相流となってワイヤメツシュデミスタ−11に向って流
れ、ワイヤメゾシュデミスター11を洗浄。
は、ワイヤメツシュデミスタ−11を通過しながら流下
し多孔板16上に落下する。この場合、多孔板16にお
いては、下方より吹込まれた空気の上昇流と落下する洗
浄水とに圧力のバランス関係が生じるため、ワイヤメツ
シュデミスタ−■から多孔板16上に落下した洗浄水は
泡沫状態となり、更に、空気の吹込み量がある量以上に
なるとフラブティング状態となり、多孔板16上の洗浄
水はこれ以上流下しなくなる。このようにフラブテイン
グ状態になると多孔板16上の洗浄水は、激し0気液混
相流となってワイヤメツシュデミスタ−11に向って流
れ、ワイヤメゾシュデミスター11を洗浄。
通過した後に、導管3Bを経て復水器14に供給される
。復水器14では、気液混和流となった洗浄水の流速が
小さくなるので気液に分離された空気は、導管37を経
て系外へ排出され、一方、分離された洗浄水は、液ヘッ
ドにより洗浄水注水弁スを介し導管36,39dを経て
気液分離器稔のワイヤメツシュデミスタ−11の上方に
再で供給される。尚1この場合、フラブテイング状態が
保持された後は、洗浄水供給用幻を閉弁し、気液分離器
認への新たな洗浄水の供給を停止する。
。復水器14では、気液混和流となった洗浄水の流速が
小さくなるので気液に分離された空気は、導管37を経
て系外へ排出され、一方、分離された洗浄水は、液ヘッ
ドにより洗浄水注水弁スを介し導管36,39dを経て
気液分離器稔のワイヤメツシュデミスタ−11の上方に
再で供給される。尚1この場合、フラブテイング状態が
保持された後は、洗浄水供給用幻を閉弁し、気液分離器
認への新たな洗浄水の供給を停止する。
本実施例のような気液分離具の洗浄装置では、次のよう
な効果が得られる。
な効果が得られる。
(1) ワイヤメツシュデミスタ−は、激しい気液混
相流となった洗浄水により、その中心部ソで十分に洗浄
される。
相流となった洗浄水により、その中心部ソで十分に洗浄
される。
(2)気液分離器と復水器との間で洗浄水な循環させて
いるので、洗浄水の使用量を大幅に減量できる。
いるので、洗浄水の使用量を大幅に減量できる。
(3)激しい気液混相流となった洗浄水を、ワイヤメツ
シュデミスタ−の洗浄後、この状態で気液分離器から復
水器に供給しているので、気液分離器と復水器とを連結
した導管をも十分に洗浄できる。
シュデミスタ−の洗浄後、この状態で気液分離器から復
水器に供給しているので、気液分離器と復水器とを連結
した導管をも十分に洗浄できる。
(4) ワイヤメゾシュデミスタ−を十分に洗浄でき
るので、気液分離器の放射線量が低下し、分解点検時の
作業性が向上する。
るので、気液分離器の放射線量が低下し、分解点検時の
作業性が向上する。
尚、本実施例では、気液分離器の多孔板の下方に空気を
吹込みフラプティング状態とする場合について説明した
が、この他に、洗浄時に蒸発濃縮装置を運転することで
ガスを発生させ、このガスを気液分離器の多孔板の下方
に供給してフラッティング状態としても良(、更に、こ
の他に、気液分離器の多孔板に空気を吹込むと共に、蒸
発濃縮装置からガスを供給してフラッティング状態とし
ても良い。又、本実施例では、ワイヤメツシュデミスタ
−より上方の位置で気液分離器に連結された洗浄水供給
用の導管を分断し、復水器に連結された復水排出用の導
管の復水排出弁の前流側に連結した場合につき説明した
が、この他−に、洗浄水の使用量は増量となるが、洗浄
水供給用の導管を、ワイヤメツシュア′ミスタ−より上
方の位置で気液分離器に直接、連結しても良い。
吹込みフラプティング状態とする場合について説明した
が、この他に、洗浄時に蒸発濃縮装置を運転することで
ガスを発生させ、このガスを気液分離器の多孔板の下方
に供給してフラッティング状態としても良(、更に、こ
の他に、気液分離器の多孔板に空気を吹込むと共に、蒸
発濃縮装置からガスを供給してフラッティング状態とし
ても良い。又、本実施例では、ワイヤメツシュデミスタ
−より上方の位置で気液分離器に連結された洗浄水供給
用の導管を分断し、復水器に連結された復水排出用の導
管の復水排出弁の前流側に連結した場合につき説明した
が、この他−に、洗浄水の使用量は増量となるが、洗浄
水供給用の導管を、ワイヤメツシュア′ミスタ−より上
方の位置で気液分離器に直接、連結しても良い。
本発明は、以上説明したように、気液分離器に内股され
た気液分離具の洗浄装置において、多孔板を気液分離具
に対向し下方の位置で気液分離器に内設すると共に、洗
浄水供給用の導管を気液分離具より上方の位置で気液分
離器に連結したということで、激しい気液混相流となっ
た洗浄水により気液分離具を洗浄できるので、気液分離
具を、その中心まで十分に洗浄できる効果がある。
