JPS58136794A - 酸性銅めつき液 - Google Patents

酸性銅めつき液

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JPS58136794A
JPS58136794A JP1886982A JP1886982A JPS58136794A JP S58136794 A JPS58136794 A JP S58136794A JP 1886982 A JP1886982 A JP 1886982A JP 1886982 A JP1886982 A JP 1886982A JP S58136794 A JPS58136794 A JP S58136794A
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JP
Japan
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plating
plating solution
sulfuric acid
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acid
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JP1886982A
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Iwao Kyono
京野 巖
Toshifumi Yoshii
吉井 敏文
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Eneos Corp
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Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は銅めっきに使用する酸性めっき液に関する。め
っきに要求される重要な特性として表面が平滑にめっき
されること・広い電流密度でめっきができることが挙げ
られる。
硫酸銅と硫酸を主成分とす・るめっき液においても、平
滑化作用、光沢化作用を有する種々の物質例えばスフレ
フイド類、ポリエーテIし類、チオ尿素類、チオ燐酸エ
ステル、チオカルバミン酸エステルなどが添加剤として
用いられてきた。
それらの光沢剤や平滑化剤は一定の効果を示しているが
工業上の様々の要求はよりすぐれた添加剤を常に求めて
いる。特に、電極と被めっき面との間隔が真なることに
よって電流密度に差が生ずることから来る問題即ち、場
所によるめっきの不均一性があり1作業能率、製品価値
の両面から。
より広い範囲にわたって平滑で均一なめっきを行ない得
る方法が望まれている。
本発明はこうした要求にこたえる新規な平Iケ化剤を含
有する酸性鋼めっき液を提供する。
即ち本発明は、一般式(1) %式% わされるジカルボン酸(但しn=0〜1000)および
/又は、一般式(II) H2N (CH2)30 (CH2CH20)nicH
2)3NH2により表わされるジアミン(但しn=0〜
1000)を。
硫酸鋼および硫酸ケ主成分とする酸性銅めっき液に含有
することを特徴とする銅めっき液である。
本発明は、さらに、これにポリビニルピロリドン(PV
P)および/又は、ビニルピロリドン(VP)と酢酸ビ
ニル(VA)の共重合物を添加した酸性銅めっき液を提
供する。
硫酸銅と硫酸を主成分とする銅めっき液は広く一般に使
用されている。最も基本的な液の組成としては硫酸銅(
5水和物)50〜8509/l、硫酸30〜250 ?
/lである。PHは通常1以下の強酸性で遊離の硫酸が
存在する。銅イオン源としては硫酸銅の他に部分的には
他の銅塩1例えば炭酸(3) 銅、ピロリン酸鋼、ホウフッ化銅等をも併用して使うこ
とができる。硫酸も部分的には他の酸1例えばリン酸、
フルオロ硼酸などを併用してもよい1またその他の成分
として塩化す) IJウム、塩化アンモニウム、塩化カ
リウム、塩酸などの塩化物を塩素量換算10〜100〜
/を添加してめっき液を作ってもよい。
本発明のめっき液はこの酸性めっき液に新規な平滑化剤
として、前記一般式(I)で表わされるジカルボン酸(
ポリエチレンオキシジアミン酸)及び/又は前記一般式
(ロ)で表わされるジアミン(ポリエチレンオキシジア
ミン)である。
ポリエチレングリコール鎖の重合度が、めっき効果に及
ぼす影響は重合度1000以下の範囲ではさほど極端な
変化はなく、どの重合度でも一応は効果が認められるが
1重合度3〜150(分子量300〜7000)程度が
扱いやすい。
このジカルボン酸又はンアばンの添加量はαoIVtで
効果が認められるが、それ以下では平滑化作用が不十分
でめっき表面が粗くなる。添加量(4) 0.5〜6 t/lの範囲は最も実用性のある好ましい
