JPS58135146A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS58135146A JPS58135146A JP1683882A JP1683882A JPS58135146A JP S58135146 A JPS58135146 A JP S58135146A JP 1683882 A JP1683882 A JP 1683882A JP 1683882 A JP1683882 A JP 1683882A JP S58135146 A JPS58135146 A JP S58135146A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- material gas
- preform
- concentration distribution
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/26—Parabolic or graded index [GRIN] core profile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明もWAD法(気相軸付法)による光!ファイバ
母材の製造方法Kr1llする。
母材の製造方法Kr1llする。
WAD法は、よく知られているように、5zct4やG
eCA4 &どのハロゲン化物の原料ガスを酸水素炎や
で加水分解して、屈折$11111用ドーノやントであ
るGeO2を含むガラス(8i0z)の微粉末を作シ、
このガラス微粉末を種棒の下端に付着させ、種棒を徐k
lc上、方Kll動させるこ走によシガラス焼結体の多
孔質プリフォームを軸方向に成長させて光フアイバ母材
を製造する吃のである・。
eCA4 &どのハロゲン化物の原料ガスを酸水素炎や
で加水分解して、屈折$11111用ドーノやントであ
るGeO2を含むガラス(8i0z)の微粉末を作シ、
このガラス微粉末を種棒の下端に付着させ、種棒を徐k
lc上、方Kll動させるこ走によシガラス焼結体の多
孔質プリフォームを軸方向に成長させて光フアイバ母材
を製造する吃のである・。
とζろでこのVAD法では屈折率分布の制御が難しく、
特に、屈折率分布を正確にコントロールする必要のある
°グレーデツト型光ファイバ用の母材を作ること社相当
困難である。というのは従来で祉、上記のようにハロゲ
ン化物I#aが反応して酸化物になルガラス微粉末とな
って付着して多孔質プリフォームを形成する際、屈折率
分布を形成するドー/ナントo@度変化を観側すること
ができないので、製作された母材から光ファイバを作っ
た後、この光ファイバにより屈折率分布の測定を行うほ
かないからである。
特に、屈折率分布を正確にコントロールする必要のある
°グレーデツト型光ファイバ用の母材を作ること社相当
困難である。というのは従来で祉、上記のようにハロゲ
ン化物I#aが反応して酸化物になルガラス微粉末とな
って付着して多孔質プリフォームを形成する際、屈折率
分布を形成するドー/ナントo@度変化を観側すること
ができないので、製作された母材から光ファイバを作っ
た後、この光ファイバにより屈折率分布の測定を行うほ
かないからである。
本発明は上記KIllみ、VAD法による多孔質プリフ
ォーム形成中にドーノダントの濃度を直接観測しながら
濃度分布を調整することを可能にする光フアイバ母材の
製造方法を提供することを目的とする。
ォーム形成中にドーノダントの濃度を直接観測しながら
濃度分布を調整することを可能にする光フアイバ母材の
製造方法を提供することを目的とする。
本発明によれば、ドール4ントであるたとえばGeO2
を組成している65(3eの放射性同位元素68(3e
のハロダン化物を含むWI原料ガス、65G・の〕・〕
ロrン化を含む原料ガスと別箇に用意し、この”Geの
ハロダン化物を含む原料ガスを用いて通常のVAD法に
よル酸水素火炎中で反応させて多孔質プリフォームを形
成する。そしてこの多孔質プリフォーム中に含着れる”
Geから放射される放射線をシンチレーシ璽ンスキャナ
などの放射線検出装置によシ検出して多孔質プリフォー
ム中に含まれる68G、の濃度分布を求める。この濃度
分布はCRT(陰極線管)などの表示装置に表示できる
ので、これを見ながら排気量やバーナ位置あるいはガス
流□ 量尋の条件を調整し、所望の濃度分布が祷られる
ような条件設定を行なう。こうして条件設定が終了した
後原料ガスを切シ換え、放射性同位元素@Jl(3,の
含まれていがい65Gcの原料ガスを用いて多孔質プリ
フォームを形成すれば、G・02が所望の濃度分布とな
った、つ壕り所望の屈折率分布を持つ、光フアイバ母材
を製造することができる。
を組成している65(3eの放射性同位元素68(3e
のハロダン化物を含むWI原料ガス、65G・の〕・〕
ロrン化を含む原料ガスと別箇に用意し、この”Geの
ハロダン化物を含む原料ガスを用いて通常のVAD法に
よル酸水素火炎中で反応させて多孔質プリフォームを形
成する。そしてこの多孔質プリフォーム中に含着れる”
Geから放射される放射線をシンチレーシ璽ンスキャナ
などの放射線検出装置によシ検出して多孔質プリフォー
ム中に含まれる68G、の濃度分布を求める。この濃度
分布はCRT(陰極線管)などの表示装置に表示できる
ので、これを見ながら排気量やバーナ位置あるいはガス
流□ 量尋の条件を調整し、所望の濃度分布が祷られる
ような条件設定を行なう。こうして条件設定が終了した
後原料ガスを切シ換え、放射性同位元素@Jl(3,の
含まれていがい65Gcの原料ガスを用いて多孔質プリ
フォームを形成すれば、G・02が所望の濃度分布とな
った、つ壕り所望の屈折率分布を持つ、光フアイバ母材
を製造することができる。