た気液分離具の洗浄装置において、多孔板を気液分離具
に対向し下方の位置で気液分離器に内設すると共に、洗
浄水供給用の導管を気液分離具より上方の位置で気液分
離器に連結したということで、激しい気液混相流となっ
た洗浄水により気液分離具を洗浄できるので、気液分離
具を、その中心まで十分に洗浄できる効果がある。
第1図は、従来の気液分離具の洗浄装置を適用した放射
性廃棄物処理装置の部分系統図、第2図は1本発明の一
実施例を説明するもので、本発明による気液分離具の洗
浄装置を適用した放射性廃棄物処理装置の部分系統図で
ある。 10・・・・・・蒸発濃縮装置、U・・・・・・ワイヤ
メブシ、デミスタ−1L・・・・・・気液分離器、14
・・・・・・復水器、16・・・・・・多孔板、4・・
・・・・気体吹込み弁、ρ・・・・・・復水排出弁、n
・・・・・・洗浄水供給弁、ス・・・・・・洗浄水注水
弁33.36から38.39 c 、39 d 、 4
0 、41−導管、50・・・・・・差圧検出器
性廃棄物処理装置の部分系統図、第2図は1本発明の一
実施例を説明するもので、本発明による気液分離具の洗
浄装置を適用した放射性廃棄物処理装置の部分系統図で
ある。 10・・・・・・蒸発濃縮装置、U・・・・・・ワイヤ
メブシ、デミスタ−1L・・・・・・気液分離器、14
・・・・・・復水器、16・・・・・・多孔板、4・・
・・・・気体吹込み弁、ρ・・・・・・復水排出弁、n
・・・・・・洗浄水供給弁、ス・・・・・・洗浄水注水
弁33.36から38.39 c 、39 d 、 4
0 、41−導管、50・・・・・・差圧検出器
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 器に、誉寄ミスト同伴ガス供給用の導管とtlM−ミス
ト分離ガス供給用の導管との連結位置との間で内設され
た気液分離具の洗浄装置において。 多孔板を前記気液分離具に対向し下方の位置で前記気液
分離器に内設すると共に、洗浄水供給用の導管を気液分
離具より上方の位置で気液分離器に連結したことを特徴
とする気液分離具の洗浄装置。 1項1e@の気液分離具の洗浄装置。 ゛ 、 篭 前記気液分離具を、ワイヤメブシュデミスターとし
た特許請求の範囲第1項記載の気液分離具の洗浄装置。 ÷ を 差圧検出器が設けられた導管を、前記ミスト分離ガ
ス供給用の引ト、前記多孔板の下方の位置で気液分離器
とに連結した特許請求の範囲第1項記載の気液分離具の
洗浄!ikM。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57038009A JPS58155397A (ja) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | 気液分離具の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57038009A JPS58155397A (ja) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | 気液分離具の洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58155397A true JPS58155397A (ja) | 1983-09-16 |
Family
ID=12513571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57038009A Pending JPS58155397A (ja) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | 気液分離具の洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58155397A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011045834A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Miura Co Ltd | 洗浄装置 |
-
1982
- 1982-03-12 JP JP57038009A patent/JPS58155397A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011045834A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Miura Co Ltd | 洗浄装置 |
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