JPS58147433A - 合成樹脂成形面のプラズマ処理方法 - Google Patents
合成樹脂成形面のプラズマ処理方法Info
- Publication number
- JPS58147433A JPS58147433A JP3036682A JP3036682A JPS58147433A JP S58147433 A JPS58147433 A JP S58147433A JP 3036682 A JP3036682 A JP 3036682A JP 3036682 A JP3036682 A JP 3036682A JP S58147433 A JPS58147433 A JP S58147433A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- synthetic resin
- vacuum
- plasma treatment
- plasma
- molded surface
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、IIIII性の悪い合成樹脂成形面を塗料密
着性の嵐好な!ll1IN(:改質するところのプラズ
マ処理方法に関するものである。
着性の嵐好な!ll1IN(:改質するところのプラズ
マ処理方法に関するものである。
従来、真空釜内に被処理物を収容し、その釜内を減圧す
ると共にガスを噴射し、そのガスをマイクロ波でブラズ
i状態にして被処理物に轟てることζ;よプ、合成樹脂
成形面を改質処理するプラズマ処理方法は既(:公知で
ある。然し、その処理後(:も全てが塗料密着性を良好
−二改質されてiるとは限らず、その原因を種゛々研究
したところ、従来は真空釜内を唖漫然と減圧しているに
すぎないことC二起因することが判った。
ると共にガスを噴射し、そのガスをマイクロ波でブラズ
i状態にして被処理物に轟てることζ;よプ、合成樹脂
成形面を改質処理するプラズマ処理方法は既(:公知で
ある。然し、その処理後(:も全てが塗料密着性を良好
−二改質されてiるとは限らず、その原因を種゛々研究
したところ、従来は真空釜内を唖漫然と減圧しているに
すぎないことC二起因することが判った。
鼓1ニジいて、本発明は、真空条件の特定により、必ず
合成樹脂成形面の塗膜密着性を良好C:改質″t@きる
プラズマ処理方法を提供すること、を目的とする。
合成樹脂成形面の塗膜密着性を良好C:改質″t@きる
プラズマ処理方法を提供すること、を目的とする。
即ち、本発明に係るプラズマ処理方法においては、真空
釜内の真空度を0.1〜2.01Orrの範囲とし、好
適な実施例として0.5〜10の範囲とするようにされ
ている。
釜内の真空度を0.1〜2.01Orrの範囲とし、好
適な実施例として0.5〜10の範囲とするようにされ
ている。
以下、これを図面(:基づいて詳述すれば、次の通りで
ある。
ある。
プラズマ処理では、真空釜1を用いる。その真空釜l内
に塗膜密着性の悪い合成樹脂成形品を処理物2七して収
容するが、その例としてはポリフロピレン。ポリエチレ
ン、ナイロン、PBT。
に塗膜密着性の悪い合成樹脂成形品を処理物2七して収
容するが、その例としてはポリフロピレン。ポリエチレ
ン、ナイロン、PBT。
ポリオレフィン系樹脂尋の単体、混合物または1h合物
ζ二よる成形品があり、特にホモポリプロビレ/を使用
したものが塗膜の密着性が悪い。
ζ二よる成形品があり、特にホモポリプロビレ/を使用
したものが塗膜の密着性が悪い。
真空J&1は、ポンプ3で減圧し、ガスをボンベ4より
供給する。このガスには、空気、酸素。
供給する。このガスには、空気、酸素。
窒票、アルゴン、ヘリウム等の単体またはそれらの混合
物を用いることができる。ガスは配管5を通り、プラズ
マ発生部6でマイクロ波発生+fI7からのマイクロ波
によりプラズマ状態になる。このプラズマは吹出口8よ
り真空谷内に放出されて、被処理物の表面(=当てる。
物を用いることができる。ガスは配管5を通り、プラズ
マ発生部6でマイクロ波発生+fI7からのマイクロ波
によりプラズマ状態になる。このプラズマは吹出口8よ
り真空谷内に放出されて、被処理物の表面(=当てる。
この際の真空釜1内は、真空度を0.1〜2.0tor
rの範囲にして置くと処理物2の塗膜密着性を良好(:
改質することができ、特に好適な範囲としては05〜1
.Qtorrである、 これを実証するため、次の条件下で特に塗膜密着性の悪
いホモポリプロビレ/の成形品ζ:対1、てプラズマ処
理を施してみた。
rの範囲にして置くと処理物2の塗膜密着性を良好(:
改質することができ、特に好適な範囲としては05〜1
.Qtorrである、 これを実証するため、次の条件下で特に塗膜密着性の悪
いホモポリプロビレ/の成形品ζ:対1、てプラズマ処
理を施してみた。
第1実施例
カス:空気
ガス流量: 5600 c省1.。
プラズマ処理時の真空圧カニ (101〜l Otor
rマイクロ波: 2450 MH2 出力=8V 処理時間: 60 sec 第2実施例 出力を4蹟とした以外、他の条件は第1夾施例と同一に
した。
rマイクロ波: 2450 MH2 出力=8V 処理時間: 60 sec 第2実施例 出力を4蹟とした以外、他の条件は第1夾施例と同一に
した。
これらプラズマ処理後のボモボリプレプレン成形品ζ:
ウレタン系2液性塗料を撒布し、100℃×60分間乾
燥後塗膜にナイフで11本づつ直角にカット目(1,5
w幅の基盤目)を入れた。その各試料にニチバンセロテ
ープ(24−幅)で塗膜の密着テストを行ったところ、