次に一実施例について図面を参照しながら説lJする。
図に示t!うlc、 5ICz、と65GeCt4と
がそれぞれ入れられたバブラ1.2のほかに、”GaC
l2が入れられた・々ブチ3を用意する。そしてこれら
のバブラ1.2.3を弁11〜13゜21〜23.31
〜33で制御する。まず81ct4と68(3,Ct、
とをバーナ4に送る。・クーチ4にはほかに02とH字
とが送られてきておシ、酸水素火炎中で5tct4と
6806Ct4とが高温加水分解反応を起し、それぞれ
8i02(ガラス)と68G・02とが生成される。こ
うして68Ge02を含んだガラス徽粉末が生成され、
これが種棒6の下端に付着され、との種棒6を回転しな
がら上方に徐々に引き上げていくと、ガラス焼結体の多
孔質プリ7オーム7が軸方向に生長する。
がそれぞれ入れられたバブラ1.2のほかに、”GaC
l2が入れられた・々ブチ3を用意する。そしてこれら
のバブラ1.2.3を弁11〜13゜21〜23.31
〜33で制御する。まず81ct4と68(3,Ct、
とをバーナ4に送る。・クーチ4にはほかに02とH字
とが送られてきておシ、酸水素火炎中で5tct4と
6806Ct4とが高温加水分解反応を起し、それぞれ
8i02(ガラス)と68G・02とが生成される。こ
うして68Ge02を含んだガラス徽粉末が生成され、
これが種棒6の下端に付着され、との種棒6を回転しな
がら上方に徐々に引き上げていくと、ガラス焼結体の多
孔質プリ7オーム7が軸方向に生長する。
なおこの多孔質プリ7オーム7の近傍に火炎の排気ガス
を吸引するための排気管5が設けられる。
を吸引するための排気管5が設けられる。
こうして形成される多孔質プリ7オーム7にはある濃度
分布で’8Geo2が含まれている。ところで68Ge
は半減期215日で軌道電子捕獲によシβ崩壊し、γ線
の放射は少々いので、この実施例では放射される特性X
1Iilによシ濃変分布を御1定することとする。その
ため、たとえば図に示すように、チューブ状のコリメー
タ81と、シンチレータ82と、光電子増倍管83と、
プリアンプ84とからなる放射線検出器を準備し、これ
を走査機構85によ〕x(横)方向及びY(縦)方向に
、走査制御装置86の制御の下に所定の走査順序にした
がって走査する。プリアンプ84から出力される検出信
号はメインアンプ87を経てメータ糾のアナログ表示器
88に送られるとともに、サンプリング回路89に送ら
れ、走査位置に応じた検出信号がサンプリングされると
ともKADl’換されてデジタル信号が得られる。この
デジタル信号it画像構成用の信号処m回路90に送ら
れ、位置信号とともに演算されるととKよつて濃度分布
を表わすii1体信号が得られ、このsi像信号はCR
T91に送られてそのiiirm士に#に度分布像耐表
示される。
分布で’8Geo2が含まれている。ところで68Ge
は半減期215日で軌道電子捕獲によシβ崩壊し、γ線
の放射は少々いので、この実施例では放射される特性X
1Iilによシ濃変分布を御1定することとする。その
ため、たとえば図に示すように、チューブ状のコリメー
タ81と、シンチレータ82と、光電子増倍管83と、
プリアンプ84とからなる放射線検出器を準備し、これ
を走査機構85によ〕x(横)方向及びY(縦)方向に
、走査制御装置86の制御の下に所定の走査順序にした
がって走査する。プリアンプ84から出力される検出信
号はメインアンプ87を経てメータ糾のアナログ表示器
88に送られるとともに、サンプリング回路89に送ら
れ、走査位置に応じた検出信号がサンプリングされると
ともKADl’換されてデジタル信号が得られる。この
デジタル信号it画像構成用の信号処m回路90に送ら
れ、位置信号とともに演算されるととKよつて濃度分布
を表わすii1体信号が得られ、このsi像信号はCR
T91に送られてそのiiirm士に#に度分布像耐表
示される。
したがうてCRT91のII&上に表示された―縦分布
會を見ながら、各ガスの流量1、バーナ4の位置、排気
管50位鯉、排気量尋のwIj!1を行なって所望の濃
度分布になるよう各条件を設定することが容よに行表え
る。こうしてすべてのp*を終了し、各条件のセットが
終ったならば、”Q@CL4 (D jFt 料n x
ヲ”G*C4(071科tjxKIIIり換゛えて、
45(3・Ct4の原料ガスを用いた通常のVAD法に
よる多孔質プリフォームチ0作製を行なう。
會を見ながら、各ガスの流量1、バーナ4の位置、排気
管50位鯉、排気量尋のwIj!1を行なって所望の濃
度分布になるよう各条件を設定することが容よに行表え
る。こうしてすべてのp*を終了し、各条件のセットが
終ったならば、”Q@CL4 (D jFt 料n x
ヲ”G*C4(071科tjxKIIIり換゛えて、
45(3・Ct4の原料ガスを用いた通常のVAD法に
よる多孔質プリフォームチ0作製を行なう。
以上述べたように、本発明によれはきわめて簡単な方法
で簡易迅速にドーノ4ント濃度分布の設定を行なうこと
ができる。すなわち、数10分間程度のIll整で所望
の屈折率分布を持つ多孔質プリフォームを得ることがで
きる。ちなみに従来方法によると母材を作製した螢光フ
ァイバ化し、この光ファイ・ぐを用いて屈折本分布のi
ll定を行なうためデータを得るために速くとも2日程
かかってしまう。なお、上記の実施例では65G、をド
ー・ぐントとして用いて母材作製するのに先立って68
Geを用いた母材作製を行ない各条件の設定を行なうよ
うにしたが、逆K 68Geを昔で使用して濃度分布の
再現性の確認に用いてもよいことは勿論である。
で簡易迅速にドーノ4ント濃度分布の設定を行なうこと
ができる。すなわち、数10分間程度のIll整で所望
の屈折率分布を持つ多孔質プリフォームを得ることがで