範囲で効果も明確である。
さらに増量す7tば801il/を程度までは増量の効
果が認められるが、それ以上ではほとんど効果に差はな
く、経済的に利点はない。
本発明のジカルボン酸とジアミンは平滑化作用にすぐれ
ており、めっき作業の能率向上や凹凸の大きな被めりき
体の処理、電流効率の向上などに効力を発揮する。但し
、これだけでは光沢のある銅めっきは得られないが、下
地用の銅めっき(例えばニッケルめっきの下地としての
銅めっき)あるいはプリント配線等の機能めっき用とし
ては。
本発明のジカルボン酸及び/又は、ジアミンの使用だけ
で満足できる製品が得られる。
一般に表面粗さは、下地用としては1μ以下2機能めっ
き用としては1,5μ以下であれば十分といわれており
1本発明の平滑化剤を使用すれば、広い電流密度範囲で
この基準をみたす緻密でめっきムラのない製品を得るこ
とができる。
めっき製品に良い光沢が要求される時には2本発明の平
滑化剤、ジカルボン酸とジアミンに加えて、ポリビニル
ピロリドン(PVP)又1dビニルピロリドン(VP)
と酢酸ビニル(VA)との共重合体を光沢剤として使用
する。
PVPは一般には化粧品1食品添加物1代用血清などの
用途に用いられているが、鋼めっきの添加剤として有効
であることはこれまで知られていなかった。
VPとVAとの共重合体は1例えばルビスコール(商品
名:三菱油化製)として販売されているが、用途は調髪
剤等の化粧品、増粘剤であり、これもまためっき関係へ
の応用は新規である。
vpとVAとノモノマー比は、VP/VA=70/30
〜20/80(重量比)ぐらいが適切である。
本発明の光沢剤は、広い電流密度範囲でくもりのない光
沢をだす特徴があり、0.01?//1.の添加で一応
の効果が認められる。それ以下の量でも効果は認められ
るが、光沢が劣り、実用性はない。
また1 0 f/を以上加えるとザラ、ピット、めっき
ムラが多くなることがあり、実用的には0.01〜0、
1 ?/lの範囲が好ましい。なお2本発明の光沢剤は
本発明の平滑化剤と併用した場合において有用性をもつ
ものであり、平滑化剤なしで単独に使用した場合には光
沢化作用を十分には示さず、ピント生成等の異常析出が
発生する可能性がある。
また同一量の添7Jl]では、pvp、ホモポリマーの
方がVPとVAとのコーポリマーよりも効果が大きい。
本発明の光沢剤には、前記PVP及びvPとVAの・コ
ーポリマーを使用することが望ましいが、他の公知の光
沢剤のうちある種のものはPvP及びVPとVAのコー
ポリマーの一部又は全部におきかえて使用することも可
能である。
特に有機チオ化合物類2例えば ベンゾインチオ尿素、ジエチルジチオカルバミノ酸、チ
オグリコール酸などは好適である。この場合、これらの
公知の光沢剤を0.0005〜2 f//l 、好まし
lj:0.001〜0.01 t/を使用する。これら
の光沢剤もまた多すき゛るとザラ、めっきムラ等の異常
析出をひきおこす。
本発明のめっきの他の条件は従来のめつき方法に準じて
行なわれる。めっき温度は通常20〜35′Gでよく、
高温になるほど光沢度は低下し。
また光沢剤の消費が大きい。低温では、液の亀導度が低
下し、ひどい場合にはヤケが発生する。
本発明の平滑化剤と光沢剤を使用した場合、光沢範囲が
広く9例えばポリエチレングリコールを用いた液と比較
した場合、従来は0.5〜& OA /dni ”の光
沢範囲が本発明では0〜12 d/dm2に大きく広が
っている。
電着向の平滑性も向上し1表面粗さは比較例の2.2μ
に比べて本発明ではα9〜1.3μである。
めっき時間は電流密度により異なるが1例えば電流密度
4.5 A//dm2では1分間で1μの厚さとなりめ
っき時間と電流密度を適切に調整することにより通常使
われる5〜30μ厚のめっきが効率よく大量に行ない得
る。
″また従来問題が多かった複雑な形状の被めっき体の処
理も容易となる。
(7) 〔実施例〕 基本液組成 硫酸鋼(5水和物)  100・2009/l    
   。
硫酸         50.2009/l     
  ’塩化ナトリウム    100  〜/lにて、
下記の平滑化剤、光沢剤を使用して、ハルセル試験を行
なった結果を第1表に示す。
ハルセル試験条件は総電流2A、めっき時間10分間、
i正温25”C2空気吹込み攪拌である。
光沢範囲は光沢を示す電流密度範囲で示し1表面粗さは
小板研究所製表面粗さ計sg−a型で電流密度2A7d
、、(の部分を測定した。
〔平滑化剤、光沢剤〕
本発明ジアミン    分子量a000本発明本発明ジ
アミン酸//  a00Gポリエチレングリコール  
  u  aoo。
PVP             /l  40,00
0vpとVAのコーポリマー       モノマー比
VP/VA(ルビスコール、 三菱油(tJiL・)□
   −70/80ベンゾインチオ尿素 (8) ジエチルジチオカルバミン酸 第1表