第2図のグラフで示す如く真空度は最低で41及び2夾
施例共4:Q、1torr程度が若干塗膜剥離を生ずる
ものの許容範囲であることを実証でき、また最高では第
1実施例の場合1.0torrが許容1iIli!囲で
あり、第2実施例の場合(:は2.01orrが許容範
囲であることを実証できた。この密着テストに1み、真
空:!IiI内の真空度は0.1〜2. Otorrの
範囲がよく、特に望ましい範囲は0.5〜1.01or
rの範囲であることが判った。
ウレタン系2液性塗料を撒布し、100℃×60分間乾
燥後塗膜にナイフで11本づつ直角にカット目(1,5
w幅の基盤目)を入れた。その各試料にニチバンセロテ
ープ(24−幅)で塗膜の密着テストを行ったところ、
第2図のグラフで示す如く真空度は最低で41及び2夾
施例共4:Q、1torr程度が若干塗膜剥離を生ずる
ものの許容範囲であることを実証でき、また最高では第
1実施例の場合1.0torrが許容1iIli!囲で
あり、第2実施例の場合(:は2.01orrが許容範
囲であることを実証できた。この密着テストに1み、真
空:!IiI内の真空度は0.1〜2. Otorrの
範囲がよく、特に望ましい範囲は0.5〜1.01or
rの範囲であることが判った。
以上の如く、本発明舊:係るプラズマ処理方法C:憤れ
ば、真空極内の減圧値を特定すること(二より、必ず合
成樹脂成形面を塗膜密着性の良好な表面に改質できるよ
うC二なる。
ば、真空極内の減圧値を特定すること(二より、必ず合
成樹脂成形面を塗膜密着性の良好な表面に改質できるよ
うC二なる。
m1図は本発明1:係るプラズマ処理方法の実施に用い
る設備の説明図、第2図はプラズマ処理時の真空度と塗
膜の密層性との関係を示すグラフである。 1:真空釜、2:合成樹脂成形品、3:減圧、?ノブ、
4:ガスボンベ、5:配管、6:プラズマ発生部、7:
マイクロ波発生機、8:ブラ゛Xマ吹出口。
る設備の説明図、第2図はプラズマ処理時の真空度と塗
膜の密層性との関係を示すグラフである。 1:真空釜、2:合成樹脂成形品、3:減圧、?ノブ、
4:ガスボンベ、5:配管、6:プラズマ発生部、7:
マイクロ波発生機、8:ブラ゛Xマ吹出口。
Claims (2)
- (1) ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリオレフ
ィン系合成樹脂等Ik#I&性の悪い合成樹脂により形
成した樹脂成形面に、真空度0.1〜2.0torrの
範囲でプラズマ処理を施すようζ;したことを特徴とす
る合成樹脂成形面のプラズマ処理方法。 - (2)上記真空度を、0.5〜l、Qtorrの範囲に
したところの特許請求のi+ni第1項記載のプラズマ
処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3036682A JPS58147433A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | 合成樹脂成形面のプラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3036682A JPS58147433A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | 合成樹脂成形面のプラズマ処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58147433A true JPS58147433A (ja) | 1983-09-02 |
Family
ID=12301860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3036682A Pending JPS58147433A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | 合成樹脂成形面のプラズマ処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58147433A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0120307A2 (en) * | 1983-02-25 | 1984-10-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
CN103483615A (zh) * | 2013-10-08 | 2014-01-01 | 昆山纯柏精密五金有限公司 | Pbt塑料件的表面处理方法及连接方法 |
-
1982
- 1982-02-26 JP JP3036682A patent/JPS58147433A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0120307A2 (en) * | 1983-02-25 | 1984-10-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
EP0120307A3 (en) * | 1983-02-25 | 1989-05-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
CN103483615A (zh) * | 2013-10-08 | 2014-01-01 | 昆山纯柏精密五金有限公司 | Pbt塑料件的表面处理方法及连接方法 |
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