きる。ちなみに従来方法によると母材を作製した螢光フ
ァイバ化し、この光ファイ・ぐを用いて屈折本分布のi
ll定を行なうためデータを得るために速くとも2日程
かかってしまう。なお、上記の実施例では65G、をド
ー・ぐントとして用いて母材作製するのに先立って68
Geを用いた母材作製を行ない各条件の設定を行なうよ
うにしたが、逆K 68Geを昔で使用して濃度分布の
再現性の確認に用いてもよいことは勿論である。
図は本発明の一実施例のプロ、り図である。
1.2.3・・・バブラ 4・・・バーナ5・・・排
気管 6・・・種棒7・・・多孔質プリフォー
ム 81・・・コリメータ82・・・シンチレータ 8
3・・・光電子増倍管84・・・プリアンプ 85・
・・走査機構86・・・走査制御装置 87・・・メイ
ンアンプ88・・・アナログ表示器 89・・・サンプリング回路 90・・・信・号処理回路 91・・・CRT出願人
藤倉電線株式会社
気管 6・・・種棒7・・・多孔質プリフォー
ム 81・・・コリメータ82・・・シンチレータ 8
3・・・光電子増倍管84・・・プリアンプ 85・
・・走査機構86・・・走査制御装置 87・・・メイ
ンアンプ88・・・アナログ表示器 89・・・サンプリング回路 90・・・信・号処理回路 91・・・CRT出願人
藤倉電線株式会社
Claims (1)
- (1)ガラスの原料ガスと屈折率制御用ドーノナントの
原料ガスとを酸水素火炎中で反応させて前記ドー・ナン
ドの含まれたガラス微粉末を昼成し、このガラス微粉末
を種棒の下端に付着−させ、該種棒を徐々に上方に移動
させることによシガラス焼結体の多孔質プリフォームを
軸方向に成長させて゛膏ファイバ母材を製造する方法に
おいて、前記)”−: /ナンドの原料ガスのほかに前
記、ドーノクントの放射性同位元素が含まれる原料ガス
を用意して、この放射性同位・元素の含まれる原料ガス
を用いて多孔質プリフォームを成長させ、前記放射性同
位元素から放射される放射線を検出して前記多孔負プリ
フォーム中の放射性同位元素の濃度分布を求めることに
よシ、ドーΔント濃度分布を11IlII[lするよう
にしたことを特徴とする光ファイ/量母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1683882A JPS58135146A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1683882A JPS58135146A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58135146A true JPS58135146A (ja) | 1983-08-11 |
JPS649250B2 JPS649250B2 (ja) | 1989-02-16 |
Family
ID=11927338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1683882A Granted JPS58135146A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58135146A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61205629A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 原料供給装置 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10093460B2 (en) | 2015-08-14 | 2018-10-09 | Yeti Coolers, Llc | Container with magnetic cap |
USD787893S1 (en) | 2015-11-20 | 2017-05-30 | Yeti Coolers, Llc | Jug |
JP7038128B2 (ja) | 2016-10-17 | 2022-03-17 | イエティ クーラーズ、エルエルシー | 容器および容器を形成する方法 |
US10959553B2 (en) | 2016-10-17 | 2021-03-30 | Yeti Coolers, Llc | Container and method of forming a container |
USD896572S1 (en) | 2018-08-20 | 2020-09-22 | Yeti Coolers, Llc | Container lid |
US11647862B2 (en) * | 2020-08-19 | 2023-05-16 | Ningbo Careline Electric Appliance Co., Ltd. | Steam-type air fryer |
-
1982
- 1982-02-03 JP JP1683882A patent/JPS58135146A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61205629A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 原料供給装置 |
JPH0251852B2 (ja) * | 1985-03-08 | 1990-11-08 | Sumitomo Electric Industries |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS649250B2 (ja) | 1989-02-16 |
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