JPS5814994A - 廃水浄化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、排水の供給装置と、浄水の流出装置と、通気
装置とを備えた、反応タンクで正常圧力と周囲温度で固
い触媒、粒子の存在において、１俊素を含むガスまたは
酸素で廃水内容物質全酸化することによシ廃水を浄化す
るための装置に関する。

ドイツ特許明細書から、乳状にされかつ溶解された、酸
化可能な有機質および無機質の物質で汚されている廃水
を浄化する方法が公知である。この公知の方法では、浄
化すべき水を活性炭−またはイオン交換器−触媒の存在
において空気と混合し、そして廃水に含まれた酸ｆヒ可
能な物質を、接触作用を及ぼす酸素６反応Ｖこより正常
圧力および周囲温度で、従って約１バールおよび約５−
５０°Ｃで分解するｇこの浄化方法は、触媒で満たされ
た反応室で実施され、その底に通気ノズルが配置され、
このノズルにより廃水に酸素を含むガスがもたらされる
。反応室に連続的に廃水が供給され、かつ浄化された廃
水が取り出場れる。触媒粒子が廃水と空気の流れにより
浮遊状態に保持されて乱嘔れるので、反応体に常に十分
大きな触媒表面が与えられる。

また、反応室に攪拌装置または循環ポンプを設けて、接
触作用を及ぼす酸化反応を促進させることも提案された
。

この公知の反応室には、触媒渦層を維持するために、空
気流によりもたらされねばならない比較的大きいエネル
ギー量を必要とする欠点がある。それは通気空間１　ｍ
３当り約５．ｒ？の空気が必要になる。さらに、力強い
空気流により触媒の一定部分が常に望ましくない仕方で
磨滅式れる。攪拌装置全敗りつけたことにより、なるほ
ど触媒渦層を維持するのに必要な空気量を減らすことが
できるが、触媒、の磨滅を減らすことができない。また
、渦層を発生させるために触媒−廃水−混合物を再循環
させることも、触媒の磨滅が激しすぎるので、満足な結
果を与えなかった。さらに、攪秤装置とポンプに必要な
エネルギー量が、攪拌装置とポンプを取９つけることに
、ｃ！ｌｌ空気量を減少させて節約される工・ネルギー
量より大きい。

鏡像的に相互に変位された二つのタンクからなり、中間
壁に供給装置と流出装置がない、二重タンクとして特徴
づけられるタンク形が使用された。水はその中間壁を越
えて上方へ流れる。

主流方向で中間壁の範囲には、両側に、垂直な円形流の
形成を保護する転向部材が下方から上方に同かつて配置
されている。

この従来の設置されたタンク形の場合、例えばタンク過
負荷のときに水の流れ方向に中間壁を越えて達する接触
物質が再び流れ方向に送って戻爆れることが、タンク幅
の境界の近くにあるのが欠点である。その上、空気の分
配が種々あるときに、接触物質が比較的わずかな空気流
出方向に運ばれ、このため不規則性１が著しくなる。接
触物質がタンクに完全に無秩序に沈澱するので、渦層が
失なわれるかまたは沈澱個所で空気の流出を邪魔する。

グラブまたは特殊ポンプのような機械的装置を用いて接
触物質の戻り移送がなるほど可能であろうが、これらの
手段は煩雑で、費用がかかりそしてしばしば実用向きで
はない。前述の欠点を避けるために、合流を生ずるタン
クが早くも使用された。しかしながら、このため接触物
質が全く一方の側に沈澱し、そしてそれ自体でやはり出
口を塞ぐことになった。

本発明は、触媒−渦層および廃水流を発生させるために
できるだけわずかなエネルギーならの破壊を強く抑制し
、そして嘩らに前述の欠点が避けられるような、触媒−
酸化による廃水浄化を実施する装置を創造することを課
題の基礎としている。

この課題は、本発明により次のようにして解決される。

すなわち、反応タンクが、矩形また方形で上方に開口し
かつ下方には両側でタンク中央に対し傾斜した底全備え
た容器からなり、容器の内方には容器深さに広がる矩形
の上昇通路を設け、この上昇通路が底、の上方に間隔を
おいて始まって上の液体レベルの下方で終るようにし、
そして上昇通路の下方に通気装置を設けれ−ば良い。