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)硫酸鋼および硫酸を主成分とする酸性鋼めっき液
    において、一般式 %式% わされるジカルボン酸及び/又は、一般式H2N−(C
    H2)3 0  (CH2CH20)n(CH2)3−
    NH2で表わされるジアミン(いずれもn=0〜LOO
    Q)を0.O1〜5oyit含有することを特徴とする
    酸性鋼めっき液。
  2. (2)硫酸銅及び硫酸を主成分とする銅めっき液におい
    て、(A)一般式 %式% (n−0〜1000)で表わされるジカルボン酸及び/
    又は一般式 %式% (n−0〜1000)で表わされるシアはン0.O1〜
    80 f/lと、(B)ポリビニルピロリドンまたはビ
    ニ?レビロリドン/酢酸エチル共重合物を0.001〜
    10f/Z含有することを特徴とする酸性鋼めっき液。
JP1886982A 1982-02-10 1982-02-10 酸性銅めつき液 Granted JPS58136794A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03150392A (ja) * 1989-09-05 1991-06-26 General Electric Co <Ge> 金属被覆ポリイミド複合物の調製方法
JP2004307991A (ja) * 2002-11-11 2004-11-04 Toppan Printing Co Ltd 銅めっき硬度維持剤及び銅めっき方法並びにそれを用いたグラビア版、レンズ金型
JP2009029776A (ja) * 2007-04-03 2009-02-12 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 金属メッキ組成物および方法
JP2014224304A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. プリント基板用銅メッキ液組成物およびこれを用いたビアホール充填方法
JP2018531300A (ja) * 2015-10-08 2018-10-25 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC アミン、ポリアクリルアミド、及びビスエポキシドの反応生成物を含有する銅電気めっき浴

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03150392A (ja) * 1989-09-05 1991-06-26 General Electric Co <Ge> 金属被覆ポリイミド複合物の調製方法
JP2004307991A (ja) * 2002-11-11 2004-11-04 Toppan Printing Co Ltd 銅めっき硬度維持剤及び銅めっき方法並びにそれを用いたグラビア版、レンズ金型
JP4534460B2 (ja) * 2002-11-11 2010-09-01 凸版印刷株式会社 銅めっき硬度維持剤及び銅めっき方法並びにそれを用いたグラビア版、レンズ金型
JP2009029776A (ja) * 2007-04-03 2009-02-12 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 金属メッキ組成物および方法
JP2014224304A (ja) * 2013-05-15 2014-12-04 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. プリント基板用銅メッキ液組成物およびこれを用いたビアホール充填方法
JP2018531300A (ja) * 2015-10-08 2018-10-25 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC アミン、ポリアクリルアミド、及びビスエポキシドの反応生成物を含有する銅電気めっき浴

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