JPS5814515A - 絶縁処理された電気機器コイルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は絶縁処理された電気機器コイルの製造法に関す
る。

従来の絶縁処理された電気機器コイルの製造法としては
７０〜１６０’Ｃに予熱した電気機器コイルを水平又は
一定角度に傾斜させて回転させながら、そのコイル上に
不飽和ポリニス４チル樹脂、エポキシ樹脂などの無溶剤
形ワースを滴下させ、コイル内にフェスを均一に含浸さ
せると共に、これを１２０〜１５０℃の温度で３０〜１
２０分程度の加熱を行なって硬化せしめる方法又は電気
機器コイルをフェスの入つた槽内に浸漬し、コイル内に
フェスを均一に含浸させた後、引き上げ、これを１００
〜１５０℃の温度で１〜１５時間程度の加熱を行なって
硬化させる方法が行なわれている。しかし、これらの方
法は従来の不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の
薫溶剤形フェスを使用する限り、大幅な絶縁処理時間の
短縮化、加熱硬化中の反応性モノマ等の揮発量及び臭気
の抑制が不十分であった。

本発明は、このような従来の欠点を等決する、ためにな
されたもので１本発明は紫外線及び熱硬化性を有する絶
縁フェスを電気機器コイルに含浸処理後、紫外線照射と
通電加熱とを併用して硬化させる絶縁処理され九電気機
器コイルの製造法に関する。

絶縁ワニスの電気＊ａミコイルの含浸は、を気４ｓコイ
ルの絶縁フェス中への浸漬、電気機器コイルへの絶縁フ
ェスの滴下等によって行なわれる。

通電加熱は、電気機器コイルに：ＩＥ６１Ｅを流し。

ジュール熱を発生させて行なわれる。このジュール熱に
よって電気鳴器コイルに含浸された絶縁ワニスは硬化さ
れる。電気機器コイルに流れる電流の大きさによって１
発生するジュール熱が決まる。

本発明によって短時間の硬化で硬化中に揮散する反応性
モノｉ等の揮発成分の発生量を減少せしめて絶縁処理さ
れた電気機器コイルが製造される。すなわち１本発明を
用いて電気機器コイルの絶縁処理を行なえば硬化時間は
従来の不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の燕溶
剤形ワニスを用いた場合の約１／１０になり。

紫外線により表面層を短時間で硬化できるため。

表面及び内部からの揮発成分の揮発量が抑制され、従来
の加熱硬化法の約１７４以下になる。

本発明の絶縁処理された電気機器コイルの製造法の例を
図によって説明すれば１例えば第１図に示した６ステー
シ曹ンのター／テーブルｌのコイル着脱部■のチャック
２にコイルを取付け１次に通ｖｌＰ熱部■で交流電源３
により予熱される。予熱は必ずしも必要でないが、ワニ
スの含浸性向上には有効である。

次にワニス滴Ｆ部■で、コイル上にワニス定量滴下ボン
グ４により、ワニスを滴下させたあと紫外線照射部［Ｆ
］■でランプ室７内の紫外線ランプ５により紫外線を照
射して、ワニス表面１を硬化させる。

さらに、＊加熱部■で交流電源６により通電加熱処理さ
れて硬化が終Ｔし、コイル着脱部■でコイルがはずされ
る。

なお、■［Ｆ］■の工程では、ワニスの傘滴防１Ｅとコ
イル全体に紫外線を照射するため、チャック２を自転さ
せてコイルは回転される。

また、１ｇ２図においては、６ステーシヨンのター／テ
ーブルｌのコイル着脱部■のチャック２にコイルを取付
け９次に通鑞予熱部■で交流を源３により予熱される。

予熱は必ずしも必要でない。

次にワニス浸漬部■でワニスが入ったワニスｆｌＩ８が
リッターで上昇し、コイルが槽内のワニスに浸漬される
。

ワニスにコイルを浸漬した後、ワニス槽をゆっくり引き
上げ、ワニスを余滴滴下させた後。

紫外線照射部［Ｆ］■でランプ室７内の鯖外線ランプ５
により紫外線を照射してワニス表面層を硬化させる。

さらに、後加熱部■で交流型１６により通電加熱処理さ
れて、硬化が終ｒし、コイル着脱部■でコイルがはずさ
れる。

なお、＠［Ｆ］■の工程では、ワニスの余滴防止とコイ
ル全体に紫外線を照射するためチャック２を自転させて
コイルは回転される。

第１図及び第２図は本発明に用いられる装置の一例であ
って本発明で用いる装置は第１図及び第２図に示すもの
に制限されない。

本発明で使用される通電加熱装置の電圧、出力等はコイ
ルの太さ９巻回数、コア径、積厚などに合わせて設計す
る必要があるが、電圧は１０〜２００　Ｖ、　電ｆｉ容
量ハ１〜５０Ａｌｉｌ［）ものが使用で色る。