ンの手段で水−接触物質一空気一混合物が底から氷表面
へ搬送され、その除泥れが均等に指向される。接触物質
の均衡が室から室へ自動的に行わ九る。接触物質の一部
が漏斗状部に沈澱した場合には、流れが自動的な戻りを
行う。従って、接触物質の部分が全ての室で常に同じに
なっている。

この場合、下流を両側から作用される案内壁を用いて導
き、そして多くの室では一つの室力１ら他の室への水の
通゛過（溢流）部を案内壁のＦ部に配置するのが有利で
ある。接触物質カニ一つのタンクから他のタンクへ渡ら
ないように阻止するために、流れ案内壁が下部に流れ転
回部□材を保持している。案内壁は５０チまでｆｌｊえ
ば０．６　ｔｅａのメツシュサイズのスクＩノーンカ１
らなることができる。本発明によれば、１用の力＞７５
Ｎる供給装置と流出装置を設けずに二つ以上の室金相並
べて配置することができる。

大抵、反応タンクの長さ力ｉ制限されないで、それどこ
ろかタンク幅とタンク高さ力；市１］限される。従って
、必要な反応空間を維持するために、多くの室が前後し
て連結され、これらの室には、流入分配部を有する室入
口と、溢流縁および流出邪魔板を有する室出口しめ為な
い。この場合、接触物質を、部分が通気空間１−当り約
３俤になるように渦層に分配すること力玉できる。

以下、本発明を実施例について図面により説、明する。

実施例では、反応タンク１が両方の容器型１［壁２と４
ならびに両方の容器長手方向壁５と５により形成されて
いる。□仕切壁・１４と１５力Ｅ（固々の処理室１６．
１７および１８を形成している。

これらの室のそれぞれの下方には底６．７および８が設
けられており、これらの底は傾ネ＋シた底部・分６ａ、
６ｂならびに７ａ、７ｂまたは８ａならびに８ｂによＰ
形成されている。これらの底部分が、一方ではそれらの
最も深い位置９．１０および１１で互いに結合され、７
５１つさらにそれらの最も高い位置１２と１３で屋根形
に互に結合されている。屋根形の結合部１２と１３は仕
切壁１４と１５の下方に存在している。

室１６の内方には、容器壁２と間隔を置いて刃ｌｊの案
内壁１９が配置されてお９、この案内壁は下方の取入れ
隙間４０と共に通路２０全形成している。壁１９は、浄
水のための出口２２の電百囲にまで導かれている。容器
壁４には、廃水のための入口２１が設けられている。こ
れらの壁の下縁と底６〜８の連結位置１２および１３と
の間にそれぞれ溢流開口３８および３９が生ずるように
案内壁１４と１５が配置され、・それにより室１６〜１
８の内方に一様な高い水位が生じる。さらに、各室１６
〜１８には上昇通路２６．２７．２８が設け〆られ、こ
れらの上昇通路は最も深い底位置９，１０．１１の上方
に一定の間隔Ａをおいて始まシ、そして上方の範囲が水
位２３〜２５の下方で終る。通路２６〜２８は仕切壁２
６ａ、２．７ａおよび２８ａ　ＶＣより個ｈｃＤ室’２
６ｂ、２７ｂ　、２８ｂ　ＶＣ細分されテいる。

上昇通路２６〜２８の下方には、ノズル形の開口３５ａ
、３６ａ、５７ａを有する通気管６５゜５６．３７が存
在し、これらの通気管は、各室２６．２７または２８に
一つまたは複数のノズル３５ａ、３６ａまたは３７ａが
付設されるように配置泡れている。通気管３５〜３７は
供給溝。

管２９〜３１を介して送風機６２〜６４により作用され
る。

廃水を室１８の接続管２１を介して供給する。

ノズル３７ａから出る空気により廃水が上昇通路２８の
内方を上方へ導かれ、この通路から出てさらに下方へ落
下する。この過程が非常に長くくり返され、遂には廃水
が溢流ロ６９ｆ：越えて室１７に溢流し、そしてそこで
同じ過程をく９返丁。この過程が同様に室１６でもくり
返される。浄化された水が反応タンク１の出口２２を介
して通路２０を出る。例えば、室の内方Ｖこ多くの触媒
粒子が集まって広範囲の内方に沈澱する場合には、乱流
によりこの触媒粒子が上方に同って駆動され、そしてこ
れを開口３８と３９を越えて全ての三つの室に一様に分
配することができる。実験によると、入口２１から出口
２゛２まで水流があるにもかかわらず、触媒粒子がこの
流れに逆って個々の室に一様に分配されることを示した
。

１図の装置の平面図である。

１・・・反応タンク　　　６・・・底 ２１・・・流入装置　　　　２２・・・流出装置２３・
・・液体レベル　　　２６・・・上昇通路６５・・・通
気装置 ＩＧ１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）廃水の供給装置と、浄水の流出装置と、通気装置
   とを備えた、反応タンクに正常の圧力と周囲温度で固い
   触媒粒子の存在において、酸素を含むガスまたは酸素で
   廃水内蓉物質を酸化することにより廃水を浄化する装置
   において、反応タンク（１）は、矩形または方形で上方
   に開口してぃてかっ下方では両側でタンク中央に対して
   傾斜した底（６）を備えた容器（２−５）がらなシ、容
   器の内方には容器深きに広がる矩形の上昇通路（２６）
   が設けられ、この上昇通路は底（９）の上方に間隔をお
   いて始まって、上の液体レベル（２３）の下方で終って
   おり、そして上昇通路（２６）の下方に通気装置（３５
   ）が設けられていることを特徴とする装置。 （２）通気装置（３５）が容器底（６）の最も深い位置
   （９）に配置されている、特許請求の範囲第１項記載の
   装置。 （３）通気装置が、孔のあいた管（６５）からなる、特
   許請求の範囲第２項記載の装置。 （４）管（３５）の開口（３５ａ）が、空気揚水ポンプ
   の原理に従って働くノズルとして形成されている、特許
   請求の範囲第２項または第３項記載の装置。 （５）・通気管（３５）と上昇通路（２６）の下端の間
   の間隔（Ａ）が上昇通路（２りの幅（、Ｂ）の０．５−
   ３．．０倍になるようにした、特許請求の範囲１−４項
   のうちのＡずれか一つに記載の装置。 （６）上昇通路（２６）が横壁（２６ａ）　Ｋよシ多く
   の室（２６ｂ）（Ｃ細分され、各室（２６ｂ）Ｋ通気管
   （３５）の一つまたは複数のノズル（３５ａ）が付設さ
   れている、特許請求の範囲第１−５項のうちのいずれか
   一つに記載の装置。 （７）反応タンクが１０容積−％まで触媒粒子で満たさ
   れてｒる、特許請求の範囲第１−６項のうちのいずれか
   一つに記載の装置。 （８ン　　反応タンク（りを薄い仕切壁（１４，１５）
   　Ｌでより、１−次水が流通可能な多数の室（１６−１
   ８）に細分し、室から室への溢流部（３８，３９）が仕
   切壁（１４，１５）の下方の範囲に設けられ、そして各
   室に漏斗状の底（６−８）が付設されている、特許請求
   の範囲第１−７項のうちのいずれか一つに記載の装置。 （９）底（６−８）がそれらの最も高い位置（１２゜１
   ３）で屋根状に会合し、そしてこれらの会合位置の上方
   に仕切壁（１４，１５）が配置されている、特許請求の
   範囲第８項記載の装置。 αＯ仕切壁（ｊ４．１５）が、０６ｍのメツシュサイズ
   のスクリーンからなる、特許請求の範囲第９項記載の装
   置。 α◇　仕切壁（１４，１５）の下宇部のみがスクリーン
   とＩ〜で形成されている、特許請求の範囲第１０項記載
   の装置。 α埠　各室（１６−１８）に上昇通路（２６−２’８）
   が設けられ、これらの通路は互に平行であシかつ通気管
   （３５−３７）の上方に長さ方向に配置されている、特
   許請求の範囲第１−１１項記載の装置。 α］　出ｐ　（２２）　［付設された室（１６）ニ、通
   路（２０ン容器壁（２）と共に下方の取入れ隙間（４り
   を形成するようにした、特許請求の範囲第１−１２項の
   うちのいずれが一つに記載の装置°。 ◇◆　漏斗状底（６−８）の最も深い位置と上昇通路（
   ２６−２８）が室（１６−１８）の中心軸に対して１０
   ％だけずらされている、特許請求の範囲第８項記載の装
   置。 α→　接触物質の部分が通気空間に関して３％Ａｎ３に
   なる、特許請求の範囲１−１４項記載の装置。