本発明の紫外線としては、光の波長範囲とし光源として
は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、アーク
灯などが使用できる。

本発明に使用する紫外線及び熱硬化性を有する絶縁ワニ
スとしては、不飽和ポリエステル。

架橋性単量体、光増感剤、ラジカル重合開始剤。

必要に応じて、硬化促進剤１重合禁止剤を含有する不飽
和ポリエステル＊＊組成物、アクリル酸エステルのオリ
ゴマーおよび／またはメタクリル酸エステルのすリボマ
ー、架橋性単量体。

光増感剤、ラジカル重合開始剤、必要に応じて硬化促進
剤９重＆Ｊ１！と剤を含有する組成物、アクリル変性ポ
リブタジェン、ポリブタジェン。

不飽和エポキシエステルなどの紫外線及び熱によって硬
化可能な樹脂はすべて使用できる。また必要に応じて無
機質充てん剤として石美ガラス粉末、永和アルミナ粉末
、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、マイカ粉、谷成璽
母、＆成璽母粉、酸化アルミナ、シリカ、ｔども使用で
きる。

さらに詳しく述べれば、不飽和ポリエステルは、１１成
分とアルコール成分から、場きによっては酸成分、アル
コール成分　変性成分とからき成される。酸成分として
は、マレイン酸、、４水マレイン酸、フマル酸、イ２コ
ン酸、シトラコン酸、エンドメチレンテト少ヒドロ無水
フタル酸、メチルエンドメチレノテトラヒドロ無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの不飽和Ｉｆ１．
フタル酸、涌水フタルａ、イン７タル酸、テレフタル酸
、アジピン酸、安息香酸などの反応性の不飽和納会を有
しない酸、大豆油。

トール油、ヤシ油、ヒマシ油などの植物油憎肪虐および
これらの誘導体等が用いられる。

ナルコール成分としては、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、ジプロビレノ
グリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール
、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトールなどが使用される。

変性成分としては、ジシクロペンタジェン。

シクロペンタジェンおよびこれらの誘導体が使用できる
。

架橋性単量体としては、スチレン、ビニルトルエン、α
−メチルスチレン、ターシャリ−ブチルスチレン、クロ
クスチレン、ジビニルベンゼン、各種メタクリル酸エス
テル、各種アクリル酸エステル、ジアリルフタレート、
ジアリルイソフタレート、マレイン酸ジエステル、フマ
ル鹸ジエステル、イタコン酸エステルなどが使用される
。

光増感剤としては、ベンゾイン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフ
ェニルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ベンゾイ
ンチオエーテル類ベンゾフェノン、アセトフェノン、ｚ
２−ジメトキシ−２−２エニルアセトフエノン等のアセ
トフェノン類、２−エチルアントラ孝ノン、ベンゾイン
エーテル−ミヒラーケトン系シよび塩化デシルなど任意
のものが使用できる。

ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイ
ド、アセチルパーオキサイド等のアシルパーオキずイド
、ターシャリ−ブチルパーオキサイド、キュメンヒドロ
パーオキサイド等のヒドロパーオキサイド、メチルエチ
ルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサ
イド等のケトンパーオキサイド、ジターシャリ−ブチル
パーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のアルキル
パーオキサイド、ターシャリ−フチルバーベンゾエート
、ターシャリ−ブチルパーオキシアセテート等のオキシ
パーオキサイド等が用いられる。

硬化促進剤としては、鉄、コバルト、鉛、マンガン、ニ
ッケル、スズ、亜鉛等のナフテンｄ１１オクテン＃壇が
用いられる。

重＊ａｔｉ−剤としては、ハイドロキノン、パラターシ
ャリ−ブチルカテコール、ピロガロ−、ル等のキノン頌
、その他一般に使用さ杆るものが用いられる。

アクリル酸エステルのオリゴマーおよび／またはメタク
リル酸エステルのオリゴマーとは。

通常の多官能メタクリル酸エステルの共重合体。

および単独慮倉体が用いられる。

つぎに本発明の実施例、比較例を示す。

なお、実施例、比較例中で部および慢とあるのは質量部
、ｊｌｔ量係である。

〔ワニスＡの作成〕

無水マレイン酸９８２（１モル）、無水フタル酸７４）
（０，５モル）、大豆油脂肪酸２８２ｙ（ｏ、ｓモル）
、プロピレングリコール１６７．２？（２２モル）を四
つロフラスコに仕込み、ちつ素ガス吹き込み下に攪拌し
、１８０℃Ａ１時間保ち、２１０℃〜２２０℃で反応を
続は酸価２０．０の不飽和ポリエステルＡを得た。この
不飽和ポリエステルにハイドロキノン０．３）、オクテ
ン酸コバルト０．６）、スチレン２５０　）ヲ加え混合
攪拌したあとアエロシールφ３８０（日本アエロシール
製）１５Ｐを３本ロールで３回線りし、過酸化ベンゾイ
ル６ｔを加え混合攪拌し均一な溶液ワニスＡを得た。

〔ワニスＢの作成〕

ワニスＡ１００ｇとベンゾインエチルエーテル１部を混
合攪拌しりニスＢを得た。

〔ワニスＣの作成〕

一α記不飽和ポリエステルＡ６０部、スチレン４θ部、
ハイドロキノン０．０２部、オクテン酸コバルト０．２
部、過酸化ベンゾイル１部を混合攪拌し均一な溶液ワニ
スＣを得た。

〔ワニスＤの作成〕

ワニスＣ１００ｉＫベンゾインエチルエーテル１ 〔ワニスＥの作成〕 末端メタクリル基ポリブタジエ７　ＴＥ−　２０００（
日本曹達製）６０部，スチレン４０部，ノ・イドロキノ
ン０．０２部，オクテン酸コバルト０．５部，過酸化ベ
ンゾイル１部を混合攪拌し．均一な樹脂液のワニスＥを
得た。

〔ワニスＦの作成〕

ワニスＥＩＯ６０部にベンゾインイソプロピルエーテル
１部を加え，混合攪拌しワニスＦを得〔ワニスＧの作成
〕 シェル化学社製エポキシ樹＠ＥＰ−１００１（エポキシ
当量４７０）９４０部，メタクリル酸１　７　２部，ベ
ンジルメチルアミン４部，ノ〜イドロキノン０．１部を
四つロフラスコに仕込み１１５℃で反応させ，酸価が４
．８になった時反応をやめ．得られた反応生成物４０部
．不飽和ポリエステルＡ２０部，スチレン４０部，オク
テン酸コバルト０．５部，過酸化ベンゾイル１部を十分
攪拌し均一な樹脂液ワニスＧを得た。

〔ワニスＨの作成〕

−　ワニスｏｉｏｏｍにベンシイ／エチルエーテル１部
を混合攪拌し，ワニスＨを得た。

比較例１ チャックにとりつけられたコア内径９０■．コア積厚１
５■の固定子コイルを１２０℃の予熱炉で３０分子熱し
た後，炉から出して約３０回／分で回転させながら，こ
れに上方のワニス定量滴下ポンプから内径５鵡のノズル
を経由してワニスＡ。

２０？を約１．５分を要して滴下含浸を行なった。

滴下Ｈｒ後１２０℃の硬化炉に入れ，約１０分間約３０
回／分で回転させてゲル化させ，ついで回転をやめて．
さらに約２０分硬化させて表面および内部が硬化した固
定子コイルを取り出した。全ワニスの処理時間は予熱時
間を含めて６１．５分であり，硬化によるワニスの揮発
量は１７．６％であった。

比較例２ 比較例１と同様にワニスＣ，２０）を固定子コイルに約
１．５分で滴下した後，１２０℃で硬化させたところ約
３０分で表面，内部が硬化した。全ワニス処理時間は１
２０℃，３０分の予熱時間を含めて６１．５分であり，
硬化によるワニスの揮発量は２０．９１であった。

比較？１１３ 比較例１と同様にワニスＥ，２０ｆを固定子コイルに約
１５分間で滴下した後，１２０℃で硬化させたところ．
約４０分で表面，内部が硬化した。

全ワニスの処理時間は１２０℃，３０分の予熱時間を含
めて７１．５分であり．硬化によるワニスの揮発量は２
２．６１であった。

比較例４ コア内径５５ｆｉ，コア外径１００日，コアｌ１１４９
ｍ１の固定子コイルを１２０℃の予熱炉で３０分子熱し
た後，炉から出して，ワニス゛Ｇが約５００？入った容
器に１分間浸漬後，３分間糸滴を行なった。余滴終了後
１２０℃の硬化炉に入れて硬化させたところ，約９０分
で挽面，内部が硬化した。全ワニスの処理時間は予熱時
間を含めて約１２５分であり，硬化によるワニスの揮発
量は２　６、　０　１であった。

比較ｆｌ１５ 比較ｆｌ１４と同様にワニスＨを用いて９ニス浸漬後，
１２０℃で硬化させたところ，約１００分で表面，内部
が硬化した。全ワニスの処理時間は予熱蒔間を含めて約
１３５分であり．硬化によるワニスの揮発量は２　９．
　６　１であった。

実施例１ 比較例１と同じ固定子コイルを第１図に示すり−ンテー
ブルｌのコイル着脱部■のチャック２に取付け１通這予
熱部■で交流型［３により予熱を１．５分行ない、ワニ
ス滴下部■で固定子コイルを約３０回／分で回転させな
がら、ワニス滴下部■でワニスＢ２０？をワニス定量滴
下ポンプ４により約１．５分で滴下含浸した、 そのあと紫外線ランプ■■で固定子コイルを回転させな
がらコアの面から２０１Ｍの距離から紫外線を■■部で
合計１分間照射して、ワニス表面層を硬化させ９次に後
加熱部［有］で交流型５ｉ６により３．５分加熱したと
ころ表面、内部とも硬化した。

全ワニス処理時間は７．５分であり、また硬化によるワ
ニスの揮発量は３．６憾であった。

交流電源ｚ６による加熱は、電源３相、５０Ｈｚ。

出力９Ｖ、踵ａ２２Ａで行なった。

紫外線ランプ５は東芝電材（横裂Ｈ−２０００ｔ。

２荻の高圧水銀灯２本を使用した。

実施例２ ワニスＡをワニスＤに変えたほかは実施例１と同様に行
なった結果７．５分で表面及び内部が硬化した。硬化に
よるワニスの揮発量は３．５−であった。

実施例３ ワニスＡをワニスＦに変えたほかは実施例１と同様に行
なった結果７．５分で表面及び内部が硬化し、硬化によ
るワニスの揮発量は３．２１であった。

実施例４ 比較例４と同じ固定子コイルを＠２図に示すターンテー
ブルｌのコイル着脱部■のチャック２に、行ない、ワニ
ス浸漬部■で固定子コイルを１分間ワニス容器８中に＆
ａ後、３分間余膚を行なった。

そのあと紫外ａ照射部［Ｆ］■で固定子コイルを回転さ
せながらコアの面から２０ｚの短端から紫外線を［Ｆ］
■部で合計１分照射して、ワニス表面層を硬化させ９次
に後加熱部■で交流［源６により３分加熱したところ表
面、内部とも硬化した。全ワニス処理時間は９．５分で
あり、硬化によるワニスの揮発量は６．６係であった。

交流電源２．６による加熱はＫｄｌ　、　５０　Ｈｚ　
、出力４０　Ｖ、　’畦流９Ａで行なった。

紫外線ランプ５は東芝′１材■製Ｈ−２０００ｔ。

２ＩＷの高圧水銀灯２本を使用した。

実施例５ ワニスＧをワニスＨに変えたほかは実楕渕４と同様に行
なった結果９．５分で表面及び内部が硬化し、硬化によ
るワニスの揮発量は６．３１であった。

以上の比較列、実施列のワニス処理時間とワニス硬化時
の連発量をまとめると表１のようになる。

表１から明らかなように本発明の１気磯４コイルの製造
法においては、比較例で示した従来法と比較し、短時間
Ｃ処理でき、かつ、ワニスの揮発量が少なくなり、１憾
機器コイル製造工橢の短縮又公害上の見地からも非常に
有利になる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明になる絶縁処理された電気４
１器コイルの製造法の実施例を示す略図である。 符号の説明 ｌ・・・ターンテーブル　　２・・・チャック３・・・
交流電［４・・・ワニス定量滴下ポンプ５・・・紫外線
ランプ　　６・・・交流電源７・・・ラング室　　　　
８・・・ワニス瘤榮　１　目 第２　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、紫外線孕び熱硬化性を有する絶縁フェスを電気機器
   コイルに含浸処理後、紫外線照射と通電加熱とを併用し
   て硬化させることを特徴とする絶縁処理された電気機器
   コイルの製造法。